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一种窄黑边高效多晶硅片的制备方法
专利
专利摘要: 本发明涉及一种窄黑边高效多晶硅片的制备方法,制备方法为1)在普通的石英坩埚侧壁先刷涂一层致密的高纯石英砂涂层;在坩埚表面喷涂适合厚度的氮化硅涂层;2)在坩埚底部铺设碎单晶、多晶碎片或细碎原生硅料作为诱导生长“籽晶”;3)加热使硅料部分熔化,通过石英棒测试的方法确保籽晶层上方硅料完全熔融,但籽晶层仅部分熔化;4)控制所述坩埚内的温度在坩埚内形成由下到上的垂直温度梯度,使“籽晶”诱导生长,制得窄黑边高效多晶硅锭;5)通过钢线+磨料研磨的方式,将硅锭切割成薄片,该制备方法可制得一种侧边杂质扩散宽度窄、制造成本低且转换效率高的多晶硅片,且操作简单,生产成本低,适于大规模生产。
胡娟
金牌知产顾问
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