专利名称：一种分体便器本体通水路施釉循环系统的制作方法目前，在现有陶瓷企业中，对陶瓷坯体进行施釉可以增强坯体的强度，使其光滑致密，对陶瓷座便器也不例外，一般采用负压机构将带有釉药的媒介物通过便器通水路完成对便器通水路的施釉，对人员的技术能力要求高，而且容易导致施釉釉药厚度不均匀。
图1为本实用新型分体便器本体通水路施釉循环系统的结构示意图。以下结合附图对本实用新型做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。如图1所示，本实用新型提供一种分体便器本体通水路施釉循环系统，包括:两个密封机构、旋转工作台3、通釉系统和控制装置16。两个密封机构均设置在便器本体的上方，一个为密封塞15，通过一个上压气缸I与便器本体的进水孔4可选择的密封连接，另一个密封机构为密封盖体6，通过另外一个上压气缸I与便器内腔开口 5可选择的密封连接。其中上压气缸通过控制装置控制可以沿竖直方向做往复运动，一开始密封机构位于便器本体的上方，当施釉完成时，密封机构才在上压气缸的作用下往下运动，使便器本体的进水孔和内腔开口密封。旋转工作台水平设置在一支架上，用于托住所要通釉的便器本体，它通过一电机控制其旋转，电机通过第一继电器来控制启闭，所述旋转工作台设有与所述便器本体通水路的出水口选择性连通的第二开口，第二开口处设置有第一电磁阀10，当其阀门打开时，第二开口与便器本体通水路的出水口连通，可以对通水路通釉，当通釉完成时关闭阀门。通釉系统主要包括釉药罐2、釉药回收罐17，釉药罐设置在釉药回收罐的下方。其中釉药罐通过釉药输送管道7选择性的连通至旋转工作台的第二开口，釉药输送管道上设有一泵14，通过第二电磁阀13控制泵阀的启动和关闭，而第二电磁阀的启闭又通过第二继电器来控制。釉药回收罐通过釉药回收管道8也选择性的连通至旋转工作台的第二开口，釉药回收管道上设有第三电磁阀11，通过第四继电器的通断来控制其启闭。同时，釉药回收罐底部通过第二回收管道9连通至釉药罐，第二回收管道上设有阀门12，右侧连接有抽真空装置，当施釉完成时，人工打开阀门，并使用抽真空装置18将剩余的釉药回收到釉药回收罐里面，并使釉药回到釉药罐。控制装置主要通过与计算机通讯加载整个系统的工作程序，使整个系统按程序工作。该控制装置主要由一控制器加上外围电路构成，其控制的设备主要是继电器，还有采集密封盖体下方的液位传感器传来的液位信号。系统采用了多个继电器，其第一继电器控制电机的启动与关闭从而控制旋转工作台旋转，第二继电器控制第一电磁阀10的启闭从而使旋转工作台上的第二开口与便器本体通水路出水口连通，第三继电器控制第二电磁阀13的启闭从而控制泵的启闭，完成往釉药输送通道输送釉药，第四继电器控制第三电磁阀11的启闭从而控制釉药回收管道的打开和关闭。所有继电器的线圈一端接地，另一端分别接到控制器的不同输入输出口，公共端接高电平，电机或是电磁阀接到继电器的常开触点，通过输入输出口输出的电平就能控制相应继电器的通断。本实用新型的工作流程:首先人工将分体便器本体放置在旋转工作台上，其通水路的出水口对准工作台上的开口 ；第二步，通过控制装置程序使第二继电器导通进而打开第一电磁阀10的阀门，再使第三继电器导通控制第二电磁阀13进而使泵启动，此时釉药罐内的釉药通过泵的作用输送到釉药输送管道进入便器通水路(此时密封机构原始状态是在便器本体的上方)，控制器不断采集液位传感器传来的便器通水路内腔的釉面高度信号，当检测到设定值时，使第二继电器断开关闭第一电磁阀10阀门，同时关闭第二电磁阀13 ；第三步，控制上压控制第一继电器导通使电机启动旋转工作台开始旋转，通水路通过设定时间完成施釉；第四步完成施釉后，控制装置依次关闭电机，打开第一电磁阀10的阀门，控制上压气缸往下运动使密封机构盖住便器本体的进水孔和内腔开口，同时控制第四继电器打开第三电磁阀11阀门，使用抽真空装置将通水路剩余的釉药回收到釉药回收罐里，再人工打开罐底部的阀门12使回收的釉药能流回釉药灌；第四步，完成回收剩余釉药后，控制上压气缸向上运动将密封机构提起，同时关闭第三电磁阀11。尽管本实用新型的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本实用新型的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本实用新型并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。