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按摩浴足盆制作方法

  • 专利名称
    按摩浴足盆制作方法
  • 发明者
    黎明
  • 公开日
    2003年10月22日
  • 申请日期
    2002年8月8日
  • 优先权日
    2002年8月8日
  • 申请人
    黎明
  • 文档编号
    A61H39/04GK2580884SQ0227704
  • 关键字
  • 权利要求
    1.一种按摩浴足盆,包括盆底(1)、盆体(2)构成,其特征在于在盆底(1)的内面中心设置一个半球形凸台(3),在凸台(3)及凸台(3)四周的盆底(1)内面设置均匀分布的小凸台(4),小凸台可为半球体、锥体、方形体
  • 技术领域
    本实用新型涉及人们生活中使用的盆,特指一种洗脚用的脚盆本实用新型的技术解决方案是在现有盆的基础上进行改进设计的,包括盆底和盆体两部分构成其改进要点是在盆底的内面中心设置一个半球形凸台在凸台及凸台四周的盆底内面设置均匀分布的小凸台小凸台可以设计成半球体、锥体、方形体或其它形状以下结合附图对本实用新型进行详细的叙述附
  • 专利摘要
    按摩浴足盆,是在现有盆的基础上进行改进设计的,包括盆底和盆体两部分构成。其改进要点是在盆底的内面中心设置一个半球形凸台,在凸台及凸台四周的盆底内面设置均匀分布的小凸台,小凸台可以设计成半球体、锥体、方形体或其它形状。本实用新型既是盛水的容器,又是一种家庭保健用品,具有一物多用的功能。
  • 专利详情
  • 全文pdf
  • 权力要求
  • 说明书
  • 法律状态
专利名称:按摩浴足盆的制作方法图1是本实用新型按摩浴足盆的俯视图。附图2是附图1的A-A向剖视图。见附图1、2,本实用新型包括盆底1、盆体2构成,在盆底1的内面中心设置一个半球形凸台3,在凸台3及凸台3四周的盆底1内面设置均匀分布的小凸台4,小凸台可为半球体、锥体、方形体或其它形状。本实用新型与现有技术相比具有结构简单,设计新颖的特点,人们使用它盛水洗脚时,足底踏在盆内小凸台上,可进行足底按摩或足趾等部位的除苔去垢,盆中央设置的大凸台可方便清洗并按摩足弓部、足背部及足跟部。综上所述,本实用新型按摩浴足盆,即是盛水的容器,又是一种家庭保健用品,具有一物多用的功能。





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