回答
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共2个
胡佳伟
从业8年
专利申请国际专利申请
所在地区:苏州市
咨询解答:331
湿法清洗去除光刻胶的方法中,将双氧水注入到硫酸溶液中,双氧水与硫酸发生放热反应形成高温的清洗液;将该清洗液喷 洒到半导体衬底的光刻胶表面,所述清洗液与光刻胶反应将光刻胶去除;
接着,用去离子水冲洗去除光刻胶后的半导体衬底的表面。上述方法可在具有批处理能力的设备中进行:将双氧水连续不断地与硫酸溶液混合,并将混合后的清洗液喷洒到依次进入所述设备的半导体衬底的光刻胶表面,将光刻胶去除
2022-09-18 06:47:59
杨玉香
从业9年
专利申请发明专利申请专利驳回复审
所在地区:南昌市
咨询解答:15
一般常取米饭、粥等热淀粉加少许食盐用手揉搓,再放到温肥皂粉中搓洗。
如果是陈渍,可用百分之四的大苏打液刷洗。
如果浅色织物上有残渍,一方面可用上述方法重复几次,另一方面可以用较浓的肥皂和酒精液反复擦洗,最后清水漂清。
去黑墨水渍,可先用甘油润湿,然后用四氯化碳和松节油的混合液揩洗,再用含氨的皂液进行刷洗,最后用水漂清。
如果还有残渍,可用上述方法重复几次 去红墨水渍,可先放在冷水中较长时间的浸泡,然后在皂液中搓洗,最后用水漂清。
也可先用甘油将其织物润湿,约10分钟后用含氨水的浓皂液刷洗,最后用水漂清。
如有陈渍可用上述方法重复几次。
去蓝墨水渍,先把衣服浸湿,然后涂上高锰酸钾稀液,而且边涂边用清水冲洗,当污渍色泽从蓝变成褐色时,可涂上2%的草酸液冲洗,最后用清水漂清
2022-09-18 07:33:58
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