专利名称：足浴盆的制作方法现有技术中的足浴盆只是通过脚底喷水的方式对脚部进行按摩，而无法对脚面和 跟腱部位进行按摩，不能最大限度的达到足浴按摩，放松保健的效果。
图1为本实用新型的整体结构示意图。为了使本领域技术人员能更进一步了解本实用新型的特征及技术内容，请参阅以 下有关本实用新型的详细说明与附图。请参阅图1所示，本实用新型提供了一种足浴盆，包括具有喷水动力装置的足浴 盆本体1，其中，所述足浴盆本体于内部位于脚面上方的位置上设有用以在喷水动力装置作 用下向脚面喷水的喷头2，所述喷头设于所述足浴盆本体内部对应左右两脚间的位置上，且 于对应左右两脚脚面的侧面位置上设有喷水孔3，所述足浴盆本体于内部对应左右两脚跟 腱的位置上设有用以在喷水动力装置作用下喷水的喷水口 4。但以上所述仅为本实用新型的较佳可行实施例，并非用以局限本实用新型的专利 范围，故凡运用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变化，均同理包含在本实用新型的范围内。
足浴盆制作方法
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