专利名称：高效水基清洗剂的制作方法近年来，随着人们生活水平及工业技术水平的不断提高，各种电子、精密工业、光学玻璃等产品被广泛的应用到工业生产以及人们的日常生活当中，市场需求量也比较大。各种电子、精密工业、光学玻璃加工过程中及成型过后，要进行表面的清洗，而电子、精密工业、光学玻璃等产品的表面及凹陷处需要进行清洗。在清洗的过程中，需要使用到各种类型的清洗剂。清洗剂在洗涤物体表面上的污垢时，能改变水的表面活性，提高去污、去垢效果的 物质。水基清洗剂的主要成分为表面活性剂，无机助洗剂以及少量的溶剂与水。油污通过清洗剂的活性组分通过亲水亲油的原理被分散乳化或溶解在水溶液中，从而将这些污物清洗离开工件表面。水基清洗剂的性能指标有，活性组分含量，PH值，密度，清洗力，耐硬水能力以及使用寿命，发泡性，相容性，对金属材料的腐蚀性等。水基清洗剂的清洗渗透力极强，可进入很小的缝隙完成清洗，特别适用于高密度和精密产品的清洗。就现有技术的水基清洗剂来看，由于其成分的原因，存在腐蚀性较高、清洗洁净度不高、安全性能不强等方面的不足。
鉴于上述现有技术的水基清洗剂存在的腐蚀性较高、清洗洁净度不高、安全性能不强等方面的不足，本发明的目的在于提供一种具有对工件无腐蚀，清洗容易，使用安全等优点的高效水基清洗剂。为了达到上述目的，本发明所采取的技术方案如下一种高效水基清洗剂，包括原材料按用量计，阴离子表面活性剂5% -10% ；非离子表面活性剂2% -5% ;氢氧化钠I % -5%;余量为去离子水。本发明的有益效果在于具有对工件无腐蚀，清洗容易，使用安全等优点。可生物降解；有良好的清洗除油效果；对材料基体无腐蚀；使用安全，对人体无损害。本发明的使用方法为1、清洗剂按5%配水使用；2、配液前应对系统彻底清洗；3、各步工序可根据具体情况选择槽数；3、超声波清洗。氢氧化钠I % -5%;余量为去离子水。本发明的有益效果在于具有对工件无腐蚀，清洗容易，使用安全等优点。可生物降解；有良好的清洗除油效果；对材料基体无腐蚀；使用安全，对人体无损害。本发明的使用方法为1、清洗剂按5%配水使用；2、配液前应对系统彻底清洗；3、各步工序可根据具体情况选择槽数；3、超声波清洗。本发明所揭示的内容，是为较佳实施例的数种，但凡局部变更、变化，或对本发明所揭示的技术内容的修饰，而源于本发明的技术思想且为熟习该项技艺的人所不加创造性思维易于推知的，皆不脱离本发明的专利权范畴。一种高效水基清洗剂，包括原材料按用量计，阴离子表面活性剂5％-10％；非离子表面活性剂2％-5％；氢氧化钠1％-5％；余量为去离子水。本发明具有对工件无腐蚀，清洗容易，使用安全等优点。