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涂布装置制作方法

  • 专利名称
    涂布装置制作方法
  • 发明者
    孙鲁男, 王敬龙, 许文诚, 詹育颖
  • 公开日
    2006年1月18日
  • 申请日期
    2004年7月16日
  • 优先权日
    2004年7月16日
  • 申请人
    鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 群创光电股份有限公司
  • 文档编号
    C03C25/12GK1721081SQ20041002819
  • 关键字
  • 权利要求
    1.一种涂布装置,包括一工作平台和一喷嘴涂布单元,该喷嘴涂布单元包括一光阻涂布喷嘴和一光阻材料供应装置,该光阻涂布喷嘴位于工作平台上方,该光阻材料供应装置与光阻涂布喷嘴相连以提供光阻材料,其特征在于该工作平台包括多个吹气孔2.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于该工作平台进一步包括多个吸附孔3.如权利要求2所述的涂布装置,其特征在于该多个吹气孔和多个吸附孔等距离间隔分布4.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于该光阻涂布喷嘴固定在工作平台上方5.如权利要求4所述的涂布装置,其特征在于进一步包括拖拽装置6.如权利要求5所述的涂布装置,其特征在于该拖拽装置是吸附拖拽装置、钳或镊7.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于该喷嘴涂布单元设有一驱动装置,驱动光阻涂布喷嘴在两支架方作往复运动8.如权利要求7所述的涂布装置,其特征在于该喷嘴涂布单元进一步包括两支架,该两支架设置在工作平台两侧,该光阻涂布喷嘴两端架设在该两支架上9.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于进一步包一除尘装置,该除尘装置位于涂布喷嘴前端10.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于该光阻涂布喷嘴为刮刀式喷嘴
  • 技术领域
    本发明是关于一种涂布装置,特别是指一种用于涂布光阻材料的涂布装置
  • 背景技术
  • 具体实施方式
    请参阅图4,是本发明涂布装置第一实施方式的示意图该涂布装置2包括一工作平台20、一喷嘴清洗槽(图未示)、一喷嘴涂布单元22和一吸附拖拽装置24该工作平台20包括多个吹气孔201和多个吸附孔202,该喷嘴涂布单元22包括一光阻涂布喷嘴222和一光阻材料供应装置224
  • 专利详情
  • 全文pdf
  • 权力要求
  • 说明书
  • 法律状态
专利名称:涂布装置的制作方法在液晶显示装置制程工序中,需要在玻璃基板上均匀涂上一层特定厚度的的光阻材料。一种现有技术刮刀式涂布装置如图1所示。该刮刀式涂布装置10包括一工作平台16、一光阻涂布喷嘴11、一光阻材料供应装置12、一喷嘴清洗槽15和两支架17。该工作平台16用以支持并固定待涂布的基板13。该两支架17分别设置于工作平台16两侧,该光阻涂布喷嘴11设置于工作平台16上方,其两端架设在该两支架17上并与光阻材料供应装置12相连,可将光阻材料供应装置12中无特定形状的光阻材料转变成带状光阻材料。该喷嘴清洗槽15设置于工作平台16后端用以清洗光阻涂布喷嘴11。如图2和图3所示,是刮刀式涂布装置10的工作示意图。外力推动下该光阻涂布喷嘴11在该两支架17上从第一位置A向第二位置B移动,同时将由光阻材料供应装置12提供的光阻材料14通过光阻涂布喷嘴11涂布在基板13上,每当完成一次涂布动作后,光阻涂布喷嘴11需浸入喷嘴清洗槽15清洗,准备下一次涂布动作。但是,在刮刀式涂布装置10涂布光阻材料时,因其所处工作环境等因素的影响,工作平台16表面或基板13表面可能存在一些微粒,这些微粒将会造成基板13涂布异常,影响后序制程,同时,如果基板表面的微粒过大,还可能使光阻涂布喷嘴受损刮伤;因基板13与工作平台16接触还可能会产生静电。另外,工作平台16的其它机构产生震动时会使得光阻材料涂布不均匀,从而影响涂布的品质。
为了克服现有技术的涂布装置涂布异常和容易产生静电,从而导致涂布品质差的缺陷,本发明提供一种可以在光阻材料涂布过程中减少涂布异常和可以防止产生静电,从而提高涂布品质且保护喷嘴的涂布装置。本发明解决技术问题所采用的技术方案是提供一种涂布装置,其包括一工作平台和一喷嘴涂布单元,该工作平台包括多个吹气孔,该喷嘴涂布单元包括一光阻涂布喷嘴和一光阻材料供应装置,该光阻涂布喷嘴位于工作平台上方,该光阻材料供应装置与光阻涂布喷嘴相连以提供光阻材料。与现有技术相比,本发明的涂布装置在工作平台设有多个吹气孔,由该多个吹气孔吹气将基板浮起,因为涂布过程中基板处在漂浮状态,即不与工作平台接触,从而可以防止产生静电,也可以有效解决掉落在工作平台上的微粒造成基板部分区域隆起致使涂布不均匀,且可避免工作平台的其它机构发生震动时出现的涂布不均匀,也会因该多个吹气孔吹气,可顺便清除基板背面的微粒。

图1是一种现有技术涂布装置的平面示意图。
图2和图3是图1所示涂布装置的工作示意图。
图4是本发明涂布装置第一实施方式的立体示意图。
图5是图4所示涂布装置的工作示意图。
图6是本发明涂布装置第二实施方式的立体示意图。
图7是图6所示涂布装置的工作示意图。
图8是本发明涂布装置第三实施方式的立体示意图。

由该工作平台20的多个吹气孔201吹气使待涂布的基板200浮起。由该多个吹气孔201吹出的气体利用气体扰流原理使待涂布的基板200在整个涂布过程中保持平稳状态,该多个吸附孔202利用真空吸附原理可更精确的控制基板200的稳定度,且该多个吹气孔201和多个吸附孔202等距离间隔分布。该喷嘴清洗槽设置在该工作平台20的端部。该光阻涂布喷嘴222横跨在该工作平台20上方,其两端固定于工作平台20,该光阻材料供应装置224与光阻涂布喷嘴222相连并向其提供光阻材料,该光阻涂布喷嘴222可将光阻材料供应装置224中无特定形状的光阻材料转变成带状光阻材料涂布在基板上。该光阻涂布喷嘴222为刮刀式喷嘴。
请一并参阅图5,是该涂布装置2的工作示意图。利用涂布装置2进行光阻材料涂布时,由该多个吹气孔201和多个吸附孔202一吹一吸,使待涂布的基板200漂浮并稳定在工作平台上方,随后将基板200利用吸附拖拽装置24通过吸附拖拽的方式从位置A移动至位置B,在其移动过程中,由光阻材料供应装置224提供的光阻材料由光阻涂布喷嘴222均匀涂布在基板200上。当本次涂布动作完成后将光阻涂布喷嘴222浸入喷嘴清洗槽清洗,准备下一次涂布工作。
本发明的涂布装置2在工作平台20设有多个吹气孔201和多个吸附孔202,由该多个吹气孔201吹气将基板200浮起,该多个吸附孔202更精确的控制基板的稳定度,因涂布过程中基板200处在悬浮状态,即不与工作平台20接触,故可防止产生静电,也可有效解决掉落在工作平台20的微粒造成基板200部分区域隆起致使涂布不均匀,避免微粒损伤刮刀,且可避免工作平台20的其它机构产生震动时出现的涂布不均匀,该多个吹气孔201和多个吸附孔202的一吹一吸,可清除基板背面的微粒。
请参阅图6,是本发明涂布装置第二实施方式的示意图。该涂布装置4包括一工作平台40、一喷嘴清洗槽(图未示)和一喷嘴涂布单元42。该工作平台40包括多个吹气孔401和多个吸附孔402,该喷嘴涂布单元42包括一光阻涂布喷嘴422、一光阻材料供应装置424、两支架426和一驱动装置(图未示)。该光阻涂布喷嘴422为刮刀式喷嘴,该两支架426分别设置在工作平台40两侧,该光阻涂布喷嘴422横跨在该工作平台40上方,其两端架设在该两支架426上。
请一并参阅图7,是该涂布装置4的工作示意图。利用本发明的涂布装置4进行光阻材料涂布时,由该多个吹气孔401和多个吸附孔402一吹一吸,使待涂布的基板400悬浮并稳定在工作平台上方,随后光阻涂布喷嘴422在驱动装置的驱动下从位置A移动至位置B,在其移动过程中,由光阻材料供应装置424提供的光阻材料由光阻涂布喷嘴422均匀涂布在基板400上。当本次涂布动作完成后将光阻涂布喷嘴422浸入喷嘴清洗槽(图未示)清洗,准备下一次涂布工作。
请参阅图8,是本发明涂布装置第三实施方式的示意图。该实施方式与第二实施方式不同的处在于该涂布装置6进一步包括一除尘装置64。该除尘装置64包括一超音波除尘装置642和两支架644。该两支架644设置在工作平台60两侧。该超音波除尘装置642设置在刮刀式喷嘴622前方,并横跨在平台60上方,其两端是架设在该两支架646上。该超音波除尘装置642是利用超音波原理和风刀效应除去微粒,其设有一控制装置6420和一驱动装置(图未示),该控制装置6420是用以控制超音波除尘装置的开关,该驱动装置用以驱动该超音波除尘装置642使其在该两支架644上作往复运动。
该涂布装置6除可达到与涂布装置2相同效果外,由于该除尘作动装置64可除去基板600表面微粒,避免微粒损伤喷嘴,同时减少基板表面涂布异常。
另外,本发明的涂布装置并不限于上述实施方式所述,例如光阻涂布喷嘴可为刮刀式喷嘴之外其它类型的喷嘴;工作平台也可仅设置多个吹气孔,将待涂布的基板浮起并稳定在工作平台上方;超音波除尘装置也可置在光阻涂布喷嘴的前端;该拖拽装置也可以是钳、镊等,将待涂布的基板平行拖动即可;可以采用除吹气孔吹气之外其它方法,将待涂布的基板在工作平台上方悬浮。


一种涂布装置,包括一工作平台和一喷嘴涂布单元,该喷嘴涂布单元包括一光阻涂布喷嘴和一光阻材料供应装置,该光阻涂布喷嘴位于工作平台上方,该光阻材料供应装置与光阻涂布喷嘴相连以提供光阻材料,其特征在于该工作平台包括多个吹气孔。



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