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半导体晶片加工机台的基座结构制作方法
专利
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碲隔汞晶片溶剂溶液自动化清洗的动态装置制作方法
专利
专利摘要: 本专利公开了碲隔汞晶片溶剂溶液自动化清洗的动态装置,包括聚四氟乙烯多孔花篮,石英烧杯,恒温水槽,手柄,力臂杆,滑块,导轨,平行连接杆,拨杆,拨盘,滑槽,搁架。特点是;有机或无机溶剂灌入石英烧杯,石英烧杯置于恒温水槽水浴中,将碲隔汞晶片竖立于聚四氟乙烯多孔花篮中浸入灌有溶剂的石英烧杯内,聚四氟乙烯多孔花篮通过花篮手柄与力臂杆、滑块、平行连接杆等机构连接在主杆架上,整个装置通过主杆架呈弓字形结构,主杆架的下端通过固定架紧套在恒温水槽上不会因为偏重而倾斜,上端固定直流电机,提供动力后聚四氟乙烯多孔花篮呈上下运动状态,达到动态清洗的目的。 -
晶片盒清洁装置制作方法
专利
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新型晶片锯割系统制作方法
专利
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晶片清洗机制作方法
专利
专利摘要: 一种晶片清洗机,机架上设有清洗筒,清洗筒底缘设有凸缘,盖体枢设于清洗筒上缘转盘安装于清洗筒内底部,马达设置于清洗筒下方,马达上缘利用螺钉与清洗筒底缘的下凸缘固定一体,马达输出轴的轴端锁定在转盘底缘,数个定位体固定在转盘的表面,数个限位柱是对称固定于转盘表面边缘,数个治具设置于转盘表面上,每个治具的中央设有供晶片载盘插置的插槽,每个治具顶面侧形成有槽孔,其侧面与底面分别设有测流通孔,而端面下缘对应该定位体与转盘间构成的嵌槽设有嵌体。本实用新型治具可供晶片转盘直接插接定位,并可直接嵌置定位于请系统的装盘,可免除繁琐的定位过程,具有操作方便的功效。 -
一种大直径超薄石英晶片的生产工艺制作方法
专利
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一种石英晶片腐蚀机制作方法
专利
专利摘要: 本实用新型是一种石英晶片腐蚀机,包括箱体,箱体内设有腐蚀液池和清洗池,在腐蚀液池和清洗池之间的台面上设有自动清洗摆动机构,自动清洗摆动机构包括的支臂上端通过转轴连接有横梁,横梁的前端连接有盛放晶片篮的清洗架,横梁内设有相互啮合的主动齿轮和从动齿轮,主动齿轮与横梁上的驱动电机输出轴相连,从动齿轮与清洗架相接;在腐蚀液池和清洗池上方分别设有与腐蚀液池连接的腐蚀液喷淋头以及与清洗池相连的清洗液喷淋头。本实用新型通过安装自动清洗摆动机构,可以使清洗架带动晶片篮在腐蚀液池和清洗池交替轮换,并使清洗架实现360°自动旋转,清洗、腐蚀更均匀,从而取代了人工操作,提高了工作效率,降低了工人劳动强度。 -
压电双晶片用压电陶瓷材料及其制备方法
专利
专利摘要: 本发明公开了一种压电双晶片用压电陶瓷材料及其制备方法,该材料组成为Pb1-p-qSrpBaq(Mg1/3Nb2/3)m(Ni1/3Nb2/3)n(Zn1/3Nb2/3)0.3-m-nZrxTiyO3+awt%Nb2O5+bwt%Li2CO3,p+q=0~0.12,m=0~0.2,n=0~0.05,x+y=0.7,x=0.3~0.4,a=0.1~0.3,b=0.1~0.3。本发明d33≥700pc/N,Kp≥60%,ε33/ε0≥5000,Tc≥200℃,是一种五元系压电陶瓷体系,不仅烧结温度低,居里温度高,而且压电和介电性能更好,机电耦合系数更高,且制备工艺简单,特别适用于贾卡导纱针上使用。 -
晶片容器清洗设备制作方法
专利
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用于清洗晶片的摇摆清洗装置制作方法
专利
胡娟
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