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  • 化学性预加应力的高刮划容忍度玻璃元件及其制造方法

    专利

    专利摘要: 本发明提供一种化学性预加应力的高刮划容忍度玻璃元件及其制造方法,其在化学性预加应力之后除了具有针对压应力和离子交换深度的高数值之外还具有突出的刮划容忍度。该玻璃元件的玻璃含有SiO2、Al2O3、B2O3、ZrO2和Na2O等作为组成部分,其中,氟化物的含量小于0.2%、优选小于0.05%,其中,在玻璃元件的表面上,能至少部分地用钾离子来交换钠离子,从而能在表面上产生用来给玻璃元件化学性预加应力的压应力区。
    发明者: 奥利弗·霍赫赖因, 英格·布格尔, 伊姆加德·威斯腾伯格, 约亨·阿尔克马佩尔, 格德·鲁达什, 卡塔琳娜·阿尔特, 戈登·基斯尔, 京特·保勒斯
    公开日: 2014年10月15日
胡娟
金牌知产顾问
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