专利名称：足用按摩机的制作方法对被施疗者的脚部进行按摩的足用按摩机已为公众所知。作为这种足用按摩机，提出了具有如下结构的按摩机，即，其具有供被施疗者的腿肚和足前部(比脚踝靠下)插入的左右一对凹部，在该凹部内配置有气囊等按摩机构，通过使按摩机构动作，能够对被施疗者的腿肚和足前部施加按摩。另外，除按摩被施疗者的腿肚和足前部之外，还提出了能够按摩被施疗者的大腿的足用按摩机(例如，参照专利文献1)。专利文献1中的足用按摩机具有供腿肚及足前部插入的主体单元、在该主体单元的上端被轴支承成能够在平行于前后方向的面内转动的副单元，当使副单元向前方转动时，能够对膝关节的周围施加按摩，当使副单元向后方转动时，能够对大腿施加按摩。(专利文献)专利文献1 中国实用新型第201342077号公告通过使副单元相对于主体单元仅前后转动，则无法使副单元对位到大腿的期望位置，从而在施加高效果的按摩方面存在困难。另外，即使副单元对位到大腿上，由于副单元能够转动的范围也仅限于以轴支承部位为中心的圆弧范围，所以无法自由地在从大腿的接近膝盖的部分到接近胯下的部分的广阔范围内进行对位并施加按摩。为了能够在大腿的广阔范围内施加按摩，虽然只要使副单元大型化即可，但是这样不但会使其使用便利性恶化，还会导致可收容性恶化、成本增加等问题，从而在商品化方面存在困难。
本发明的目的在于提供一种副单元能够相对于主体单元上下移动和/或前后倾动，从而能够在广阔的范围内施加按摩的足用按摩机。为了解决上述问题，本发明的足用按摩机具备主体单元，其具有主体壳体，该主体壳体形成有能够供被施疗者的腿肚及足前部插入的左右一对凹部；以及副单元，其具有由主体壳体支承的副壳体和在该副壳体上形成的左右一对凹部；该足用按摩机还具有滑动机构，该滑动机构使副壳体以相对于主体壳体能够沿上下方向滑动的方式与主体壳体连接。优选滑动机构支承副壳体，使得所述副壳体能够在平行于前后方向的面内转动。进一步优选滑动机构具备倾动机构，该倾动机构支承副壳体，使得所述副壳体相对于主体壳体能够在平行于前后的面内倾动。发明效果根据本发明的足用按摩机，由于滑动机构使副单元以相对于主体单元能够沿上下方向滑动的方式与主体单元连接，所以能够根据被施疗者的脚的长度进行副单元的对位。因此，即使对于脚的长度不同的被施疗者，也能够使副单元抵接大腿而进行按摩。另外，除了基于上述滑动的高度调节之外，副单元相对于滑动机构可以转动，从而可使副单元移动到大腿的期望的患部位置。因此，能够使副单元适配到被施疗者的大腿的期望的患部，从而尽可能地施加高效的按摩。进一步而言，通过滑动机构所具备的倾动机构，能够使副单元相对于主体单元前后倾动，由此能够将副单元的施疗范围扩大到大腿的近腰处，从而能够使副单元适配到大腿的期望的患部，从而能够尽可能施加高效的按摩。图1是从斜前方观察到的本发明的第一实施例的足用按摩机的立体图。图2是该足用按摩机的主视图。图3是该足用按摩机的侧视图。图4是从斜后方观察到的本发明的第二实施例的足用按摩机的立体图。图5是沿图4的A-A线的向视剖面图。图6是从斜前方观察到的副单元相对于主体单元向上方滑动移动后的第二实施例的足用按摩机的立体图。图7是从斜后方观察到的图6的足用按摩机的立体图。图8是从斜前方观察到的副单元向上方滑动移动并进而向后方转动后的足用按摩机的立体图。图9(a)、(b)分别为表示骨架小的被施疗者、骨架大的施疗者通过足用按摩机接受按摩的状态的说明图。图10 (a)、(b)分别为表示骨架小的被施疗者、骨架大的被施疗者使主体单元倾躺而接受按摩的状态的说明图。图11是使副单元接近主体单元的状态下的滑动机构的放大图。图12是图11的立体图。图13是滑动机构的分解立体图。图14是使副单元相对于主体单元滑动的状态下的滑动机构的放大图。图15(a)至(C)是使副单元的滑动方向后倾之后的足用按摩机的说明图。图16是从斜前方观察到的本发明的第三实施例的足用按摩机的立体图，其示出了使副单元向上方滑动后的状态。图17是从斜前方观察到的使副单元从图16的状态后倾并向后方转动后的足用按摩机的立体图。图18是表示第三实施例的足用按摩机的通常状态的侧视图。图19是使副单元向上方滑动后的足用按摩机的侧视图。图20是使副单元向上方滑动并后倾后的足用按摩机的侧视图。图21是使图20的副单元向后方转动后的足用按摩机的侧视图。图22是主体单元从图21的状态后倾后的足用按摩机的侧视图。图23是表示具备支承副单元的倾动机构的滑动机构的分解立体图。图M是表示在滑动机构的上框架上安装有副单元的状态的分解立体图。图25是表示滑动机构的倾动机构的放大图。图沈是主体单元的立体图，其示出在凹部的底面配设有加热单元的实施例。图27是加热单元的放大剖面图。图观是加热器安装构件的立体图。图四是主体单元的立体图，其示出在凹部的底面配设有加热单元的不同的实施例。图30是加热单元的放大剖面图。图31是不同的加热单元的放大剖视图。图32是又一不同的加热单元的放大剖视图。图33是加热单元的立体图。图34是加热单元的左侧加热器及安装构件(加热板)的仰视图。符号说明10足用按摩机11 基体20主体单元21主体壳体22凹部(主体单元)40副单元41副壳体42凹部(副单元)60滑动机构61 臂68滑动框架
在滑动框架68上开设有多个定位用孔68a、68a，该定位用孔68a能够在滑动框架 68嵌入滑动套筒63时与球体64嵌合。在由弹簧65对球体64施力而使球体64嵌入定位用孔68a的状态下，滑动框架68 相对于滑动套筒63被定位，但是当被施疗者如后述那样向上方拉引副单元40或向下方下压副单元40从而滑动框架68要移动时，球体64克服弹簧65的作用力而向从定位用孔68a 脱离的方向后退，从而滑动框架68能够移动。当滑动框架68移动而球体64与相邻的定位用孔68a对置时，在弹簧65的作用力的作用下，球体64嵌入所述相邻的定位用孔68a。由此，滑动框架68能够相对于滑动套筒63滑动且定位。如图11及图14所示，在滑动框架68上覆盖有框架罩69，并形成有臂61。在臂61 (滑动框架68)的前端安装有副单元40，副单元40与臂61的上下滑动一体地进行上下移动。在本发明的第二实施例中，副单元40的副壳体41具有被轴支承在滑动框架68前端的枢轴47，能够相对于臂61使副单元40转动。优选臂61和副单元40在滑动框架68和枢轴47之间配置有棘轮机构等，从而使副单元40能够相对于臂61转动且定位。如上所述，臂61以能够滑动且能够定位的方式与主体单元20连接，副单元40与臂61连接成能够一体地上下移动，因此，通过被施疗者向上方拉引副单元40，副单元40向上方离开主体单元20并相对于主体单元20被定位，通过向下方下压副单元40，副单元40 接近主体单元20而相对于主体单元20被定位。因此，如使用图9及图10所说明的那样，能够与被施疗者的脚的长度匹配地调节副单元40的高度，能够对被施疗者的期望的大腿的患部施加适宜的按摩。另外，通过使副单元40能够相对于臂61转动，能够扩大副单元40的施疗范围。例如，越使副单元40向后方转动，越能够对大腿的靠近腰(臀部)的部位施加按摩。在上述内容中，虽然可使臂61与主体单元20的凹部22的后表面M大致平行(图 3的线α )而对副单元40进行高度调节，但也可以如图1 所示，使臂61的滑动方向比主体单元20的凹部22的后表面M更后倾(图15 (a)的β )。由此，如图15(a)至图15(c)所示那样，当脚的长度不同的被施疗者根据脚的长度将副单元40向上方拉引时，能够使副单元40向被施疗者的臀部侧移动，结果能够在适宜的位置施加按摩，从而能够提高对大腿的按摩效果。若副单元40的滑动方向与凹部22的后表面M大致平行，则当上拉副单元40时， 如图15(c)的虚线γ所示，副单元40稍稍过于靠向前方而从大腿脱离。为了不使副单元 40从大腿脱离，需要使副单元40向后方转动。然而，若使滑动方向如图15(a)的β那样后倾，则不会存在这个问题。如上所述，根据本发明的足用按摩机10，通过使副单元40相对于主体单元20上下可动，能够根据被施疗者的脚的长度来调节副单元40的高度，从而具有能够提高按摩效果这一优点。图16至图25表示第三实施例的足用按摩机10。在第三实施例中，不但能够在上下方向上调节连接主体单元20和副单元40的滑动机构60的高度，还能够使其沿前后方向倾动。如图16及图17所示，副单元40通过滑动机构60与主体单元20连接。滑动机构 60将副单元40支承成在上下方向上能够调节高度且能够转动。另外，滑动机构60具备下端由形成于主体壳体21的后表面的凹部21a轴支承(参照图25的符号77)而能够从凹部 21a朝向后方进出的倾动机构，滑动机构60能够相对于主体单元20沿前后方向倾动。另外，在后面将使用图23至图25说明具备倾动机构的滑动机构60的具体结构例。图18至图21表示第三实施例的足用按摩机10的副单元40的上下方向的高度调节和前后方向的倾动动作。如图18所示，通常状态(初期状态)下的足用按摩机10的副单元40接近于主体单元20。当从该状态向上方拉引副单元40时，滑动机构60伸长，如图16及图19所示，副单元40相对于主体单元20向上方滑动，从而能够调节副单元40的高度。由此，能够与被施疗者的脚的长度匹配地调节副单元40的位置，从而能够在被施疗者的期望的高度位置施加适宜的按摩。另外，通过从图19的状态向后方拉动副单元40，滑动机构60如图20所示那样相对于主体单元20向后方倾动。由此，能够沿着被施疗者的大腿调节副单元40的位置，从而能够对被施疗者的期望的大腿的患部施加适宜的按摩。需要说明的是，根据需要，通过如图17、图20及图21所示那样使副单元40相对于滑动机构60转动，能够使副单元40的凹部42、42适合(fit)于被施疗者的大腿L，从而能够提高按摩效果。另外，如图22所示，通过使主体单元20相对于基体11向后方倾躺，以对副单元40 进行高度调节及使其倾动，从而被施疗者能够在躺着的状态下通过主体单元20及副单元 40对期望的患部接受适宜的按摩。图23及图M表示具备倾动机构的滑动机构60的分解立体图。如图所示，滑动机构60包括在前端将副单元40安装成能够转动的安装框架70、安装在该安装框架70上的上框架71、以及能够滑动地嵌入该上框架71的下框架75。如图M所示，副单元40具有插入副单元40的内部的左右一对的安装框架70、70， 在该安装框架70、70上把持有上框架71。安装框架70、70是剖面为大致矩形的框架，在对置的面的大致中央分别沿长度方向开设有狭缝70a、70a。另外，副单元40经省略了图示的转动机构在安装框架70上安装成能够转动且能够定位，并且根据需要，副单元40如图17及图20所示那样进行转动。如图23所示，上框架71为通过横杆73连接朝向后方开口的二字形的左右两根杆体72、72的大致H形的框架，杆体72、72嵌入所述安装框架70、70。如图23中放大所示的那样，在杆体72、72的二字形凹部轴支承辊74、74，辊74、74 在辊轴74a、74a的作用下能够转动。下框架75为能够倾动地被支承在主体单元20上的大致H形的框架，左右两根杆体76、76通过横杆78连接。如图25所示，在杆体76、76的下端附近由主体单元20轴支承(参考符号77)。下框架75的杆体76、76能够滑动地嵌入安装在安装框架70上的上框架71的二字形的杆体72、72。当将下框架75安装到上框架71上时，下框架75的杆体76以前表面及两侧面与上框架71的杆体72抵接、后表面与安装框架70抵接的方式嵌入。另外，当将上框架71嵌入下框架75时，下框架75的横杆78能够通过安装框架70 的狭缝70a。在将下框架75嵌入到上框架71的状态下，所述上框架71的辊74压抵于下框架 75的杆体76、76的前表面。如图23的放大图等所示，在杆体76、76的前表面形成有多个凹坑76a、76a，辊74 的周面的一部分能够嵌入该凹坑76a内。通过将辊74嵌入凹坑76a，在无负载的状态下，上框架71相对于下框架75定位， 通过将副单元40拉引成远离主体单元20或者将其下压成靠近主体单元20，辊74旋转而从凹坑76a脱出并在杆体76上转动，然后嵌入在上方或下方相邻的其他凹坑76a而被定位。 由此，上框架71相对于下框架75在上下方向上滑动，从而能够相对于主体单元20沿上下方向调节副单元40的高度并对其进行定位。副单元40的前后方向的倾动如上述那样是以轴支承部分77为中心进行的。此时， 为了能够将副单元40定位在期望的位置而具备定位机构。如图25所示，在下框架75的比轴支承部分77更靠上方处，从朝向前方突出设置的凸缘79向内突出设置有定位轴79a，该定位轴79a嵌入在主体壳体21的凹部21a的内侧面形成的下侧具有台阶部的定位槽21b 内。当被施疗者使副单元40向前方或后方倾动时，定位轴79a越过定位槽21b的台阶部而到达相邻的台阶部，当停止倾动时，因为定位轴79a被定位在定位槽21b的台阶部间， 所以能够使副单元40在倾动方向定位。通过具备具有上述结构的倾动机构的滑动机构60，如使用图18至图21所说明的那样，由于能够相对主体单元20调节副单元40的高度及使其倾动，所以能够对被施疗者的大腿的广阔范围施加适当的按摩。图沈至图34表示在足用按摩机10上配设有加热单元80的实施例。特别是冬季等，在足用按摩机10被冷却的状态下，当被施疗者将脚插入足用按摩机10时，不仅会使其感到不快，还会使肌肉紧张，从而无法得到充分的按摩效果。另外，当患部变冷时，血流停滞，从而促进血液循环的效果不充分。因此，优选在足用按摩机10上配设加热单元80，但是需要使加热单元80抑制消耗电力而以更高的效率使足用按摩机10升温。以往，虽然在主体单元20的主体壳体21的底面23的里侧配设有加热单元80，但是由于主体壳体21设在与被施疗者的脚掌之间，所以效率不够。因此，在本发明中，采用了在主体壳体21的底面23的表侧即与被施疗者的脚掌相接的一侧配设加热单元80的方式。图沈是主体单元20的立体图。如图所示，在主体壳体21的底面23上以在前后方向往复的方式配置加热单元80的加热线81。如图27及图观所示，加热线81通过加热器安装构件82安装在主体壳体21上， 加热器安装构件82具有供加热线81嵌入的凹坑83和能够安装在主体壳体21上的爪84、 84。加热器安装构件82可由ABS树脂、聚丙烯等制作，通过由这些材料制作，能够减小热量损失。加热器安装构件82通过大幅度地覆盖凹部22的底面23，能够具备均热效果，从而能够防止局部的升温、超温(過温)。另外，由于加热器安装构件82从上方覆盖加热线81，所以能够使加热线81免于受到外力，从而具有能够防止断线等的效果。通过在主体壳体21的凹部22的底面23的表侧配设加热线81，能够以良好的效率迅速地使主体单元20升温。另外，在图27中，符号28为覆盖主体壳体20的布制的罩。另外，能够根据需要设置热敏电阻等温度传感器，或者使用兼有温度传感器和加热线81的电热线。图四至图34为在主体壳体21的底面23的表侧配置有内置了加热线81的加热单元80的不同实施例。如图所示，加热单元80在加热板92收容有加热线81，加热板92在中央处形成有大致矩形的开口 91。在加热板92的开口 91例如配置有能够进出的脚掌用的按摩机构(未图示)。加热板92与主体壳体21的底面23的凹坑的深度匹配，如图30至图32所示，改变从加热板92的里面周缘及开口周缘突出设置的框93的高度。加热板92能够由ABS树脂或聚丙烯等制成，加热板92优选形成为适合主体单元 20的凹部22的形状且不产生间隙地密接的形状。由此，能够防止热量逃散，从而提高效率。如图30至图32及图34所示，在加热板92的里面突出设有突条94，在突条94、94 间或者突条94和框93之间形成有供加热线81嵌入的凹坑95。通过在加热板92的长度方向配设两层加热线81，或者在前方(脚尖侧)配设一层加热线81而在后方(脚后跟侧)不配设加热线81，从而对容易变凉的脚尖侧进行加温。 另外，虽然在长度方向上在内侧(脚心侧)和外侧均设置两层，但是可以在内侧设置两层而在外侧设置三层，减少与底面23接触的面积小的脚心侧的加热线81的条数，增加外侧的加热线81的条数，从而有效地对脚掌加温。如图四及图33所示，在主体单元20的左右的凹部22、22分别配设有加热单元80、 80，如图33所示，加热线81配设成通过左右的加热单元80、80，加热线81的两端与电源单元(未图示)连接，对其通电而升温。当然，通过被施疗者的操作或程序、定时动作等来控制对加热线81的通电。如上所述，通过利用内置有加热线81的加热板92构成加热单元80，能够使加热线 81接近被施疗者的脚掌，从而获得提高热传递效率、节省电力的效果。另外，通过使加热板 92整体升温，能够具备均热效果而防止局部升温，由于能够比现有技术减小温度坡度(温度勾配)，所以能够实现更高精度的温度控制。另外，能够抑制向主体壳体21的热量损失，能够以良好的效率迅速升温，从而能够尽可能地提高按摩效果。另外，如图31所示，在主体壳体21的底面23的凹凸大的情况下，由于在加热板92 的框93之间形成有空气层，所以通过空气层能够防止从加热线81发出的热量向主体壳体 21传递。而且，如图32所示，通过在加热板92的框93间插入绝热材料96，能够防止向主体壳体21的热传递，从而能够抑制热量损失。
工业实用性本发明对于通过使副单元能够相对于主体单元上下滑动和/或前后倾动从而容易对被施疗者的患部进行对位以提高按摩效果的足用按摩机是有用的。


本发明提供一种通过使副单元能够相对于主体单元上下移动而能够在广阔的范围内施加按摩的足用按摩机。该按摩机具备主体单元(20)，其具有主体壳体(21)，该主体壳体(21)形成有能够供被施疗者的腿肚及足前部插入的左右一对凹部(22、22)；副单元(40)，其具有由主体壳体(21)支承的副壳体(41)和在该副壳体(41)上形成的左右一对凹部(42、42)；该足用按摩机还具有滑动机构(60)，该滑动机构(60)使副壳体(41)以相对于主体壳体(21)能够沿上下方向滑动的方式与主体壳体(21)连接。