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李杨智卿
从业9年
公司注册个体工商户高新认证
所在地区:昆山市
咨询解答:756
通俗的讲,光刻胶通过光照曝光留下微纳结构图形,刻蚀,沉积将此图形进一步画到硅基板上。
光刻胶以薄膜形式均匀覆盖于基材表面。当紫外光或电子束的照射时,光刻胶材料本身的特性会发生改变,经过显影液显影后,曝光的负性光刻胶或未曝光的正性光刻胶将会留在衬底表面,这样就将设计的微纳结构转移到了光刻胶上,而后续的刻蚀、沉积等工艺,就可进一步将此图案转移到光刻胶下面的衬底上,最后再使用除胶剂将光刻胶除去就可以了。
2022-08-27 18:48:21
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