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  • 高透中温豆青釉料及该豆青釉制作方法

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    专利摘要： 本发明公开了一种高透中温豆青釉料及该豆青釉的制作方法，其中，高透中温豆青釉料的组份和各组份质量份如下钾长石30份～50份；方解石3份～17份；钠长石0份～10份；硼熔块8份～20份；石英10份～25份；高岭土3份～10份；发色剂为氧化铜和氧化铬的混合物；并且其中氧化铜0.68份；氧化铬0.11份；矿化剂为氟化钠，并且其质量份为发色剂质量份的5%。通过该釉料制作的釉品能够呈现豆青色的浅色色调，并且能够节能降耗，降低了生产成本。
    发明者： 刘景华, 童新田
    公开日： 2014年7月16日
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胡娟
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