光刻胶回收装置，涂布系统及涂布方法[0002]光刻胶的涂布是液晶制程必不可少的一种工艺。[0003]传统涂布机的涂布过程如图1所示，涂布机的喷嘴10 (即光刻胶出胶口)的吐胶量是随时间变化的。涂布机的喷嘴10在接触玻璃基板20的边缘时开始吐胶，此时的时刻用表示；喷嘴的吐胶量从零逐渐变大，直至达到稳定值，此时的时刻用表示；这样，在玻璃基板20上形成膜的起始部31。之后，喷嘴10的吐胶量保持在稳定值。涂布机的喷嘴10在快接触玻璃基板20的后边缘时停止吐胶，此时的时刻用tff±表示；喷嘴10的吐胶量从稳定值逐渐变小，直至达到零，此时的时刻用表示；这样，在玻璃基板上形成膜的结束部32。可以看出在喷嘴开始吐胶到达到稳定值和喷嘴停止吐胶到达零的时间段，喷嘴的吐胶量是变化的，因此在玻璃基板上形成的膜厚也是不均匀的，膜的不均匀会导致光刻后的图形不一致。
[0004]本发明提供了一种光刻胶回收装置，涂布系统和涂布方法，该涂布系统使用该涂布方法进行涂布时，使得在基板上形成的膜厚度均匀，同时，不仅节约了光刻胶，而且保证了回收的光刻胶的洁净度。[0005]为达到上述目的，本发明提供以下技术方案:[0006]一种光刻胶回收装置,包括:[0007]第一容纳单元，用于容纳从光刻胶出胶口流出的光刻胶；
[0008]空心体，其位于第一容纳单元的下方且位于上方的部分具有可单向出气的排气Π ；
[0009]第一连接管，其位于上方的一端与所述第一容纳单元位于下方的部分相连通，其位于下方的一端与所述空心体位于上方的部分相连通；所述第一容纳单元内的光刻胶经所述第一连接管滴落至所述空心体内；
[0010]其中，所述空心体用于在所述第一容纳单元内的光刻胶经所述第一连接管滴落至所述空心体内的过程中，通过可单向出气的排气口将光刻胶中的气体排出。
[0011]优选的，所述空心体是椭圆形空心体；所述椭圆形空心体的长轴沿竖直方向。
[0012]优选的，还包括第二容纳单元，其位于所述空心体的下方；
[0013]第二连接管，其位于上方的一端与所述空心体位于下方的部分相连通，其位于下方的一端与所述第二容纳单元相连通；经所述第一连接管滴落的光刻胶汇集在所述空心体内，所述空心体内的光刻胶在受到足够压力的情况下，经所述第二连接管向下流动至所述第二容纳单元内。
[0014] 优选的，还包括充气吸气单元，其与所述第一容纳单元相连通；[0015]在光刻胶从第一容纳单元向下流动时，所述充气吸气单元向第一容纳单元充气，所充的气体推动光刻胶向下流动；
[0016]在光刻胶全部流动到第一连接管时，所述充气吸气单元从所述第一容纳单元吸气，回收气体。
[0017]优选的，所述第一容纳单元还包括密封门，所述密封门可将第一开口密封。
[0018]优选的，所述第一容纳单元设置有第一开口，所述第一开口可与光刻胶出胶口密封连接；
[0019]所述光刻胶回收装置还包括抽气单元，其与所述第一容纳单元相连通；在光刻胶出胶口和所述第一开口密封连接后，所述抽气单元可抽取所述第一容纳单元中的气体。
[0020]本发明还提供了以下技术方案:
[0021]一种涂布系统，包括:
[0022]光刻胶出胶口 ；[0023]用于放置待涂布基板的长方形机台，其包括相对设置的第一工作侧和第二工作侦牝所述光刻胶出胶口可在所述第一工作侧和第二工作侧之间往复运动以对待涂布基板进行涂布；
[0024]上述任一所述的光刻胶回收装置，其设置在所述第一工作侧的一端且与所述第一工作侧相邻。
[0025]优选的，所述光刻胶回收装置是两个，另一个设置在所述第二工作侧的一端且与所述第二工作侧相邻；设置有光刻胶回收装置的第一工作侧的一端与设置有光刻胶回收装置的第二工作侧的一端位于所述机台的对角线上。
[0026]优选的，还包括:
[0027]流量传感器，其安装在所述光刻胶出胶口 ；
[0028]控制单元，其与所述流量传感器通信连接，根据流量传感器的吐胶量，控制光刻胶出胶口。
[0029]本发明还提供了以下技术方案:
[0030]一种涂布方法，包括如下步骤:
[0031]将基板置于长方形机台上；
[0032]将光刻胶出胶口和光刻胶回收装置的第一容纳单元的第一开口密封连接；
[0033]开始出胶，光刻胶经光刻胶出胶口和第一开口流入光刻胶回收装置；
[0034]在光刻胶出胶口的出胶达到稳定的数值后，光刻胶出胶口离开光刻胶回收装置的第一容纳单元的第一开口，开始对待涂布基板进行涂胶；
[0035]在涂胶结束后，将光刻胶出胶口和光刻胶回收装置的第一容纳单元的第一开口密封连接，光刻胶出胶口停止出胶，光刻胶出胶口吐胶量逐渐减小，直至达到零。
[0036]优选的,在光刻胶出胶口和光刻胶回收装置的第一容纳单兀的第一开口密封连接后，还包括以下步骤:
[0037]抽气单元抽取第一容纳单元中的气体直至第一容纳单元中的气体浓度达到要求。
[0038]优选的，在光刻胶出胶口离开光刻胶回收装置的第一容纳单元的第一开口后，还包括如下步骤:
[0039]密封门将第一开口密封；[0040]充气吸气单元向第一容纳单元充气，所充的气体推动光刻胶向下流动；
[0041]在光刻胶全部流动到第一连接管时，所述充气吸气单元从所述第一容纳单元吸气，回收气体。
[0042]优选的，光刻胶出胶口停止出胶后，还包括以下步骤:
[0043]充气吸气单元向第一容纳单元充气，所充的气体推动光刻胶向下流动；
[0044]在光刻胶全部流动到第一连接管时，所述充气吸气单元从所述第一容纳单元吸气，回收气体。
[0045]本发明提供的光刻胶回收装置，涂布系统和涂布方法，该涂布系统使用该涂布方法进行涂布时，当光刻胶出胶口的吐胶量稳定时，对基板进行涂布，使得在基板上形成的膜厚度均匀。当光刻胶出胶口的吐胶量不稳定时，光刻胶回收装置的第一容纳单元容纳从光刻胶出胶口吐出的光刻胶，再经所述第一连接管滴落至所述空心体中，在此过程中通过可单向出气的排气口将光刻胶中的气体排出。这样将光刻胶出胶口的吐胶量不稳定时所吐出的胶，进行排气后进行回收，不仅节约了光刻胶，而且保证了回收的光刻胶的洁净度。



[0046]图1为传统涂布机的涂布过程示意图；
[0047]图2为本发明的涂布系统的机台和光刻胶回收装置的示意图；
[0048]图3为本发明的涂布系统的光刻胶出胶口和光刻胶回收装置的示意图；
[0049]图4为本发明的涂布系统在光刻胶出胶口吐胶量从零逐渐变化到稳定值过程的示意图；
[0050]图5为本发明的涂布系统的涂布过程示意图。
[0051]主要元件附图标记说明:
[0052]现有技术中:
[0053]10喷嘴，20玻璃基板，31膜的起始部，32膜的结束部；
[0054]本发明中:
[0055]100光刻胶出胶口，200机台，210第一工作侧，220第二工作侧，
[0056]300光刻胶回收装置，
[0057] 310第一容纳单元，311抽气单元，312惰性气体的充气吸气单元，
[0058]320排气单元，321椭圆形空心体，322可单向出气的排气口，
[0059]330第二容纳单元，
[0060]341第一连接管，342第二连接管，
[0061]400玻璃基板。

[0062]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0063]本发明的一个实施例的涂布系统，如图2和图3所示，包括:[0064]光刻胶出胶口 100;
[0065]用于放置待涂布玻璃基板的长方形机台200，其包括相对设置的第一工作侧210和第二工作侧220，光刻胶出胶口可在第一工作侧210和第二工作侧220之间往复运动以对待涂布基板进行涂布；
[0066]两个光刻胶回收装置300，一个设置在第一工作侧210的一端且与第一工作侧210相邻，另一个设置在第二工作侧220的一端且与第二工作侧220相邻；设置有光刻胶回收装置的第一工作侧的一端与设置有光刻胶回收装置的第二工作侧的一端位于机台200的对角线上。
[0067]流量传感器，其安装在光刻胶出胶口 ；
[0068]控制单元，其与流量传感器通信连接，根据流量传感器的吐胶量，控制光刻胶出胶□。[0069]其中，如图3所示，光刻胶回收装置300包括第一容纳单元310，抽气单元311，惰性气体的充气吸气单元312，排气单元320，第一连接管341，第二容纳单元330和第二连接管 342。
[0070]第一容纳单元310包括位于其上表面的第一开口和密封门，密封门可将第一开口密封。第一开口可与光刻胶出胶口 100密封连接；第一容纳单元310用于容纳经光刻胶出胶口和第一开口流入的光刻胶。
[0071]抽气单元311与第一容纳单元310相连通。在光刻胶出胶口 100和第一开口密封连接后，抽气单元311可抽取第一容纳单元310中的气体。
[0072]惰性气体的充气吸气单元312与第一容纳单元310相连通。在光刻胶从第一容纳单元310向下流动时，惰性气体的充气吸气单元312向第一容纳单元310充气，所充的惰性气体推动光刻胶向下流动；在光刻胶全部流动到第一连接管时，惰性气体的充气吸气单元312从第一容纳单元310吸气，回收惰性气体。
[0073]排气单元320是位于第一容纳单元的下方的椭圆形空心体321，椭圆形空心体321的长轴沿竖直方向，其位于上方的部分具有可单向出气的排气口 322。
[0074]第一连接管341的位于上方的一端与第一容纳单元310位于下方的部分相连通，位于下方的一端与椭圆形空心体321位于上方的部分相连通。第一容纳单元内310的光刻胶经第一连接管341滴落至椭圆形空心体321内，为了实现光刻胶经第一连接管滴落至椭圆形空心体内，需要使得第一连接管的直径比较小。其中，第一容纳单元310内的光刻胶经第一连接管341滴落至椭圆形空心体321内，在滴状光刻胶进入椭圆形空心体内321时，由于椭圆形空心体对滴状光刻胶的吸附力大，少量的滴状光刻胶会在椭圆形空心体内汇集而不向下流动，为了实现少量的滴状光刻胶会在椭圆形空心体内汇集而不向下流动，需要使得第二连接管的直径比较小。
[0075]在滴状光刻胶进入椭圆形空心体内的汇集的光刻胶中时，滴状光刻胶逐渐下沉，会受到椭圆形空心体内的光刻胶对其的压力，这个压力使得滴状光刻胶中的气体受到挤压，进而破裂上升，再从可单向出气的排气口排出，从而起到了将光刻胶中的气体排出的作用。
[0076]第二容纳单元330位于排气单元320的下方。
[0077]第二连接管342的位于上方的一端与椭圆形空心体321位于下方的部分相连通，位于下方的一端与第二容纳单元330相连通；在椭圆形空心体内的光刻胶受到足够大的压力的情况下，即这个压力足够克服椭圆形空心体对其的吸附力，椭圆形空心体内的光刻胶经第二连接管向下流动至第二容纳单元内；其中，圆形空心体内的光刻胶受到的压力可以来自椭圆形空心体内的光刻胶逐渐增多产生的压力，还可以来自惰性气体的充气吸气单元所充入的惰性气体产生的压力。第二容纳单元内的光刻胶可经回收管回收再次使用。
[0078]使用涂布系统对玻璃基板进行涂布的涂布方法包括如下步骤:
[0079]步骤SOOl:将玻璃基板置于长方形机台上；
[0080]步骤S002:将光刻胶出胶口和光刻胶回收装置的第一容纳单元的第一开口密封连接；
[0081]步骤S003:如图4所示，光刻胶出胶口开始出胶，此时的时刻用t0表示，光刻胶经光刻胶出胶口和第一开口流入光刻胶回收装置；
[0082]步骤S004:如图4所示，在光刻胶出胶口的出胶达到稳定的数值后，此时的时刻用tl表不,光刻胶出胶口离开光刻胶回收装置的第一容纳单兀的第一开口，开始对待涂布玻璃基板400进行涂胶；
[0083]其中，安装在光刻胶出胶口流量传感器获得在光刻胶出胶口的吐胶量；控制单元根据流量传感器的出胶量，判断光刻胶出胶口的出胶是否达到稳定的数值；在光刻胶出胶口的出胶达到稳定的数值后，控制单元控制光刻胶出胶口离开光刻胶回收装置的第一容纳单元的第一开口，开始对待涂布玻璃基板400进行涂胶；
[0084]步骤S005:在涂胶结束后，将光刻胶出胶口和光刻胶回收装置的第一容纳单元的第一开口密封连接，光刻胶出胶口停止吐胶，此时的时刻用t2表示；光刻胶出胶口吐胶量逐渐减小，直至达到零，此时的时刻用t3表示，如图5所示。
[0085]这样，当光刻胶出胶口的吐胶量稳定时，对基板进行涂布，使得在基板上形成的膜厚度均匀。当光刻胶出胶口的吐胶量不稳定时，光刻胶回收装置的第一容纳单元容纳从光刻胶出胶口吐出的光刻胶，再经第一连接管滴落至排气单元中，在此过程中排气单元将光亥IJ胶中的气体排出。这样将光刻胶出胶口的吐胶量不稳定时所吐出的胶，进行排气后进行回收，不仅节约了光刻胶，而且保证了回收的光刻胶的洁净度。
[0086]进一步地，在步骤S002之后，还包括以下步骤:
[0087]抽气单元抽取第一容纳单元中的气体直至第一容纳单元中的气体浓度达到要求。
[0088]这样，可以将第一容纳单元中的气体，主要是空气抽出，减少第一容纳单元中的空气，减少即将进入第一容纳单元的光刻胶进入空气的量，减少对光刻胶的污染。
[0089]进一步地，在步骤S004之后，还包括如下步骤:
[0090]密封门将第一开口密封；
[0091] 充气吸气单元向第一容纳单元充气，所充的惰性气体推动光刻胶向下流动；
[0092]在光刻胶全部流动到第一连接管时，充气吸气单元从第一容纳单元吸气，回收气体。
[0093]这样，密封门将第一开口密封，一方面可以减少空气进入第一容纳单元的量，另一方面，在充气吸气单元向第一容纳单元充气时，所充的气体不会进入到空气中；在充气吸气单元从第一容纳单元吸气时，吸入的气体仍然是浓度较高的惰性气体。将惰性气体吸走，可以提高惰性气体的使用效率。[0094]进一步地，在步骤S005之后，还包括如下步骤:
[0095]充气吸气单元向第一容纳单元充气，所充的气体推动光刻胶向下流动；
[0096]在光刻胶全部流动到第一连接管时，充气吸气单元从第一容纳单元吸气，回收气体。
[0097]作为一种优选的方式，涂布系统可以还包括光刻胶出胶口的清洗单元和风干单元，在光刻胶出胶口开始吐胶之前和/或吐胶之后，对光刻胶出胶口进行清洗和风干。
[0098]作为一种可选的方式，涂布系统可以只包括一个光刻胶回收装置，设置在第一工作侧的一端且与第一工作侧相邻。
[0099]显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也 意图包含这些改动和变型在内。