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  • 一种原位生长量子点光学膜的制备方法

    专利

    专利摘要: 本发明公开了一种原位生长量子点光学膜的制备方法,利用溶胶-凝胶和旋涂相结合工艺技术,在ITO玻璃衬底上,原位生长出具有高分散性量子点有机膜层作为光致发光层,随后再通过有机物旋涂、封装、隔离工艺,最终制备出原位生长高分散性量子点光学膜。本发明制备方法新颖,制作成本低,制备工艺简单。此外,由于采用原位生长技术,因而光致发光层中的量子点粒径精确可控、分散性良好,该量子点光学膜制备工艺可充分利用有机物对量子点生长的阻隔和调控作用,实现对量子点粒径有效控制和量子点在光致发光层中高分散性分布,进而有效提高其量子点光学膜的光致发光性能,因此,在新型光电显示器件中将具有非常重要的应用价值。
    发明者: 杨尊先, 郭太良, 胡海龙, 徐胜, 严文焕
    公开日: 2014年10月8日
胡娟
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