专利摘要： 该发明公开了一种湿法-干法刻蚀结合提升熔石英元件阈值的表面处理方法，属于光学材料与光学元件【技术领域】，具体涉及一种提升熔石英元件激光损伤阈值的表面处理方法。该发明首先采用去离子水清洗传统的研磨抛光工艺加工的熔石英元件表面，然后采用无水乙醇进行超声清洗；再将熔石英元件采用氢氟酸溶液进行刻蚀处理，然后用去离子水清洗和无水乙醇脱水；最后采用含能惰性离子束进行表面抛光，去除酸刻蚀反应产物SiF62-并改善表面粗糙度。本发明可去除传统加工的熔石英元件表面残留抛光粉并钝化缺陷，同时又能获得良好的表面粗糙度。因此，本发明能快速有效提升熔石英元件的抗激光损伤能力。