光刻胶正胶150度烘烤还可以去除么？
182****8109
光刻胶怎么去除
提问时间:2022-10-01 04:04:24
提示：以下回答均以本问题为中心，仅供参考；如需更多帮助，请咨询早鸽顾问。
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回答
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共1个
赵俊峰
从业3年
商标转让
所在地区:重庆市
咨询解答:484
可以。
一般正胶比负胶好清洗。可以用异丙醇或者丙酮超声清洗。实在不行用浓NaOH。
在半导体装置的制造工艺中，将残留在晶片上的光刻胶，在H2O/O2气体气氛中进行干洗，在CF4等离子体条件下进行干燥，在O2等离子体的条件下进行干燥剂后， 通过执行湿式清洁工艺去除上述残留光刻胶，可以彻底去除半导体装置制造过程中使用的光刻胶，增进半导体装置的可靠性，防止设备污染。
2022-10-01 05:07:25
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