一种淋釉装置制造方法[0002]在瓷砖加工领域淋釉机是一种十分常见的加工工具，主要用于为砖坯表面施底釉及面釉，现有的淋釉机结构复杂，对淋釉量及淋釉速度的调节十分不便，同时现有的淋釉机机架造价成本高，对原材料消耗很大，并且现有的淋釉器主要应用淋釉刀板作为淋釉机出釉部件，但淋釉刀板加工难度大，生产成本高，在加工及使用时很难保证其设备状态完好，并且淋釉刀板的安装，调整，及清洗均十分不方便，极大的影响了淋釉机时的工作效率，所以亟需一种淋釉装置以解决上述问题。
[0003]本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种淋釉装置，该淋釉装置结构简单，将现有淋釉刀板的功能移植到了淋釉机机体上，简化了淋釉机结构，避免了淋釉刀板复杂的安装及调试过程，同时该淋釉机所使用的新型机架对淋釉机固定牢固，可以调节淋釉机的高度，并可通过调节螺丝对淋釉机的水平位置进行调节，在地面不平时可以确保淋釉机处于水平状态。[0004]为达到上述要求，本发明采取的技术方案是:该淋釉装置包括淋釉机腔体、接釉槽及淋釉机机架，接釉槽为设置于淋釉机腔体下方的凹槽型结构，淋釉机腔体上设置有用来调节出釉速度的偏心轴， 该偏心轴套设于调节杆上，调节杆与调节装置相连接；淋釉机腔体包括设固定腔体、活动腔体及设置于固定腔体和活动腔体两侧的挡板，固定腔和活动腔体为开口向内的凹槽型结构，固定腔体和活动腔体底部均设有淋釉刀。[0005]该装置采用一体化机身，将现有淋釉刀板的功能移植到了淋釉机机体上，简化了淋釉机结构，避免了淋釉刀板复杂的安装及调试过程，进而解决了由于刀板加工不直等问题对淋釉机的使用造成的影响；同时该淋釉机所使用的新型机架对淋釉机固定牢固，可以调节淋釉机的高度，并可通过调节螺丝对淋釉机的水平位置进行调节，在地面不平时可以确保淋釉机处于水平状态，进而保证了淋釉机的工作效率，同时具有造价低廉的优点；并且该淋釉机调节装置利用偏心轴原理，通过调节部件及调节转盘实现对淋釉机的精密调节，该装置结构简单，便于操作，同时可以节约淋釉成本达到百分之十五以上，并且一般技术人员很容易学习及掌握从而很大地节约了时间成本。

[0006]此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，在这些附图中使用相同的参考标号来表示相同或相似的部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并构成对本申请的不当限定。在附图中:
图1示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉装置的结构示意图。[0007]图2示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉装置主体的结构示意图。
[0008]图3示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉装置的机架结构示意图。
[0009]图4示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉装置的出釉调节装置的局部放大图。
[0010]图5示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉装置的机体横截面的示意图。
[0011]图6示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉装置的固定卡扣正面的示意图。
[0012]图7示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉装置的固定卡扣侧面的示意图。 [0013]图8示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉装置的固定卡扣顶面示意图。
[0014]图9示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉装置的偏心轴的结构放大示意图。
[0015]图10示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉装置的支撑调节部件的主视图。
[0016]图11示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉装置的支撑调节部件的俯视图。
[0017]图12示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉装置的支撑调节部件的左视图。
[0018]图13示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉装置的导流板的示意图。
[0019]图14示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉装置的挡板的示意图。
[0020]其中:1、下底座；2、调平螺丝；3、上底座；4、机架杆；5、支撑调节部件；6、固定卡扣；7、固定板；8、上梁螺丝；9、上梁；10、淋釉机腔体；11、进釉管；12、调节装置；13、调节盘；14、出釉管；15、淋釉机机架；16、偏心轴；17、调节杆；18、接釉槽；19、导流板；20、偏心轴固定板；21、偏心轴连接杆；22、固定部件；23、调节杆插孔；24、偏心轴连接杆插孔；25、固定腔体；26、腔体固定孔；27、控釉腔；28、腔体调节孔；29、活动腔体；30、淋釉刀；31、连接螺孔；32、卡扣底座；33、卡扣凹孔；34、卡扣扣环；35、第一加紧板；36、第二加紧板；37、上固定梁；38、拧紧螺孔；39、下固定梁；40、固定部件插孔；41、支撑调节部件连结杆插孔；42、第一导流外挡板；43、第一引流槽挡板；44、第二引流槽挡板；45、第二导流外挡板；46、第二导流外槽；47、导流槽；48、第一导流外槽；49、淋釉刀凹口 ；50、挡板；51、腔体固定杆；52、进釉口 ；53、腔体活动杆。

[0021]为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，以下结合附图及具体实施例，对本申请作进一步地详细说明。
[0022]在以下描述中，对“ 一个实施例”、“实施例”、“ 一个示例”、“示例”等等的引用表明如此描述的实施例或示例可以包括特定特征、结构、特性、性质、元素或限度，但并非每个实施例或示例都必然包括特定特征、结构、特性、性质、元素或限度。另外，重复使用短语“根据本申请的一个实施例”虽然有可能是指代相同实施例，但并非必然指代相同的实施例。
[0023]为简单起见，以下描述中省略了本领域技术人员公知的某些技术特征。[0024]根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉装置，如图1所示，包括淋釉机腔体10、接釉槽18及淋釉机机架15，该接釉槽18为设置于所述淋釉机腔体10下方的凹槽型结构，该淋釉机腔体10上设置有用来调节出釉速度的偏心轴16，该偏心轴16套设于调节杆17上，调节杆17与调节装置12相连接。
[0025]根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉装置，如图5所示，淋釉机腔体10包括设固定腔体25、活动腔体29及设置于该固定腔体25和活动腔体29两侧的挡板50，该固定腔体25和活动腔体29为开口向内的凹槽型结构，固定腔体25和活动腔体29底部均设有淋釉刀30，该淋釉装置改进了原有的将淋釉刀刀板设置于淋釉机腔体下方的做法，直接固定腔体25和活动腔体29内部的下方改为原有的淋釉刀板结构，这样不但可以提高淋釉机工作时的淋釉精度，而且可以极大的节省对淋釉机刀板的加工和调节的时间。
[0026]根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉装置，如图5所示，活动腔体29上设置有用来与挡板50相连接的腔体调节孔28，该腔体调节孔28为圆形孔状结构，挡板50上设置有位置与腔体调节孔28相对应的腔体活动杆53和与控釉腔27相连通的挡板进釉孔52。该淋釉装置的活动腔体29通过腔体活动杆53与挡板50相连接，并可以以腔体活动杆53为轴做一定角度的转动，在调节杆17转动时带动偏心轴16转动，从而带动活动腔体29的转动角度，进而改变淋釉机的出釉速度。
[0027]根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉装置，如14所示，固定腔体25与挡板50相连接，且固定腔体25固定于两侧的挡板50之间，该固定腔体25上可以设有至少两个腔体固定孔26，挡板50上可以设置有位置和数量皆与该腔体固定孔26相对应的腔体固定杆51，该腔体固定杆51穿过固定腔体25上的腔体固定孔26将固定腔体25与挡板50相连接，并保证二者固定得牢固。
[0028]根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉装置，如图5所示，固定腔体25顶部与活动腔体29相接触处为下端相内倾斜的三角形结构，这样当活动腔体29以腔体活动杆53为轴转动时，活动腔体29与固定腔体25顶部不会相抵，进而最大程度上保证了该淋釉机出釉速度调节的流畅性。
[0029]根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉装置，如图10至图12所示，偏心轴16 —端设有偏心轴连接杆插孔24，支撑调节部件5上设置有两个偏心轴固定板20，偏心轴固定板20上设有位置与偏心轴连接杆插孔24相对应的支撑调节部件连结杆插孔41，偏心轴16与支撑调节部件5通过偏心轴连接杆21相连接，支撑调节部件5两侧设置有用来与活动腔体29相连接的固定部件插孔40。
[0030]根据本申请的一个实施例，如图3所示，提供一种淋釉装置机架15，包括机架杆4及上梁9，该机架杆4底部设有上底座3及下底座1，该上底座3及下底座I通过调平螺丝2连接；上梁9两端设置有固定板7，该固定板7与固定卡扣6连接，该固定卡扣6套设于机架杆4上，该淋釉机机架杆4可以通过旋转调平螺丝2调节下底座I及上底座3间的相对距离，从而保证淋釉机腔体10处于水平状态。 [0031]根据本申请的一个实施例，如图3所示，提供一种淋釉装置，该淋釉机的淋釉机机架15可以调节固定卡扣6的松紧，并且该固定卡扣6套设于机架杆4上，并可以沿该机架杆4上下移动，进而对淋釉机腔体10的水平高度进行调节。
[0032]根据本申请的一个实施例，如图3所示，提供一种淋釉机机架15，该装置的上梁9上设置有上梁螺丝8，该上梁螺丝8用来连接上梁9与淋釉机腔体10。
[0033]根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉装置，如图3所示，调节杆17、调节装置12及支撑调节部件5均设于淋釉机腔体10上，通过调节装置12可以对淋釉机出釉速度进行调节，并使釉沿控釉板流入接釉槽18。
[0034]根据本申请的一个实施例，如图4所示，提供一种淋釉装置，淋釉机腔体10上与偏心轴16位置对应的支撑调节部件5，该支撑调节部件5主要承受来自偏心轴16不同大小的压力从进而对淋釉机出釉量及出釉速度进行调节。
[0035]根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉装置，如图4所示，包括调节杆17、设置于该调节杆17上的偏心轴16及用于调节该调节杆17旋转角度的调节装置12，该调节装置12可以带动调节杆17及设置于调节杆17上的偏心轴16转动，从而改变该偏心轴16施于支撑调节部件5上的压力，进而起到对淋釉机出釉量及出釉速度的调节和控制作用。
[0036]根据本申请的一个实施例，如图10至图12所示，提供一种淋釉装置，该装置偏心轴16上设置有调节杆插孔23及偏心轴连接杆插孔24，调节杆17贯穿调调节杆插孔23从而与偏心轴16连接。
[0037]根据本申请的一个实施例，图10至图12所示，提供一种淋釉装置，支撑调节部件5上设置有偏心轴固定板20及起固定作用的固定部件插孔40，偏心轴固定板20上设有支撑调节部件连结杆插孔41，偏心轴16上设有位置与偏心轴固定板20上的支撑调节部件连结杆插孔41位置对应的偏心轴连接杆插孔24，偏心轴连接杆21穿过该偏心轴连接杆插孔24与支撑调节部件连结杆插孔41可以通过偏心轴连接杆21，从而起到对偏心轴16与支撑调节部件5的固定作用。 [0038]根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉装置，如图2所示，该调节装置12上设置有可旋转的的调节盘13，该调节盘13上可以设置有旋转杆，转动旋转杆可以使该淋釉机调节装置在使用过程中更加方便省力。
[0039]根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉机调节装置，图4所示，该装置支撑调节部件5上设有固定部件插孔40，固定部件22通过贯穿固定部件插孔40使支撑调节部件5与活动腔体29连接。
[0040]根据本申请的一个实施例，如图6至图8所示，提供一种固定卡扣6，包括底座32及设置于该底座32上的卡扣扣环34，该卡扣扣环34为顶部设有开口的圆环状结构，卡扣扣环34的开口处设有第一加紧板35及第二加紧板36，第一加紧板35及第二加紧板36上设有位置对应的拧紧螺孔38，底座32上设有连接螺孔31，该装置可以用螺丝通过连接螺孔31将底座32固定于需要固定的位置。
[0041]根据本申请的一个实施例，如图6至图8所示，提供一种淋釉装置，该装置固定卡扣6的卡扣扣环34为顶部设有开口的环状结构，使用时可以将卡扣扣环34套设于需要固定的杆体上，并将底座32与另一出需要固定的部件相连接，从而起到对机架杆4的固定作用。
[0042]根据本申请的一个实施例，如图6至图8所示，提供一种淋釉装置，该装置固定卡扣6的上部有拧紧螺孔38，使用时可以用螺丝通过该拧紧螺孔38来调节第一加紧板35及第二加紧板36间的加紧程度，从而调节卡扣扣环34内径的大小，进而改变卡扣扣环34与其中固定的杆体间的松紧。[0043]根据本申请的一个实施例，如图6至图8所示，提供一种淋釉装置，该装置固定卡扣6上的卡扣扣环34上部设置有用来加固第一加紧板35及第二加紧板36的上固定梁37，卡扣扣环34下部设置有用来加固底座32的下固定梁39，该上固定梁37与下固定梁39可以使该固定卡扣6结构更加牢固，极大的提高了该装置所能承受的力，进而很大程度上提高了该装置的使用方位及使用寿命。
[0044]根据本申请的一个实施例，如图6至图8所示，提供一种淋釉装置，该装置固定卡扣6上的卡扣扣环34上设有卡扣凹孔33，该卡扣凹孔33的设置在很大程度上节约了该装置的耗材，从而降低了该装置的生产成本，并且降低了在调节该固定卡扣6时收到的来自卡扣扣环34的反作用力，进而使该固定卡扣装置使用起来更加方便。
[0045]根据本申请的一个实施例,如图13所示，固定腔体25和活动腔体29正下方设置有用来控制出釉方向的导流板19，该述导流板19对称轴上设置有导流槽47，该导流槽47两侧设置有第一引流槽挡板43和第二引流槽挡板44，导流板19的两侧外边界处设置有对称的第一导流外挡板42和第二导流外挡板45 ;第一导流外挡板42与第一引流槽挡板43间设有凹槽型结构的第一导流外槽48，第二引流槽挡板44与第二导流外挡板45间设有凹槽型结构的第二导流外槽46，
根据本申请的一个实施例，如图13所示，导流板19为上底大于下底的梯形结构，第一导流外挡板42和第二导流外挡板45高度大于第一引流槽挡板43和第二引流槽挡板44，第一引流槽挡板43和第二引流槽挡板44长度相同且相互平行，导流槽47横截面宽度小于第二导流外槽46和第一导流外槽48下端横截面宽度。当釉从淋釉机腔体10中流出时很难保证其流向的正确及釉面的工整，该导流板19可以对从淋釉机腔体10中流出的釉的流动方向进行调整，并且在釉流经导流槽47是会自动沿导流槽47的凹形槽体流动，从而使流出的有形成规整的釉面。
[0046]根据本申请的一个实施例，如图5所示，淋釉刀30下方设有凹槽型结构的淋釉刀凹口 49，该凹槽结构可以确保有从淋釉机腔体10中流出时釉面的规整，并能是釉更好的流入导流板19。
[0047]根据本申请的一个实施例，如图5所示，固定腔体25及活动腔体29间设有空腔型结构的控釉腔27，该控釉腔27主要用于对进釉管11流入的釉进行储存，并可以使流入的釉运动速度降低，进而确保釉从淋釉机腔体10中流出时釉面规整。
[0048]根据本申请的一个实施例，如图2所示，在淋釉机工作时，釉从进釉管11流入淋釉机腔体10中的控釉腔27中，并经两侧淋釉刀30中间的细缝中流出，并通过淋釉机调节装置12控制两侧淋釉刀30中间的细缝缝隙的大小，从而控制釉的流出量及流出速度，从淋釉机腔体10中流出的釉将流入导流板19，并在导流板19的作用下改变其流向，釉在流入导流板19后沿第二导流外槽46、导流槽47及第一导流外槽48流入设置于导流板19下方的控釉腔27，该控釉腔27的下端面为倾斜状，流入控釉腔27内的釉会沿倾斜的下端面向另一侧流动，并经出釉管14流出，以完成对釉一轮的处理过程。
[0049]以上所述实施例仅表示本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能理解为对本发明范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可 以做出若干变形和改进，这些都属于本发明保护范围。因此本发明的保护范围应该以所述权利要求为准。