专利摘要： 本实用新型涉及透明导电膜玻璃单面减薄承载装置，包括密封并全面覆盖平板玻璃4导电膜面并将平板玻璃4吸附住的真空吸盘1；在真空吸盘1内部设有密闭的抽气孔道1c以及与所述抽气孔道相通的真空缓冲腔体1f，通过抽气孔道1c与真空缓冲腔体1f形成的密闭腔室，在与外接真空泵源断开情况下维持真空吸盘1与平板玻璃4之间的真空度在整个减薄蚀刻流程中始终吸附住平板玻璃4。利用本实用新型装置承载的平板玻璃在其减薄过程中，其一面没有任何遮挡便于减薄处理而被密闭的另一面可保证透明导电膜免受化学溶液侵蚀，使透明导电膜玻璃的单面减薄过程大大简化，也降低了成本。

专利摘要： 本发明涉及一种玻璃减薄设备和玻璃减薄方法。玻璃减薄设备包括箱体和设置于箱体中的喷淋装置，箱体中设有依次排列的第一淋洗槽、第一刻蚀槽、第二刻蚀槽、第三刻蚀槽、第二淋洗槽、第三淋洗槽、第四淋洗槽和干燥槽，喷淋装置包括分别位于第一淋洗槽、第一刻蚀槽、第二刻蚀槽、第三刻蚀槽、第二淋洗槽、第三淋洗槽和第四淋洗槽的槽底上方的第一喷淋管、第二喷淋管、第三喷淋管、第四喷淋管、第五喷淋管、第六喷淋管和第七喷淋管。使用上述玻璃减薄设备进行在不同的槽中进行喷淋洗涤和刻蚀的减薄方法能够避免浸泡式减薄法中的反应产物粘附于玻璃上的问题，并且依次经过第一刻蚀槽、第二刻蚀槽和第三刻蚀槽的三次刻蚀，避免浸泡式刻蚀不均匀的问题。

专利摘要：

专利摘要： 本发明提供了一种TFT玻璃基板减薄液，包括氢氟酸10%～12%，氟化氢铵4%～6%，硝酸5%～8%，硫酸5%～8%，水余量。将TFT玻璃基板减薄液的各组分混合在一起，既得成品。本发明提供的TFT玻璃基板减薄液可以稳定蚀刻速率，针对硼硅玻璃材质蚀刻效果更佳，能有效控制化学蚀刻过程中玻璃产生的凹点、划伤缺陷的放大，软化玻璃粉解决蚀刻过程中边缘凸起问题，且安全、稳定，有效满足TFT玻璃基板减薄品质要求，满足了客户的需求。