刻蚀机和蚀刻机有区别吗？

有区别的，刻蚀机是真直接刻蚀，蚀刻机是先蚀再刻。

@刻蚀机和刻蚀机的区别应该是光刻机和刻蚀机的区别吧？

光刻机是在硅片上面画出电路尔克十其是将画出的电路刻在硅片上面是同一工艺的不同过程都是制作芯片的重要一步但是刻蚀机技术性低一些，我们国家已经掌握了世界领先水平的刻蚀机技术但是光刻机技术性就比较高了当前，国内高端的光刻机还没有。

没有区别是一种东西。学术圈一般是刻蚀，工业界，特别是IC一般说蚀刻

刻蚀是利用化学或者物理的方法将晶圆表面附着的不必要的材质进行去除的过程。刻蚀工艺顺序位于镀膜和光刻之后，即在晶圆上先将用于刻画电路的材料进行薄膜沉积，其上沉积光刻胶。

光刻机和刻蚀机的用途，很多人不是太清楚。简单的来说，光刻机又叫掩模对准曝光机，就是用光将掩膜上的电路结构复制到硅片上，刻蚀机很多人喜欢叫蚀刻机，这样和光刻机就一字之差，更好的理解。刻蚀机就是把复制到硅片上的电路结构进行微雕，雕刻出沟槽和接触点，好让线路能够放进去，这就是刻蚀机最牛的地方

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