专利摘要： 本发明涉及一种载玻片表面刻蚀规则微井阵列的方法，用于制备埋入式聚合物微点阵列芯片，包括以下步骤：载玻片表面刻蚀保护层的制备，石蜡溶解剂和玻璃刻蚀液的配置，规则阵列的打印，玻璃的刻蚀，去除刻蚀保护层。本发明的有益效果是：石蜡溶解剂能很好地在石蜡涂层上进行局部溶解使玻璃表面暴露从而形成微点阵列，使得玻璃刻蚀液能高效便利地对玻璃进行刻蚀，且刻蚀速度更快；加入石蜡保护层进行玻璃刻蚀，表面更容易被保护，不易破坏；操作工艺简易，刻蚀效果明显，反应时间短，所用原料皆为市售品，且价格低廉，容易获得。