专利名称：一种光刻胶涂布头及涂布装置的制作方法现有技术中进行光刻胶涂布时，主要是利用狭缝式涂布头在基板整面涂布一层光刻胶，之后通过曝光和显影工艺去除多余的光刻胶，最终得到所需的图形，如图1A所示为现有的狭缝式涂布头结构示意图，该光刻胶涂布头的光刻胶出口为一条狭缝。图1B为现有整面涂布光刻胶后的基板截面示意图，如图所示，利用现有的狭缝式涂布头涂布光刻胶时，只能将基板的整面都涂布上光刻胶；为得到所需的图形，需要进行曝光显影去除多余的光刻胶，如图1C所示为曝光显影后得到所需电路图形后的基板截面示意图。目前通用的狭缝式涂布头需要在玻璃基板的整面都涂布光刻胶，然而为得到所需电路图形，在基板上最终保留的光刻胶不足1/3，其余的光刻胶全部都需要用显影液去除，不仅浪费了大量昂贵的光刻胶，而且还消耗了大量的显影液。
图1A为现有狭缝式涂布头结构示意图；图1B为现有整面涂布光刻胶示意图；图1C为光刻胶曝光显影后的示意图；图2A为本实用新型提供的具有若干个间隔排列的光刻胶出口的光刻胶涂布头结构示意图；图2B为本实用新型提供的光刻胶涂布头的光刻胶出口形状示意图；图2C为本实用新型提供的光刻胶涂布头的纵向剖面示意图；图3为本实用新型提供的清洗部件与光刻胶涂布头连接结构示意图；图4为本实用新型提供的能够精确定位的光刻胶涂布装置俯视图；图5为本实用新型在特定位置涂布光刻胶的基板截面示意图。本实用新型提供的光刻胶涂布头具有间隔排列的若干光刻胶出口，在涂布光刻胶时，可以只在基板上需要涂布光刻胶的位置上涂布光刻胶。以下结合附图对本实用新型的做详细的说明。本实用新型实施例一提供的光刻胶涂布头，具有若干个间隔排列的光刻胶出口 3，该光刻胶涂布头的结构示意图如图2A所示，包括涂布头底部I和端部2，本实用新型实施例中端部2上具有依次间隔排列的若干光刻胶出口 3。优选的，本实用新型实施例中为了能更好的涂布光刻胶并节省光刻胶的使用量，优选的，相邻光刻胶出口 3之间的间隔可设置为等间隔的，并且间隔的大小根据实际情况进行预先设定，例如在进行彩色滤光片基板上光刻胶涂布时，可依据基板上的像素宽度定制，优选85 170微米。 优选的，本实用新型实施例中光刻胶出口 3的轮廓形状可设计为长条形，该长条形光刻胶出口 3的开口长度优选不小于待涂布区域沿光刻胶涂布方向上的宽度，更为优选的，可选择开口长度比待涂布区域沿光刻胶涂布方向上的宽度大20微米左右，当然可依据基板上的像素宽度定制，优选85 170微米，光刻胶出口 3的开口宽度优选8(Γ100微米。更为优选的，本实用新型中为了减少光刻胶堵塞光刻胶出口，本实施例中光刻胶出口的长条形轮廓具有两相对平行的直线长边和两相对平行的直线短边，且直线长边与直线短边的连接处为光滑的圆弧状，例如可将长条形的各边设置为两水平方向上相对平行的直线长边和两竖直方向上相对平行的直线短边，且直线长边与直线短边的连接处为光滑的圆弧状，减少因为长条形棱角造成的光刻胶堵塞。进一步优选的，本实用新型中光刻胶出口的长条形轮廓具有两相对平行的直线长边和两呈中心对称的圆弧短边，且直线长边与圆弧短边的连接处为光滑的圆弧状，例如可将长条形的各边设置为两水平方向上相对平行的直线长边和两竖直方向上呈中心对称的圆弧短边，且直线长边与圆弧短边的连接处为光滑的圆弧状，使长条形最终呈上下两长边平行，左右两短边为圆弧状的跑道形状，如图2Β所示。优选的，本实用新型重光刻胶涂布头具有一空腔8和与空腔8连通的光刻胶入口9和清洗剂入口 10，其中，空腔8与光刻胶出口 3也连通。需要说明的是，本实用新型图2Α、图2Β、图2C中光刻胶出口 3沿一条直线依次间隔排列，但是并不引以为限。本实用新型实施例中将光刻胶涂布头的光刻胶出口设置为依次间隔排列的若干个出口，使得在涂布光刻胶时仅在需要涂布的位置进行涂布，减少光刻胶的使用量，降低成本。[0030]本实用新型实施例二提供了一种光刻胶涂布装置，该涂布装置包括实施例一所涉及的光刻胶涂布头，光刻胶涂布头的具体结构与实施例一相同，在此不再赘述。本实用新型实施例二提供的光刻胶涂布装置中的光刻胶涂布头具有间隔排列的若干光刻胶出口，由于光刻胶出口变小，使其很容易堵塞，因此本实用新型实施例三还提供了一种对上述具有若干光刻胶出口的孔式涂布头进行高压冲洗的清洗部件，该清洗部件与光刻胶涂布头5相连接，对光刻胶出口 3进行冲洗。优选的，本实用新型实施例三中包含清洗部件的光刻胶涂布装置， 可采用如图3所示的结构，该清洗部件包括一清洗剂出口， 清洗剂出口与光刻胶涂布头的清洗剂入口连通，并且包括用于吸入清洗剂的清洗管R以及对清洗管R吸入的清洗剂加压的高压泵P，其中，高压泵P具有清洗剂出口，并且该清洗剂出口与光刻胶涂布头5连通。具体的，进行高压清洗时，清洗剂经过清洗剂过滤器F后通过清洗管R后，通过高压泵P对光刻胶涂布头5进行高压冲洗。优选的，图3中在高压泵P与光刻胶涂布头5之间可连接一精准压力计M，使得在流经清洗管R中的清洗剂流量恒定的情况下，若光刻胶涂布头5上的光刻胶出口 3发生堵塞，则精准压力计M的压力显示会发生变化，因此，可通过精准压力计M显示的压力确定光刻胶涂布头5上光刻胶出口 3的堵塞情况。进一步的，本实用新型提供的清洗部件还可包括开关K，将该开关K设置于光刻胶涂布头5与压力计M之间，可随时控制该清洗部件的打开与闭合。本实用新型实施例中设计的上述清洗部件，可对具有若干光刻胶出口的涂布头进行高压冲洗，防止涂布头的光刻胶出口堵塞，并且通过检测冲洗时的压力，确定涂布头光刻胶出口的堵塞情况，若涂布头的光刻胶出口发生堵塞则会反应在压力计上，及时对涂布头做另外的处理，避免不必要的损失。本实用新型实施例四是在实施例三的基础上，进一步优化的光刻胶涂布装置，如图4所示为本实用新型实施例四提供的光刻胶涂布装置俯视图。本实用新型实施例四中提供的光刻胶涂布装置，包括光刻胶涂布头5、定位镜头6和驱动部件7，具体的定位镜头6设置在放置待涂布基板的涂布机台的上方，用于确定涂布机台上待涂布基板的位置。驱动部件7，用于调整涂布机台上基板的位置，使基板到达预设位置，以保证基板上待涂布区域与光刻胶涂布头5的若干光刻胶出口位置分别对应。具体的，定位镜头6将捕捉到的待涂布基板的当前位置发送给控制器，控制器根据预设位置与定位镜头6确定的基板当前位置，计算基板的位置调整信息，并控制驱动部件7调整涂布机台上基板的位置。具体的，当定位镜头6确定了基板当前位置后，控制器根据预设位置，计算基板的位置调整信息，控制驱动部件7调整基板的位置。其中，预设位置是后续为了能使光刻胶涂布头5能将光刻胶涂布在特定位置时对应的基板位置。进一步的，本实用新型实施例四中定位镜头可优选CO) (Charge CoupledDeviceCCD,电荷耦合器件)镜头，本实用新型实施例中在涂布机台上设置如图4所示的两个CCD镜头，精准确定基板的当前位置。本实用新型实施例二中在涂布机台和基板上分别预设标记，CCD镜头通过捕捉标记信息，获取到基板上的标记相对涂布机台上的标记的偏移信息，最终反馈给控制器，由控制器根据该偏移信息计算出位置补正信息，即基板的位置调整信息，发送位置调整指令至驱动部件7，由驱动部件7调整基板的位置至预设的位置。优选的，由于基板的位置调动比较小，因此，本实用新型实施例中驱动部件优选丝杠，将其设置在涂布机台上方，基板下方，通过其滚动来微调基板的位置。采用本实用新型实施例若实现图1C中所需的电路图形时，进行光刻胶涂布时，无需整面涂布，仅需要在需要涂布的特定位置进行涂布，如图5所示，为利用本实用新型实施例所提供的光刻胶涂布装置进行光刻胶涂布后的基板截面示意图，由图5和图1B可见，本实用新型实施例中仅需要在待涂布光刻胶的位置进行光刻胶涂布，无需整面涂布光刻胶，减少了光刻胶的使用量，降低了成本。本实用新型实施例中，通过对基板精确定位到预设位置，将基板上待涂布区域与涂布头上的若干光刻胶出口位置相对应，将光刻胶涂布在特定位置，无需在基板的整面上都涂布光刻胶，使光刻胶的使用量大大减少，一方面在进行曝光显影时，由于光刻胶的用量减少，因此需要使用的显影液也大大减少了，减少了废液的排放。显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则 本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。