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口腔摄像头安装箱制作方法

  • 专利名称
    口腔摄像头安装箱制作方法
  • 发明者
    贾小晶
  • 公开日
    2015年2月25日
  • 申请日期
    2014年10月22日
  • 优先权日
    2014年10月22日
  • 申请人
    苏州新业电子有限公司
  • 文档编号
    A61B6/14GK204169862SQ201420613162
  • 关键字
  • 权利要求
    1.口腔摄像头安装箱,其特征在于,包括 箱体,所述箱体上下表面上对称设置有凹槽,所述箱体设置有轴向腔体,所述轴向腔体末端设置有用于安装口腔摄像头的卡槽; PTC加热器,包括外壳、PTC片、电极片和绝缘纸,所述电极片包覆于所述PTC片两侧表面,所述PTC片和所述电极片组成的整体包覆于所述绝缘纸中,所述PTC片、电极片和绝缘纸组成的整体设置于外壳中,所述外壳安装于所述凹槽中2.根据权利要求1所述的口腔摄像头安装箱,其特征在于,所述电极片为电路板式电极片
  • 技术领域
    [0001 ] 本实用新型涉及一种口腔摄像头安装箱
  • 专利摘要
    本实用新型公开了一种口腔摄像头安装箱,包括箱体,箱体上下表面上对称设置有凹槽,箱体设置有轴向腔体,轴向腔体末端设置有用于安装口腔摄像头的卡槽;PTC加热器,包括外壳、PTC片、电极片和绝缘纸,电极片包覆于PTC片两侧表面,PTC片和电极片组成的整体包覆于绝缘纸中,PTC片、电极片和绝缘纸组成的整体设置于外壳中,外壳安装于凹槽中。本实用新型中PTC加热器与卡槽中的口腔摄像头接触直接加热口腔摄像头,去除口腔摄像头的水气或雾气,保证摄像的效果;同时,PTC加热器还与箱体接触加热箱体,使得箱体内部温度温度高从而进一步去除口腔摄像头的水气或雾气。
  • 专利说明
    口腔摄像头安装箱
  • 专利详情
  • 全文pdf
  • 权力要求
  • 说明书
  • 法律状态
口腔摄像头安装箱的制作方法 [0002]口腔用X光机一般用来给牙齿拍照,诊断牙齿的的病灶,拍摄时X光机的摄像头必须放入口腔内对牙齿进行拍摄,由于口腔内湿度极大,导致X光机的摄像头非常容易有雾,这样会极大的影响到X光片的清晰度,给医生的正确诊断带来很大的障碍。 实用新型内容 [0003]为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种口腔摄像头安装箱。 [0004]为了达到上述目的,本实用新型的技术方案如下: [0005]口腔摄像头安装箱,包括: [0006]箱体,箱体上下表面上对称设置有凹槽,箱体设置有轴向腔体,轴向腔体末端设置有用于安装口腔摄像头的卡槽;
[0007]PTC加热器,包括外壳、PTC片、电极片和绝缘纸,电极片包覆于PTC片两侧表面,PTC片和电极片组成的整体包覆于绝缘纸中,PTC片、电极片和绝缘纸组成的整体设置于外壳中,外壳安装于凹槽中。
[0008]本实用新型中PTC加热器与卡槽中的口腔摄像头接触直接加热口腔摄像头,去除口腔摄像头的水气或雾气,保证摄像的效果;同时,PTC加热器还与箱体接触加热箱体,使得箱体内部温度温度高从而进一步去除口腔摄像头的水气或雾气。
[0009]作为优选的方案,上述的电极片为电路板式电极片。
[0010]采用上述优选方案,电路板式电极片可方便与其他设备的电连接。




[0011]图1为本实用新型的结构示意图。
[0012]图2为本实用新型的爆炸结构示意图。
[0013]图3为本实用新型的侧面剖视图。
[0014]其中,10.箱体,11.凹槽,12.卡槽,20.PTC加热器,21.电极片,22.PTC片,23.绝缘纸,24.外壳。


[0015]下面结合附图详细说明本实用新型的优选实施方式。
[0016]为了达到本实用新型的目的,如图1-3所示,在本实用新型的其中一种实施方式中,本实施方式提供一种口腔摄像头安装箱,包括:
[0017]箱体10,箱体10上下表面上对称设置有凹槽11,箱体10设置有轴向腔体,轴向腔体末端设置有用于安装口腔摄像头的卡槽12 ;
[0018]PTC加热器20,包括外壳24、PTC片22、电极片21和绝缘纸23,电极片21包覆于PTC片22两侧表面,PTC片22和电极片21组成的整体包覆于绝缘纸23中,PTC片22、电极片21和绝缘纸23组成的整体设置于外壳24中,外壳24安装于凹槽11中。
[0019]本实用新型中PTC加热器20与卡槽12中的口腔摄像头接触直接加热口腔摄像头,去除口腔摄像头的水气或雾气,保证摄像的效果;同时,PTC加热器20还与箱体10接触加热箱体,使得箱体10的轴向腔体内部温度升高从而进一步去除口腔摄像头的水气或雾气。
[0020]上述的电极片21为电路板式电极片,电路板式电极片可方便与其他设备的电连接。
[0021]以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。

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