专利摘要：

专利摘要： 本发明涉及液晶制程领域，公开了一种光刻胶回收装置，涂布系统和涂布方法。光刻胶回收装置，包括第一容纳单元，用于容纳从光刻胶出胶口流出的光刻胶；空心体，其位于第一容纳单元的下方且位于上方的部分具有可单向出气的排气口；第一连接管，其位于上方的一端与第一容纳单元位于下方的部分相连通，其位于下方的一端与空心体位于上方的部分相连通；第一容纳单元内的光刻胶经第一连接管滴落至空心体内；其中，空心体用于通过可单向出气的排气口将光刻胶中的气体排出。涂布系统包括上述光刻胶回收装置。涂布方法是涂布系统的涂布方法。本发明使得在基板上形成的膜厚度均匀，同时，不仅节约了光刻胶，而且保证了回收的光刻胶的洁净度。

专利摘要： 本实用新型公开了一种光刻胶涂布头及涂布装置，以解决现有技术中需要在玻璃基板整面涂布光刻胶，造成光刻胶浪费的问题。本实用新型中提供的光刻胶涂布头具有依次间隔排列的若干光刻胶出口。利用本实用新型中具有间隔排列的若干光刻胶出口进行光刻胶涂布，能够避免在玻璃基板的整面涂布光刻胶，减少光刻胶用量，降低成本。