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光刻机哪个国家发明?

170****1852
全球半导体专利
提问时间:2022-06-12 22:04:02
提示:以下回答均以本问题为中心,仅供参考;如需更多帮助,请咨询早鸽顾问。 去咨询
回答 | 共8个
吕海亮
吕海亮
从业8年
外观专利申请发明专利申请
所在地区:成都市
咨询解答:510
咨询TA

目前世界上最大的光刻机制造商是荷兰ASML;1984年ASML从飞利浦独立出来,专门致力于研发光刻技术,得益于近乎完美的德国机械工艺以及世界顶级光学厂商德国蔡司镜头,再加上美国提供的光源,ASML迅速发展,到如今占到了全球光刻机总销售收入的78%;

2022-06-12 22:29:10
肖博文
肖博文
从业1年
国际商标注册
所在地区:上海市
咨询解答:209
咨询TA

光刻机是由荷兰发明的。

2022-06-12 23:15:09
邓双
邓双
从业2年
商标注册商标异议申请国际商标注册
所在地区:福州市
咨询解答:55
咨询TA

光刻机是荷兰发明的属于高科技

2022-06-12 23:28:08
朱玲玲
朱玲玲
从业11年
商标注册
所在地区:三亚市
咨询解答:714
咨询TA

光刻机好像是荷兰发明的

2022-06-13 00:18:07
岳灏
岳灏
从业2年
商标注册商标变更
所在地区:昆山市
咨询解答:332
咨询TA

工业能力是一个国家国防实力和经济实力的基础,而光刻机是现代工业体系的关键部分,不过目前荷兰光刻机是最有名的,出口到全球各国,口碑很好。那光刻机是谁发明的?主要用途有哪些呢?

  1959年,世界上第一架晶体管计算机诞生,提出光刻工艺,仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片,1960年代,仙童提出CMOSIC制造工艺,第一台IC计算机IBM360,并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线,美国GCA公司开发出光学图形发生器和分布重复精缩机。

  光刻机是集成电路制造中最精密复杂、难度最高、价格最昂贵的设备,用于在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。集成电路在制作过程中经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序,其中以光刻工序最为关键,因为它是整个集成电路产业制造工艺先进程度的重要指标。

  目前,全球最顶尖的光刻机生产商是荷兰ASML、Nikon、Canon和上海微电子(SMEE),其中ASML实力最强,因此全球多数国家都愿意去这家公司进口光刻机。

2022-06-12 22:24:07
杨鹏
杨鹏
从业3年
公司注册食品经营许可证
所在地区:昆山市
咨询解答:799
咨询TA

中国,位于亚洲东部,太平洋西岸。

2022-06-12 23:32:06
范美林
范美林
从业5年
软著申请版权登记
所在地区:郴州市
咨询解答:266
咨询TA

光刻机不是外星人造的,是荷兰人造的,非常难造,需要好多国家提供零部件。

2022-06-13 00:28:05
陈欢
陈欢
从业7年
商标转让
所在地区:长沙市
咨询解答:221
咨询TA

1978年世界上第一台量产型g线分步投影光刻机在美国问世

2022-06-13 00:47:04
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擅长:发明专利申请,国际专利申请
执业4年
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