专利名称：基板处理装置的制作方法 在FPD、半导体晶片、印刷电路板等的制造工艺中，例如，在采用药液对基板进行了处理之后，用纯水对基板进行清洗，将附着在基板上的药液置换成纯水的情况下，是使用通过传送辊将基片一片一片地向水平方向传送，并向基板上喷出纯水进行水洗的水平传送式处理装置。这种处理装置的大致结构的一例示于图19中。图19中所示的处理装置具备具有搬入口12和搬出口(图中未示出)的水洗处理槽10，在水洗处理槽10的内部，虽然图中未示出，但并列地配设有多个传送辊。而且，在水洗处理槽10的内部，在隔着双点化线所示的基板1的传送路径L的上下两侧上，分别配设了多个向基板1的上下两面喷射纯水的纯水喷射喷嘴14。在水洗处理槽10的搬入口12一侧上，与水洗处理槽10邻接地设置有药液处理槽16，在药液处理槽16的内部，在隔着基板1的传送路径L的上下两侧上，分别配设了多个向基板1的上下两面喷射药液的药液喷射喷嘴18。而且，基板1从药液处理槽16通过搬入口12被搬入水洗处理槽10内，在传送辊的支承下沿水平方向传送，通过搬出口从水洗处理槽10内搬出，向以下的干燥处理部(图中未示出)传送。而且，在水洗处理槽10的底部上形成有使从基板1上流到水洗处理槽10的内底部上的液体流出的液体回收口52，在该液体回收口52上连通连接有液体回收配管54。液体回收配管54连接在储存回收液56的回收罐58上。而且，回收罐58上连通连接有送液配管60的一端，虽然图中未示出，但送液配管60的前端连通连接在纯水喷射喷嘴14上。在该送液配管60上分别加装有过滤器62和泵64。虽然图中未示出，但在回收罐58上连接有用于补充纯水的纯水供给配管。在上述结构的处理装置中，当将上表面上附着有药液2的基板1从药液处理槽16内向水洗处理槽16内搬入时，在水洗处理槽10内，一边通过传送辊传送基板1一边从纯水喷射喷嘴14向基板1的上下两面上喷射纯水，将附着在基板1上的药液2置换成纯水。此时，向基板1的表面上喷射的纯水与附着在基板1的上表面上的药液2一起流到水洗处理槽10的内底部上。流到水洗处理槽10的内底部上的纯水和药液的混合液在水洗处理槽10的内底部上向液体回收口52流动，通过液体回收配管54从液体回收口52流入回收罐58内。然后，储存在回收罐58内的回收液56通过送液配管60返回纯水喷射喷嘴14而加以再利用。从而使纯水循环使用。如上所述，在一边使纯水和药液的混合液循环一边对基板进行处理的装置中，由于纯水和药液的混合液被再次利用，与附着在基板1上的药液进行置换，所以药液的浓度逐渐增加，置换效率逐渐降低。而且，由于使含有药液的液体通过液体回收配管54、回收罐58以及送液配管60循环，所以存在回收罐58的内表面、液体回收配管54和送液配管60的内表面、泵64的内部等被污染的问题。另一方面，当将从基板1上流到水洗处理槽10的内底部上的纯水和药液的混合液作为废液从水洗处理槽10内排出时，存在废液量增加、废液处理费用上升、而且纯水的使用量也增加而运行费用增加的问题。而且，例如在基板上形成配线图形的工艺中，在对基板的表面上形成的光致抗蚀剂膜进行显影的情况下，是采用通过传送辊一片一片横置地传送基板1，并在基板上洒上显影液，从洒上显影液开始到经过规定时间后使显影反应停止的传送辊式显影处理装置。这种显影处理装置的大致结构的一例示于图20中。图20中所示的显影处理装置具备具有入口侧开112a和出口侧开口112b的显影处理槽110，虽然图中未示出，但在显影处理槽110的内部并列地配设有多个传送辊。基板1通过入口侧开口112a被搬入显影处理槽110内，由传送辊支承而向水平方向传送，通过出口侧开口112b从显影处理槽110内搬出，送往以下的水洗处理槽114。在显影处理槽110内部的入口侧开112a的附近配设有显影液喷射喷嘴116。而且，在显影液处理槽110内部的出口侧开口112b的附近，在一个传送辊的正上方与传送辊相对向地配设有与由传送辊支承并传送的基板1的上表面一侧相接触的轧液辊118。另外，也可以取代设置轧液辊118，而使配设在显影处理槽110的出口侧开口112b附近的传送辊在与基板1的传送方向垂直的方向上倾斜，或者设置气刀。在与显影处理槽110邻接配设置的水洗处理槽114上，隔着双点化线所示的基板1的传送路径L，在其上下两侧上分别配设有多个向基板1的上下两面上喷射纯水的喷水喷嘴120。
而且，在显影处理槽110的底部上设置有使从基板1上流到显影处理槽110内底部上的显影液流出的液体回收口906，在该液体回收口906上连通连接有液体回收配管908。液体回收配管908连通连接在储存回收的显影液910的回收罐912上。而且，送液配管914的一端连通连接在回收罐912上，送液配管914的前端连通连接在显影液喷射喷嘴116上。在该送液配管914上分别加装有过滤器916和泵918。通过液体回收配管908、回收罐912，送液配管914、过滤器916、以及泵918构成液体循环系统。
在这种结构的显影处理装置中，当在表面上形成已曝光的光致抗蚀剂膜的基板1通过配设在显影处理槽110的入口侧开口112a附近的显影液喷射喷嘴116的正下方位置时，从显影液喷射喷嘴116成帘状喷射到基板1的整个宽度上的显影液3积存在表面上。积存了液体的基板1在由传送辊传送的期间进行光致抗蚀剂膜的显影反应。当基板1被传送到显影处理槽110的出口侧开口112b附近时，通过轧液辊118将显影液3从基板1上除去，之后，从显影处理槽110内搬出。然后，被送往以下的水洗处理槽114，通过用纯水进行水洗使光致抗蚀剂膜的显影反应完全停止。
在显影处理之际，从基板1上流到显影处理槽110的内底部上的使用后的显影液、以及在基板1未通过显影液喷射喷嘴116的正下方时从显影液喷射喷嘴116喷出、不经由基板1的面而直接流到显影处理槽110的内底部上的显影液在显影处理槽110的内底部上向液体回收口906流动，从液体回收口906通过液体回收配管908内流入回收罐912内。然后，流入回收罐912内并储存在其中的显影液910通过送液配管914被送往显影液喷射喷嘴116加以再利用。这样，显影液被循环使用。
在上述这种一边使处理液(在上述的例子中为显影液)循环一边对基板进行处理的装置中，在基板或基板附着物与显影液的反应生成物溶解在显影液中的情况下，即使再利用使用后的显影液也没有问题。但是，在生成了与显影液反应而不溶解在显影液中的物质的情况下，当使显影液循环加以使用时，将产生回收罐912的内表面、液体回收配管908或送液配管914的内表面、泵918的内部等被非溶解物污染的问题。而且，还存在加装在送液配管914上的过滤器916很快被堵塞，在最严重的情况下，将不能一边使显影液循环一边进行基板处理的问题。
另一方面，当不使显影液循环而从显影处理槽110的内底部排出废弃时，虽然不会产生上述问题，但由于在基板1不通过显影液喷射喷嘴116的正下方时从显影液喷射喷嘴116喷出并原封不动地流到显影处理槽110的内底部上的显影液也一起被废弃，所以存在显影液的利用率降低的问题。上述的问题不仅存在于显影处理装置中，在清洗、蚀刻、剥离处理等处理装置中也有可能发生。
本发明是鉴于上述问题而提出的，其第1目的在于提供一种基板处理装置，能够维持纯水等处理液的高利用率，降低处理液的使用量，减少废液量，同时维持高的处理效率，将液体的循环路径中各部件的污染降低到最小限度。
本发明的第2目的在于提供一种基板处理装置，能够一边使处理液循环一边进行基板的处理，维持处理液的高利用率，也不会在循环系统中产生问题。


本发明技术方案1为一种基板处理装置，在处理槽内，通过传送机构将基板向水平方向传送，并从处理液喷出机构向基板上喷出处理液，对基板进行处理，其特征是，具备区分成回收路径和排液路径地进行设置，将回收到上述回收路径中的处理液返回到上述处理液喷出机构中的液体循环系统，其中，所述回收路径回收从上述处理液喷出机构喷出的、未经由基板面而原封不动地流下的处理液，所述排液路径收集从上述处理液喷出机构向基板上喷出的、在基板上向与基板的传送方向垂直的方向的端部流动、从边缘处流下的使用后的处理液。
本发明技术方案2为一种基板处理装置，在处理槽内，通过传送机构将基板向水平方向传送，并从处理液喷出机构向基板上喷出处理液，对基板进行处理，其特征是，通过上述传送机构，以在与基板的传送方向垂直的方向上相对于水平面倾斜的姿势传送基板，同时，在上述处理槽的内底面上的、倾斜传送的基板的较低一侧边缘处的正下方位置附近，沿着基板的传送方向立设分隔板；由该分隔板分隔处理槽的内底部，将其区分成回收槽部和排液槽部，其中，所述回收槽部回收从上述处理液喷出机构喷出的、未经由基板面而原封不动地流下的处理液，所述排液槽部接收从处理液喷出机构向基板上喷出的、在基板上向较低一侧流动、从边缘处流下的使用后的处理液；具备将回收到上述回收槽部内的处理液返回上述处理液喷出机构中的液体循环系统，并具备排出流到上述排液槽部内的使用后的处理液的排液流路。
本发明技术方案3的特征为在技术方案2所记载的基板处理装置中，上述分隔板的上端配置成接近倾斜传送的基板的较低一侧的边缘处。
本发明技术方案4为一种基板处理装置，在处理槽内，通过传送机构以水平姿势将基板向水平方向传送，并从处理液喷出机构向基板上喷出处理液，对基板进行处理，其特征是，在上述处理槽的内底面上的、被传送的基板两侧的边缘处的正下方位置附近，沿着基板的传送方向分别设置分隔板，由各分隔板分别分隔处理槽的内底部，将其区分成回收槽部和排液槽部，其中，所述回收槽部回收从上述处理液喷出机构喷出的、未经由基板面而原封不动地流下的处理液，所述排液槽部接收从处理液喷出机构向基板上喷出的、在基板上向两侧流动、从两边缘处分别流下的使用后的处理液；具备将回收到上述回收槽部内的处理液返回到上述处理液喷出机构中的液体循环系统，并具备排出分别流到上述各排液槽部内的使用后的处理液的排液流路。
本发明技术方案5的特征为在技术方案4所记载的基板处理装置中，上述各分隔板的上端配置成分别接近传送的基板两侧的边缘处。
本发明技术方案6的特征为在技术方案2至5中任一项所记载的基板处理装置中，在上述处理槽的内底面上的、基板的搬入口一侧上，沿着与基板的传送方向相交叉的方向立设宽度方向的分隔板，由该宽度方向的分隔板分隔处理槽的内底部，形成接收从搬入处理槽内的基板的前端边缘处流下的液体的搬入口侧排液槽部，并将流到该搬入口侧排液槽部内的处理液排出。
本发明技术方案7的特征为在技术方案6所记载的基板处理装置中，上述搬入口侧排液槽部与上述排液槽部相连通。
本发明技术方案8为一种基板处理装置，在处理槽内，通过传送机构将基板向水平方向传送，并从处理液喷出机构向基板上喷出处理液，对基板进行处理，其特征是，通过上述传送机构，以在与基板的传送方向垂直的方向相对于水平面倾斜的姿势传送基板，同时在上述处理槽的内部的、倾斜传送的基板较低一侧的边缘处的正下方位置附近，沿着基板的传送方向横向设置排液流槽，所述排液流槽接收从上述处理液喷出机构向基板上喷出的、在基板上向较低一侧流动、从边缘处流下的使用后的处理液；具备将从上述处理液喷出机构喷出的、未经由基板面而原封不动地流下被回收到上述处理槽内底部上的处理液返回上述处理液喷出机构中的液体循环系统，并具备排出流到上述排液流槽内的使用后的处理液的排液流路。
本发明技术方案9为一种基板处理装置，在处理槽内，通过传送机构以水平姿势将基板向水平方向传送，并从处理液喷出机构向基板上喷出处理液，对基板进行处理，其特征是，在上述处理槽的内部的、传送的基板两侧的边缘处的正下方位置附近，沿着基板的传送方向横向设置一对排液流槽，所述排液流槽接收从上述处理液喷出机构向基板上喷出的、在基板上向两侧流动、从两边缘处分别流下的使用后的处理液；具备将从上述处理液喷出机构喷出的、未经由基板面而原封不动地流下被回收到上述处理槽内底部上的处理液返回上述处理液喷出机构中的液体循环系统，并具备排出分别流到上述各排液流槽内的使用后的处理液的排液流路。
本发明技术方案10的特征为在技术方案4、5或9所记载的基板处理装置中，由上述传送机构将基板支承成在与基板的传送方向垂直的方向上，基板的中央部高于基板的两端部。
本发明技术方案11的特征为在技术方案4、5或9所记载的基板处理装置中，以相对于基板表面分别向与基板的传送方向垂直的方向上的基板两端部倾斜的方式从上述处理液喷出机构向基板上喷出处理液。
本发明技术方案12的特征为在技术方案4、5或9所记载的基板处理装置中，在由上述传送机构传送的基板的前后两端侧边缘处的正下方位置附近，沿着与基板的传送方向垂直的方向，配设一对接收从基板的前后两端侧边缘处分别流下的使用后的处理液的辅助排液流槽，将该一对辅助排液流槽支承成与基板的移动同步地向水平方向移动，具备排出分别流到上述各辅助排液流槽内的使用后的处理液的辅助排液流路。
本发明技术方案13的特征为在技术方案1所记载的基板处理装置中，上述处理槽为用纯水清洗基板的水洗处理槽，与该水洗处理槽的基板搬入口一侧相邻接地设置用药液对基板进行处理的药液处理槽。
本发明技术方案14为一种基板处理装置，在处理槽内，一边传送基板一边从处理液喷出机构向基板上排出处理液，对基板进行处理，其特征是，分隔上述处理槽的内底部，形成回收从上述处理液喷出机构喷出的、未经由基板面而原封不动地流下的处理液的回收槽部，而且，在上述处理液喷出机构的下方配设回收从处理液喷出机构喷出的、未经由基板面而原封不动地流下的处理液的回收容器，设置将回收到上述回收槽部或者回收容器中的处理液返回上述处理液喷出机构、使处理液循环的处理液循环机构，并设置排出从上述处理液喷出机构向基板上喷出的、从基板上流到上述处理槽内底部上的使用后的处理液的排液流路。
本发明技术方案15的特征为在技术方案14所记载的基板处理装置中，具备清洗机构，该清洗机构用清洗液清洗与从基板上流下的使用后的处理液相接触的上述处理槽的内壁面或者处理槽内部的部件。
本发明技术方案16的特征为在技术方案15所记载的基板处理装置中，与上述处理槽相邻接地设置用纯水清洗基板的水洗处理槽，该水洗处理槽使用后的纯水在上述清洗机构中作为清洗液使用。
本发明技术方案17的特征为在技术方案14至16中任一项所记载的基板处理装置中，使上述排液流路分支，将分支路连通连接在上述处理液循环机构上，在分支位置上加装流路切换机构。
本发明技术方案18的特征为在技术方案15所记载的基板处理装置中，使上述排液流路分支，将分支路连通连接在上述处理液循环机构上，在分支位置上加装流路切换机构，在通过将从基板上流下的使用后的处理液通过上述排液流路、经由上述分支路送往上述处理液循环机构而让使用后的处理液循环时，处理液在上述清洗机构中作为清洗液使用。
本发明技术方案19的特征为在技术方案14所记载基板处理装置中，设置储存回收到上述回收槽部或者回收容器中的处理液的罐，在该罐上附设对该罐内的处理液成分进行管理的管理装置。
在本发明技术方案1的基板处理装置中，在处理槽内，通过传送机构将基板向水平方向传送，并从处理液喷出机构向基板上喷出处理液，对基板进行处理。而且，基板处理中使用的处理液向与基板的传送方向垂直的方向的端部流动，从基板的边缘处流下。从基板的边缘处流下的使用后的处理液被收集在排液路径中，通过排液路径排出。另一方面，从处理液喷出机构喷出的、未经由基板面而原封不动地流下的处理液被回收到回收路径中，通过液体循环系统返回到处理液喷出机构中加以再利用。因此，由于使用后的处理液不会被再利用而被废弃，所以基板的处理效率不会较低，而且，由于使用后的处理液不会通过液体循环系统而流动，所以液体循环系统中各部件的污染也降低到最小限度。另一方面，由于回收到回收路径中的处理液被再利用，所以维持了高的处理液利用效率，降低了处理液的使用量，废液量也减少。
在本发明技术方案2的基板处理装置中，由于以在与传送方向垂直的方向上相对于水平面倾斜的姿势传送基板，所以从处理液喷出机构向基板上喷出的、用于基板处理的处理液在基板上向较低的一侧流动，从基板的边缘处流下。此时，由于在基板的较低一侧的边缘处正下方位置附近立设分隔板，由该分隔板将处理槽的内底部区分成回收槽部和排液槽部，所以从基板的边缘处流下的使用后的处理液流到排液槽部内，通过排液流路排出。另一方面，从处理液喷出机构喷出的、未经由基板面而原封不动地流下的处理液被回收到回收槽部内，通过液体循环系统返回到处理液喷出机构中加以再利用。因此，由于使用后的处理液不会被再利用而废弃，所以基板的处理效率不会降低，而且，由于使用后的处理液不会通过液体循环系统而流动，所以液体循环系统中各部件的污染也降低到最小限度。另一方面，由于回收到回收槽部内的处理液被再利用，所以维持了高的处理液利用效率，降低了处理液的使用量，废液量也减少。
在本发明技术方案3的基板处理装置中，在基板上向较低一侧流动、从基板的边缘处流下的使用后的处理液可靠地流到排液槽部内，不会越过分隔板的上端而流到回收槽部内。
在本发明技术方案4的基板处理装置中，在处理槽内，通过传送机构以水平姿势将基板向水平方向传送，并从处理液喷出机构向基板上喷出处理液，对基板进行处理。而且，用于基板处理后的处理液在基板上向两侧流动，从基板的两边缘处分别流下。此时，在基板两侧边缘处的正下方位置附近分别立设分隔板，由各分隔板分隔处理槽的内底部，将其区分成回收槽部和一对排液槽部，所以从基板的两边缘处分别流下的使用后的处理液流到各排液槽部内，通过排液流路排出。另一方面，从处理液喷出机构喷出的、未经由基板面而原封不动地流下的处理液被回收到回收槽部内，通过液体循环系统返回到处理液喷出机构中加以再利用。因此，由于使用后的处理液不会被再利用而废弃，所以基板的处理效率不会降低，而且，由于使用后的处理液不会通过液体循环系统而流动，所以液体循环系统中各部件的污染也降低到最小限度。另一方面，由于回收到回收槽部内的处理液被再利用，所以维持了高的处理液利用效率，降低了处理液的使用量，废液量也减少。
在本发明技术方案5的基板处理装置中，在基板上向两侧流动、从基板的两边缘处分别流下的使用后的处理液可靠地流到各排液槽部内，不会越过分隔板的上端流到回收槽部内。
在本发明技术方案6的基板处理装置中，在基板的搬入口附近，当前级的处理中使用过的、附着在基板上的处理液从基板的前端侧边缘处流下时，或者从处理液喷出机构朝向基板传送方向的前方向基板上喷出的处理液从基板的前端侧边缘处流下时，由于在基板的搬入口一侧立设有宽度方向的分隔板，由该宽度方向的分隔板将处理槽的内底部分隔，形成搬入口侧排液槽部，所以从基板的前端侧边缘处流下的液体流到搬入口侧排液槽部内并被排出。
在本发明技术方案7的基板处理装置中，流到搬入口侧排液槽部内的液体与流到排液槽部内的使用后的处理液一起通过排液流路排出。
在本发明技术方案8的基板处理装置中，由于基板是以在水平方向上相对于水平面倾斜的姿势传送的，所以从处理液喷出机构向基板上喷出的用于基板处理后的处理液在基板上向较低一侧流动、从基板的边缘处流下。此时，由于在基板较低一侧的边缘处的正下方位置附近，沿着基板的传送方向横向设置有排液流槽，所以从基板的边缘处流下的使用后的处理液流到排液流槽内，通过排液流路排出。另一方面，从处理液喷出机构排出的、未经由基板面而原封不动地流下的处理液被回收到处理槽的内底部，通过液体循环系统返回到处理液喷出机构中加以再利用。因此，由于使用后的处理液不会被再利用而废弃，所以基板的处理效率不会降低，而且，由于使用后的处理液不会通过液体循环系统而流动，所以液体循环系统中各部件的污染也降低到最小限度。另一方面，由于回收到处理槽内底部的处理液被再利用，所以维持了高的处理液利用效率，降低了处理液的使用量，废液量也减少。
在本发明技术方案9的基板处理装置中，在处理槽内，通过传送机构以水平姿势将基板向水平方向传送，并从处理液喷出机构向基板上喷出处理液，对基板进行处理。并且，用于基板处理后的处理液在基板上向两侧流动，从基板的两边缘处分别流下。此时，由于在基板两侧的边缘处的正下方位置附近，分别沿着基板的传送方向横向设置有排液流槽，所以从基板的两边缘处分别流下的使用后的处理液流到各排液流槽内，通过排液流路排出。另一方面，从处理液喷出机构喷出的、未经由基板面而原封不动地流下的处理液被回收到处理槽的内底部，通过液体循环系统返回到处理液喷出机构中加以再利用。因此，由于使用后的处理液不会被再利用而废弃，所以基板的处理效率不会降低，而且，由于使用后的处理液不会通过液体循环系统而流动，所以液体循环系统中各部件的污染也降低到最小限度。另一方面，由于回收到理槽内底部的处理液被再利用，所以维持了高的处理液利用效率，降低了处理液的使用量，废液量也减少。
在本发明技术方案10的基板处理装置中，由于基板是被支承成在与传送方向垂直的方向上、中央部高于两端部地传送的，所以从处理液喷出机构向基板上喷出的、用于基板处理后的处理液在基板的中央部上向左右分开，不会滞留在基板上，在基板上从中央部分别向两端部流动，从基板的边缘处流下。
在本发明技术方案11的基板处理装置中，由于是相对于基板表面以分别向与基板的传送方向垂直的方向上的基板两端部一侧倾斜的方式喷出处理液，所以从处理液喷出机构向基板上喷出的处理液形成分别朝向两端部的流股，处理液在基板上分别向两端部流动，从基板的边缘处流下。
在本发明技术方案12的基板处理装置中，在通过传送机构传送基板时，即使从处理液喷出机构向基板上喷出的、用于基板处理后的处理液从基板的前后两端侧边缘处分别流下，由于在基板的前后两端侧边缘处的正下方位置附近，沿着与基板的传送方向垂直的方向配设一对辅助排液流槽，该一对辅助排液流槽被支承成与基板的移动同步地向水平方向移动，所以从基板的前后两端侧边缘处分别流下的使用后的处理液流到各辅助排液流槽内，通过辅助排液流路排出。
在本发明技术方案13的基板处理装置中，在药液处理槽中用于基板处理、附着在基板上的药液通过在水洗处理槽中用纯水清洗基板而被除去，被纯水置换。
在本发明技术方案14的基板处理装置中，从处理液喷出机构喷出的、未经由基板面而原封不动地流下的处理液被回收到处理槽的回收槽部或者回收容器中，通过处理液循环机构从回收槽部或者回收容器返回到处理液喷出机构中，使其循环使用。并且，该处理液由于未经由基板面，所以不会含有非溶解物。因此，并不担心发生液体循环系统中，罐的内表面、配管的内表面、泵的内部等被非溶解物污染这样的问题，另一方面，从处理液喷出机构向基板上喷出的、从基板上流到处理槽的内底部上的使用后的处理液通过排液流路被排出。因此，即使在该处理液中含有非溶解物也没有问题。
在本发明技术方案15的基板处理装置中，由于通过清洗机构，用清洗液清洗与从基板上流下的使用后的处理液相接触的处理槽的内壁面或者处理槽内部的部件，所以即使在使用后的处理液中含有非溶解物，该非溶解物附着在处理槽的内壁面或者处理槽内部的部件上，该非溶解物也被洗掉。因此，防止了处理槽的内壁面或者处理槽内部的部件的污染。
在本发明技术方案16的基板处理装置中，由于与处理槽相邻接的水洗处理槽中使用后的纯水在冲洗机构中作为清洗液使用，所以节约了清洗液。
在本发明技术方案17的基板处理装置中，当从基板上流到处理槽内底部上的使用后的处理液中含有非溶解物时，通过排液流路将使用后的处理液原封不动地排出。另一方面，在从基板上流到处理槽内底部上的处理液中未含有非溶解物时，通过流路切换机构将使用后的处理液从排液流路内向分支路内流入地切换流路，使用后的处理液通过分支路流向处理液循环机构。这样，在因基板的种类不同而使用后的处理液中未含有非溶解物时，通过将使用后的处理液循环使用，减少了处理液的使用量。
在本发明技术方案18的基板处理装置中，当从基板上流到处理槽内底部上的使用后的处理液中含有非溶解物时，通过排液流路将使用后的处理液原封不动地排出。另一方面，当从基板上流到处理槽内底部上的处理液中未含有非溶解物时，通过流路切换机构将使用后的处理液从排液流路内流入分支路内地切换流路，使用后的处理液通过分支路流向处理液循环机构，这样，在因基板的种类不同而使用后的处理液中未含有非溶解物时，通过将使用后的处理液循环使用，降低了处理液的使用量。而且，当使从基板上流下的使用后的处理液循环使用时，由于处理液在清洗机构中作为清洗液使用，所以使用于处理槽的内壁面或者处理槽内部的部件清洗后的处理液(清洗液)也循环，可在基板的处理以及处理槽内壁面等的清洗中使用。
在本发明技术方案19的基板处理装置中，用于通过管理装置对罐内的处理液的成分进行管理，所以可消除被污染或劣化的处理液循环地用于基板的处理中的问题。
当使用本发明技术方案1、技术方案2、技术方案4、技术方案8、以及技术方案9的基板处理装置时，可维持高的纯水等处理液的利用效率，减少处理液的使用量，同时废液量可也减少。而且，在维持高的基板处理效率的同时，还可以将液体的循环路径中各部件的污染抑制在最小限度。
在本发明技术方案3的基板处理装置中，能够可靠地将在基板上向较低一侧流动、从基板的边缘处流下的使用后的处理液作为废液排出。
在技术方案5的基板处理装置中，能够可靠地将在基板上向两侧流动、从基板的两边缘处分别流下的使用后的处理液作为废液排出。
在本发明技术方案6的基板处理装置中，能够在基板的搬入口附近将从基板的前端侧边缘处流下的液体作为废液排出。
在本发明技术方案7的基板处理装置中，能够在基板的搬入口附近将从基板的前端侧边缘处流下的液体与流到排液槽部内的使用后的处理液一起作为废液排出。
在本发明技术方案10和技术方案11的基板处理装置中，能够使从处理液喷出机构向基板上喷出的、用于基板处理后的处理液不会在基板上滞留地向基板的两端部分别流动，从基板的边缘处流下。
在本发明技术方案12的基板处理装置中，能够将在基板传送时从基板的前后两端侧边缘处分别流下的使用后的处理液作为废液排出。
在本发明技术方案13的基板处理装置中，在将药液处理槽中使用的、附着在基板上的药液在水洗处理槽中从基板上除去、由纯水置换的处理中，能够减少纯水的使用量。
当使用本发明技术方案14的基板处理装置时，能够一边使处理液循环一边进行基板的处理，并且，由于能够仅将处理中使用的液体分离、排出，所以能够维持高的处理液利用效率，同时不会在液体循环系统中产生问题。而且，在处理时也无需进行复杂的控制。
在本发明技术方案15的基板处理装置中，能够防止内壁面或者处理槽内部的部件的污染。
在本发明技术方案16的基板处理装置中，能够节约为了防止处理槽的内壁面或者处理槽内部的部件的污染而使用的清洗液。
在本发明技术方案17的基板处理装置中，由于当因基板的种类不同而使用后的处理液中未含有非溶解物时，能够将使用后的处理液循环使用，所以可减少处理液的使用量。
在本发明技术方案18的基板处理装置中，由于当因基板的种类不同而使用后的处理液中未含有非溶解物时，能够将使用后的处理液循环使用，所以可减少处理液的使用量。而且，当将从基板上流下的使用后的处理液循环使用时，使用于处理槽的内壁面或者处理槽内部的部件的清洗的处理液也循环，用于基板的处理以及处理槽内壁面等的清洗中，所以也能够节约处理液(清洗液)。
在本发明技术方案19的基板处理装置中，由于不必担心被污染或劣化的处理液循环用于基板的处理中，所以能够维持基板的处理品质。


图1示出本发明第1实施方式的一例，是示意表示基板处理装置大致结构的俯视图。
图2是图1中的II-II向剖视图。
图3是图1中的III-III向剖视图。
图4示出本发明第1实施方式的另一例，是示意表示基板处理装置大致结构的俯视图。
图5示出本发明第1实施方式的另一例，是示意表示基板处理装置大致结构的俯视图。
图6是图5中的VI-VI向剖视图。
图7示出本发明第1实施方式的另一例，是示意表示基板处理装置大致结构的俯视图。
图8是图7中的VIII-VIII向剖视图。
图9示出本发明第1实施方式的另一例，是示意表示基板处理装置大致结构的俯视图。
图10是图9中的X-X向剖视图。
图11示出以水平姿式将基板向水平方向传送时，用于使喷出到基板上的纯水容易在基板上流动的构成例，是示意表示基板处理装置一部分的侧视图。
图12示出用于使喷出到基板上的纯水容易在基板上流动的其他构成例，是示意表示基板处理装置一部分的侧视图。
图13是示意表示图9中所示的基板处理装置的变型例的俯视图。
图14示出本发明第2实施方式的一例，是示意表示作为基板处理装置之一的显影处理装置大致结构的侧视图。
图15示出显影处理槽的清洗机构与图14所示不同的例子，是示意表示显影处理装置大致结构的侧视图。
图16示出本发明第2实施方式的另一例，是示意表示显影处理装置大致结构的侧视图。
图17示出按照第2实施方式中使用的显影液的种类设置显影液喷射喷嘴的例子，是示意表示显影处理装置大致结构的侧视图。
图18示出按照第2实施方式中使用的显影液的种类可进行处理操作的其他例子，是示意表示显影处理装置大致结构的侧视图。
图19是示意表示现有的基板处理装置大致结构的一例的侧视图。
图20是示意表示现有的基板处理装置大致结构的一例的侧视图。

1.第1实施方式以下，参照图1至图13对本发明第1实施方式加以说明。
图1至图13示出本发明第1实施方式的一例，图1是示意表示基板处理装置大致结构的俯视图，图2和图3是图1中的II-II向剖视图和III-III向剖视图。在该基板处理装置中，由于进行基板处理的主要部分的结构和动作和对图19进行说明的现有的装置相同，所以在图1至图3中将相同的部件也标上图19中采用的符号，省略其重复的说明。
在这种基板处理装置中，虽然图中未示出，但并列配设在水洗处理槽10内部的多个传送辊均被支承为在与基板1的传送方向垂直的方向上倾斜。而且，如图3所示，基板1是以在与其传送方向垂直的方向上倾斜的姿式向水平方向传送。另外，图2中，为了便于表示，未将基板1描绘成倾斜姿式。而且，为了不使从纯水喷射喷嘴14喷出的纯水经由从药液处理槽16内搬入水洗处理槽10内的基板1的上表面而流向上游侧的药液处理槽16内，如图2所示，设置在纯水喷射喷嘴14中距水洗处理槽10的搬入口12最近的位置上的纯水喷射喷嘴14a是以朝向基板1的传送方向的前方喷出纯水的方式配置喷出口。另外，在这种基板处理装置中，水洗处理槽10的内底部被分隔板20和宽度方向的分隔板22分隔，将水洗处理槽10的内底部区分为回收槽部24和L字形的排液槽部26。
分隔板20沿着基板1的传送方向立设在水洗处理槽10的内底面上的、被倾斜传送的基板1较低一侧的边缘处的正下方位置上。分隔板20的上端如图3(a)所示，优选地配置成接近基板1的较低一侧的边缘。而且，宽度方向的分隔板22沿着与基板1的传送方向垂直的方向立设在基板1的搬入口12一侧。而且，宽度方向的分隔板22的一端部呈钩形地连接在分隔板20的一端部上。
而且，在水洗处理槽10的回收槽部24的底部上设置有液体回收口28，在该液体回收口28上连通连接有液体回收配管30。液体回收配管30连通连接在储存回收液32的回收罐34上。而且，在回收罐34上连通连接有分别加装了过滤器38和泵40的送液配管36的一端，虽然图中未示出，但送液配管36的前端连通连接在纯水喷射喷嘴14、14a上。另一方面，在水洗处理槽10的排液槽部26的底部上设置有液体排出口42，在该液体排出口42上连通连接有排液管44。
在具备上述结构的基板处理装置中，如图3(a)所示，当基板1通过纯水喷射喷嘴14的设置位置时，从纯水喷射喷嘴14向基板1上喷出的纯水与附着在基板1的上表面上的药液2一起在基板1上向较低的一侧流动，从基板1的边缘处流下。而且，从纯水喷射喷嘴14向基板1的下表面上喷出的纯水的一部分沿着基板1的下表面向基板1的较低一侧流动，从基板1的边缘处流下。从基板1的边缘处流下的纯水和药液的混合液流到排液槽部26内，从排液槽部26内通过液体排出口42向排液管44内流出，通过排液管44，作为废液被排出。而且，从纯水喷射喷嘴14向基板1的下表面一侧喷出的纯水的一部分从基板1的下表面滴落，流到回收槽部24内。然后，回收到回收槽部24内的少量的纯水从回收槽部24内通过液体回收口28向液体回收配管30内流出，通过液体回收配管30流入回收罐34内。这样，储存在回收罐34内的回收液32通过送液配管36返回到纯水喷射喷嘴14、14a而被再利用。另外，此时从下侧的纯水喷射喷嘴14喷出的纯水虽然在碰到基板1后其一部分返回到回收罐34，但实际上不会产生不良情况。即，在附着在基板1的下表面上的药液中，由于重力的作用，与上表面相比，下表面上只附着了少量的药液。因此，碰到基板1的下表面上的纯水只含有非常少的药液，所以即使返回到回收罐34再利用，实际上也不会产生不良情况。而且，由于在药液处理槽16中，有时也采用除去附着在基板1的下表面上的药液的轧液辊，在这种情况下进入水洗处理槽10中的、基板1的下表面上附着的药液更少，所以实际上不会产生不良情况。
另一方面，如图3(b)所示，当基板1未通过纯水喷射喷嘴14的设置位置时，从纯水喷射喷嘴14喷出的纯水不经由基板1的表面而原封不动地流到回收槽部24内。流到回收槽部24内被回收的大量的纯水从回收槽部24内通过液体回收口28向液体回收配管30内流出，通过液体回收配管30流到回收罐34内。然后，储存在回收罐34内的回收液(纯水)32通过送液配管36返回到纯水喷射喷嘴14、14a被再利用。在这种情况下，纯水几乎不会流到排液槽部26内，从排液槽部26内通过排液管44排出的废液量也非常少。
而且，在水洗处理槽10的搬入口12附近，由于从纯水喷射喷嘴14a，朝向基板1的传送方向的前方相对从药液处理槽16内搬入到水洗处理槽10内、附着有药液的基板1喷出纯水，所以喷出到基板1上的纯水与附着在基板1的上表面上的药液2一起在基板1上向前方一侧流到，从基板1的前端侧边缘处流下。从基板1的前端侧边缘处流下的纯水和药液的混合液流到由宽度方向的分隔板22从回收槽部24分隔出来的排液槽部26内，在排液槽部26的内底面上向液体排出口42流动。然后，从排液槽部26内通过液体排出口42向排液管44内流出，通过排液管44，作为废液排出。
如上所述，在这种基板处理装置中，由于使用后的纯水几乎不再利用而与药液一起作为废液排出，在基板1的清洗处理中使用纯水，所以基板1的处理效率不会降低。而且，由于纯水和药液的混合液不会在液体回收配管30内、回收罐34内、送液配管36内、以及泵40的内部流动，所以可最小限度地抑制这些部件被药液污染。另一方面，由于回收到回收槽部24内的纯水被再次利用，所以能够使纯水的使用量减少，而且也减少了废液量。
在上述的基板处理装置中，纯水喷射喷嘴14中设置在最靠近水洗处理槽10的搬入口12的位置上的纯水喷射喷嘴14a以朝向基板1的传送方向前方喷出纯水的方式配置喷出口。而且，为了不使纯水经由从水洗处理槽10内搬入的基板1的上表面流入上游侧的药液处理槽16内，也可以在水洗处理槽10的搬入口12附近设置气刀，但在具备这种结构的装置中，要如上述实施方式所述，将排液槽部26制成L字形，使从向水洗处理槽10内搬入的基板1的前端侧边缘处流下的纯水和药液流到排液槽部26内。而在从搬入到水洗处理槽10内的基板1的前端侧边缘处流下的纯水和药液的量并不太多的情况下，如图4的俯视图所示，也可以不设置宽度方向的分隔板22，在水洗处理槽10的全长上沿着基板1的传送方向立设分隔板46，通过该分隔板46将水洗处理槽10的内底部区分为回收槽部48和排液槽部50。
在第1实施方式中，通过排液管44排出的液体作为废液废弃了，但在本发明中，并不意味着排出的液体就一定是废液。例如，在药液处理槽的下游连续地设置两个水洗处理槽的情况下，可考虑将本发明用于两个水洗处理槽中，成为以下的结构。即，在下游侧的水洗处理槽中，为了进行水洗而使用新的未经使用的纯水。这样，在下游侧的水洗处理槽中从排液管44排出的液体并不是废液，而是送往上游侧的水洗处理槽，在上游侧的水洗处理槽中，能够作为新液用于水洗。这是由于在搬入上游侧的水洗处理槽中的基板上附着了大量的药液，而搬入下游侧的水洗处理槽中的基板已在上游侧的水洗处理槽中进行了清洗，附着的药液非常少的缘故。也可以说是，在下游侧的水洗处理槽中，从排液管44排出的液体只含有非常少量的药液，为可在上游侧的水洗处理槽中作为新液使用的程度。这样，通过将在下游侧的水洗处理槽中从排液管44排出的液体送往上游侧的水洗处理槽中加以再利用，能够进一步降低纯水的使用量。
而且，在上述的例子中，是将排液槽部26制成使由分隔板20形成的部分和由宽度方向的分隔板22形成的部分连通的整体为L字形，但也可以从这两部分上分别设置排液管，将双方的排液管连接在回收罐34上。
图5和图6示出本发明第1实施方式的另一例，图5是示意表示基板处理装置大致结构的俯视图，图6是图5中的VI-VI向剖视图。在这种基板处理装置中，由于进行基板处理的主要部分的结构和动作也和对图19进行说明的现有的装置相同，所以省略重复的说明。而且，在图5和图6中标有与图1至图3中使用的附图标记相同的附图标记的部件表示具有和对图1至图3进行说明的上述部件相同功能的部件，省略对其重复的说明。
在这种基板处理装置中，虽然图中未示出，但并列配设在水洗处理槽10内部的多个传送辊也均被支承为在与基板1的传送方向垂直的方向上倾斜。如图6所示，基板1是以在与其传送方向垂直的方向上倾斜的姿式向水平方向传送。这样，在这种基板处理装置中，在水洗处理槽10的内部，沿着基板1的传送方向横向设置排液流槽66。该排液流槽66配置在倾斜地传送的基板1的较低一侧的边缘处的正下方位置附近。而且，在排液流槽66的底部上设置有液体排出口68，在该液体排出口68上连通连接有排液管70。
另一方面，在水洗处理槽10的内底部上设置有液体回收口72，在该液体回收口72上连通连接有液体回收配管74。虽然图中未示出，但与图1至图3中所示的装置一样，液体回收配管74连通连接在储存回收液的回收罐上，在回收罐上连通连接有分别加装了过滤器和泵的送液配管的一端，送液配管的前端连通连接在纯水喷射喷嘴14、14a上。
在具备上述结构的基板处理装置中，如图6所示，当基板1通过纯水喷射喷嘴14的设置位置时，从纯水喷射喷嘴14向基板1上喷出的纯水与附着在基板1的上表面上的药液2一起在基板1上向较低的一侧流动，从基板1的边缘处流下。而且，从纯水喷射喷嘴14向基板1的下表面上喷出的纯水的一部分沿着基板1的下表面向基板1的较低一侧流动，从基板1的边缘处流下。从基板1的边缘处流下的纯水和药液的混合液流到排液流槽66内，从排液流槽66内通过液体排出口68向排液管70内流出，通过排液管70，作为废液被排出。而且，从纯水喷射喷嘴14向基板1的下表面一侧喷出的纯水的一部分从基板1的下表面滴落，流到水洗处理槽10的内底部。然后，回收到水洗处理槽10的内底部的少量的纯水从水洗处理槽10的内底部通过液体回收口72向液体回收配管74内流出，通过液体回收配管74流入回收罐内。这样，储存在回收罐内的回收液通过送液配管返回到纯水喷射喷嘴14、14a而被再利用。
另一方面，当基板1未通过纯水喷射喷嘴14的设置位置时，从纯水喷射喷嘴14喷出的纯水不经由基板1的表面而原封不动地流到水洗处理槽10的内底部。流到水洗处理槽10的内底部被回收的大量的纯水从水洗处理槽10的内底部通过液体回收口72向液体回收配管74内流出，通过液体回收配管74流到回收罐内。然后，储存在回收罐内的回收液(纯水)通过送液配管返回到纯水喷射喷嘴14、14a被再利用。在这种情况下，纯水几乎不会流到排液流槽66内，从排液流槽66内通过排液管70排出的废液量也非常少。
如上所述，在这种基板处理装置中，由于使用后的纯水几乎不再利用而与药液一起作为废液排出，在基板1的清洗处理中使用纯水，所以基板1的处理效率不会降低。而且，由于纯水和药液的混合液不会在液体回收配管74内、回收罐内、送液配管内、以及泵的内部等流动，所以可最小限度地抑制这些部件被药液污染。另一方面，由于回收到水洗处理槽10的内底部的纯水被再次利用，所以能够使纯水的使用量减少，而且也减少了废液量。
图7和图8示出本发明第1实施方式的另一例，图7是示意表示基板处理装置大致结构的俯视图，图8是图7中的VIII-VIII向剖视图。在这种基板处理装置中，由于进行基板处理的主要部分的结构和动作也和对图19进行说明的现有的装置相同，所以省略重复的说明。而且，在图7和图8中标有与图1至图3中使用的附图标记相同的附图标记的部件表示具有和对图1至图3进行说明的上述部件相同功能的部件，省略对其重复的说明。
在这种基板处理装置中，虽然图中未示出，但并列配设在水洗处理槽10内部的多个传送辊也均是沿着水平方向被支承，如图8所示，基板1是以水平姿式向水平方向传送。这样，在这种基板处理装置中，水洗处理槽10的内底部由一对分隔板76a、76b以及宽度方向的分隔板78分隔，将水洗处理槽10的内底部区分成回收槽部80和一对排液槽部82a、82b以及搬入口侧排液槽部84。
一对隔板76a、76b分别沿着基板1的传送方向立设在水洗处理槽10的内底部上、以水平姿式传送的基板1两侧的边缘处的正下方位置附近。分隔板76a、76b的上端如图8所示，最好分别靠近基板1两侧的边缘处地配置。而且，宽度方向的分隔板78沿着与基板1的传送方向垂直的方向立设在水洗处理槽10的内底面上的基板1的搬入口一侧。这样，宽度方向的分隔板78的两端部分别呈钩形地连接在各分隔板76a、76b的一端部上，一对排液槽部82a、82b以及搬入口侧的排液槽部84相互连通连接在流路上。
而且，在水洗处理槽10的回收槽部80的底部上设置有液体回收口86，在该液体回收86上连通连接有液体回收配管88。虽然图中未示出，但液体回收配管88与图1至图3中所示的装置一样，连通连接在储存回收液的回收罐上，回收罐上流通连接有分别加装了过滤器和泵的送液配管的一端，送液配管的前端连通连接在纯水喷射喷嘴14、14a上。另一方面，在水洗处理槽10的排液槽部82a的底部上设置有液体排出口90，在该液体排出口90上连通连接有排液管92。
在具有上述结构的基板处理装置中，如图8所示，当基板1通过纯水喷射喷嘴14的设置位置时，从纯水喷射喷嘴14向基板1上喷出的纯水与附着在基板1的上表面上的药液2一起在基板1上向两侧流动，分别从基板1的两边缘处流下。而且，从纯水喷射喷嘴14向基板1的下表面一侧喷出的纯水的一部分沿着基板1的下表面向基板1两侧流动，从基板1的两边缘处流下。分别从基板1的两边缘处流下的纯水和药液的混合液分别流到各排液槽部82a、82b内，从排液槽部82a、82b内通过液体排出口90向排液管92内流出，通过排液管92，作为废液被排出。而且，从纯水喷射喷嘴14向基板1的下表面一侧喷出的纯水的一部分从基板1的下表面滴落，流到回收槽部80内。然后，回收到回收槽部80内的少量的纯水从回收槽部80通过液体回收口86向液体回收配管88内流出，通过液体回收配管88流入回收罐内。这样，储存在回收罐内的回收液通过送液配管返回到纯水喷射喷嘴14、14a而被再利用。
另一方面，当基板1未通过纯水喷射喷嘴14的设置位置时，从纯水喷射喷嘴14喷出的纯水不经由基板1的表面而原封不动地流到回收槽部80内。流到回收槽部80内被回收的大量的纯水从回收槽部80内通过液体回收口86向液体回收配管88内流出，通过液体回收配管88流入回收罐内。然后，储存在回收罐内的回收液(纯水)通过送液配管返回到纯水喷射喷嘴14、14a被再利用。在这种情况下，纯水几乎不会流到排液槽部82a、82b内，从排液槽部82a、82b内通过排液管92排出的废液量也非常少。
而且，在水洗处理槽10的搬入口附近，朝向基板1的传送方向的前方相对从药液处理槽16内搬入到水洗处理槽10内、附着有药液的基板1喷出纯水，所以喷出到基板1上的纯水与附着在基板1的上表面上的药液2一起在基板1上向前方一侧流动，从基板1的前端侧边缘处流下。从基板1的前端侧边缘处流下的纯水和药液的混合液流到由宽度方向的分隔板78从回收槽部80分隔出来的搬入口侧排槽液部84内，在搬入口侧排液槽部84的内底面上向液体排出口90流动。然后，从排液槽部82a内通过液体排出口90向排液管92内流出，通过排液管92，作为废液排出。
在这种基板处理装置中，也与图1至图3中所示的装置相同，基板1的处理效率不会降低，而且，可最小限度地抑制液体回收配管88内、回收罐内、送液配管内、以及泵的内部等部件被药液污染。另一方面，能够获得减少纯水的使用量，而且也减少了废液量的作用和效果。
图9和图10示出本发明第1实施方式的另一例，图9是示意表示基板处理装置大致结构的俯视图，图10是图9中的X-X向剖视图。在这种基板处理装置中，由于进行基板处理的主要部分的结构和动作也和对图19进行说明的现有的装置相同，所以省略重复的说明。而且，在图9和图10中标有与图1至图3中使用的附图标记相同的附图标记的部件表示具有和对图1至图3进行说明的上述部件相同功能的部件，省略对其重复的说明。
在这种基板处理装置中，虽然图中未示出，但并列配设在水洗处理槽10内部的多个传送辊也均被支承为水平，如图10所示，基板1是以水平姿式向水平方向传送。这样，在这种基板处理装置中，在水洗处理槽10的内部，沿着基板1的传送方向横向设置一对排液流槽49a、49b。该一对排液流槽49a、49b分别配置在以水平姿式传送的基板1两侧的边缘处的正下方位置附近。而且，在各排液流槽94a、94b的底部上分别设置有液体排出口96a、96b，在各液体排出口96a、96b上分别连通连接有排液管98a、98b。
另一方面，在水洗处理槽10的内底部上设置有液体回收口100，在该液体回收口100上连通连接有液体回收配管102。虽然图中未示出，但与图1至图3中所示的装置一样，液体回收配管102连通连接在储存回收液的回收罐上，在回收罐上连通连接有分别加装了过滤器和泵的送液配管的一端，送液配管的前端连通连接在纯水喷射喷嘴14、14a上。
在具备上述结构的基板处理装置中，如图10所示，当基板1通过纯水喷射喷嘴14的设置位置时，从纯水喷射喷嘴14向基板1上喷出的纯水与附着在基板1的上表面上的药液2一起在基板1上向两侧流动，分别从基板1的两边缘处流下。而且，从纯水喷射喷嘴14向基板1的下表面上喷出的纯水的一部分沿着基板1的下表面向基板1的两侧流动，分别从基板1的两边缘处流下。分别从基板1的两边缘处流下的纯水和药液的混合液流到各排液流槽94a、94b内，从各排液流槽94a、94b内通过液体排出口96a、96b向排液管98a、98b内流出，通过排液管98a、98b，作为废液被排出。而且，从纯水喷射喷嘴14向基板1的下表面一侧喷出的纯水的一部分从基板1的下表面滴落，流到水洗处理槽10的内底部。然后，回收到水洗处理槽10的内底部的少量的纯水从水洗处理槽10的内底部通过液体回收口100向液体回收配管102内流出，通过液体回收配管102流入回收罐内。然后，储存在回收罐内的回收液通过送液配管返回到纯水喷射喷嘴14、14a而被再利用。
另一方面，当基板1未通过纯水喷射喷嘴14的设置位置时，从纯水喷射喷嘴14喷出的纯水不经由基板1的表面而原封不动地流到水洗处理槽10的内底部。流到水洗处理槽10的内底部被回收的大量的纯水从水洗处理槽10的内底部通过液体回收口100向液体回收配管102内流出，通过液体回收配管102流入回收罐内。然后，储存在回收罐内的回收液(纯水)通过送液配管返回到纯水喷射喷嘴14、14a被再利用。在这种情况下，纯水几乎不会流到排液流槽94a、94b内，从排液流槽94a、94b内通过排液管98a、98b排出的废液量也非常少。
在这种基板处理装置中，也与图5和图6中所示的装置一样，基板1的处理效率不会降低，而且，可最小限度地抑制液体回收配管102内、回收罐内、送液配管内、以及泵的内部等部件被药液污染。另一方面，能够获得减少纯水的使用量，而且也减少了废液量的作用和效果。
如图7和图8中所示的实施方式或图9和图10中所示的实施方式那样，在以水平姿式向水平方向传送基板1时，存在着从纯水喷射喷嘴14向基板1上喷出的纯水和药液的混合液难以在基板1上流动的可能性。在这种情况下，如图11的侧视图所示，可采用将与基板1的下表面的中央部相抵接、支承基板1的传送辊104的直径制成大于分别与基板1的下表面两端部抵接、支承基板1的传送辊106、106的直径，将基板1支承成在与其传送方向上中央部高于两端部地进行传送的结构。由于采用这种结构，从纯水喷射喷嘴14向基板1上喷出的纯水和药液的混合液在基板1的中央部分成左右，不会在基板1上滞留，而在基板1上从中央部分别向两端部流动，从基板1的两边缘处流下。
而且，也可以如图12的侧视图所示，采用将各纯水喷射喷嘴14分别配置成其喷出口朝向基板1的两端部的结构，通过采用这种结构，由于纯水是从各喷射喷嘴14相对于基板1的表面在与传送方向垂直的方向分别朝两端部倾斜地向基板1上喷出，所以从各喷射喷嘴14喷出到基板1上的纯水中形成分别朝向两端部的流股，纯水和药液混合而在基板1上向两端部流动，从基板1的边缘处流下。
而且，也可以如图13中表示基板处理装置的俯视图所示，采用在以水平姿式向水平方向传送的基板1的前后两端侧边缘处的正下方位置附近，分别沿着与传送方向垂直的方向配设有一对辅助排液流槽108a、108b，并支承成该一对辅助排液流槽108a、108b和基板1的移动同步地向水平方向移动的结构。在具备这种结构的基板处理装置中，当基板1被传送时，即使从纯水喷射喷嘴14向基板1上喷出的、用于基板1的清洗并与药液混合了的纯水分别从基板1的前后两端侧边缘处流下，分别从基板1的两端侧边缘处流下的纯水和药液的混合液分别流到各辅助排液流槽108a、108b内，通过连接在各辅助排液流槽108a、108b上的辅助排液通路(图中未示出)被排出。
另外，在第1实施方式中，是对与药液处理槽16邻接地具备水洗处理槽10的基板处理装置进行了说明，但本发明也可以适用于除此之外的进行清洗、显影、蚀刻、和剥离等处理的基板处理装置。
2.第2实施方式以下，参照附图14至18对本发明的第2实施方式加以说明。
图14示出本发明第2实施方式的一例，是示意表示作为基板处理装置之一的显影处理装置大致结构的侧视图。在这种显影处理装置中，由于进行显影处理的主要部分的结构和动作与对图20进行说明的现有的装置相同，所以在图14中对同一部件标以和图20中使用的附图标记相同的附图标记，省略其重复说明。
在这种显影处理装置中，在显影液喷射喷嘴116的下方，将显影处理槽110的内部分隔开，设置有回收槽部122。另外，也可以在显影液喷射喷嘴116的下方设置回收盘(回收容器)以取代设置回收槽部122。在该回收槽部122内回收有当基板1未通过显影液喷射喷嘴116的正下方位置时从显影液喷射喷嘴116喷出、不经由基板1的表面而原封不动地流下的显影液(参照图15)。在回收槽部112的底部上设置有从基板1上流到回收槽部122的内底部上的显影液流出的液体回收口124，在该液体回收口124上连通连接有液体回收配管126。液体回收配管126连通连接在储存被回收的显影液128的回收罐130上。而且，在回收罐130上连通连接有送液配管132的一端，送液配管132的前端连通连接在显影液喷射喷嘴116上。在该送液配管132上加装有泵134，虽然图中未示出，但根据需要也加装有过滤器。由液体回收配管126、回收罐130、送液配管132、以及泵134构成液体循环系统。
而且，如图14所示，在显影处理槽110上与回收槽部122区分出来的底部上设置有液体排出口136，用于通过轧液辊118从基板1上除去的、从基板1上流到显影处理槽110的内底部上的显影液流出，在该液体排出口136上连通连接有排液配管138。
另外，在显影处理槽110的内部配设有朝向显影处理槽110的内底面喷出清洗液、对显影处理槽110的内底面进行清洗的清洗喷嘴140。而且，虽然图中未示出，但也可以在显影处理槽110的内部设置用于对配设的传送辊等部件进行清洗的清洗喷嘴。从清洗液供应源向清洗喷嘴140供应清洗液。在图14中所示的例子中，在与显影处理槽110邻接设置的水洗处理槽114的底部上设置有用于基板1的清洗、流到水洗处理槽114的内底部上的纯水流出的排水口142，在该排水口142上连通连接有水回收配管144，将水回收配管144连通连接在水回收罐146上，将在水洗处理槽144中使用的纯水148回收到水回收罐146内进行储存。然后，将送水配管150的一端连接在水回收罐146上，将送水配管150的前端连通连接在清洗喷嘴140上，通过加装在送水配管150上的泵152将水回收罐146内的纯水148向清洗喷嘴140供应。
在具有上述结构的显影处理装置中，从显影液喷射喷嘴116喷出的、不经由基板1的表面而原封不动地流下的显影液3被回收到显影处理槽110的回收槽部122中，被回收到回收槽部122中的显影液通过液体回收配管126流入回收罐130内储存。然后，回收罐130内的显影液128通过送液配管132被送往显影液喷射喷嘴116。由于这样循环使用的显影液未经由基板1的表面，所以在显影液中不会含有非溶解物，因而回收罐130的内表面、液体回收配管126或送液配管132的内表面、以及泵134的内部等不会被非溶解物污染。
另一方面，从显影液喷射喷嘴116向基板1上喷出、从基板1上流到显影处理槽110的内底部上的使用后的显影液从液体排出口136通过排液配管138被排出。因此，即使其显影液中含有非溶解物也不会产生问题。而且，与使用后的显影液接触的显影处理槽110的内底面或排液配管138等被从水回收罐146通过送水配管150送往清洗喷嘴140、并从清洗喷嘴140喷出的纯水148清洗，防止了污染。另外，在不想使与基板1接触的部件、例如轧液辊118被纯水附着的情况下，可使用处理液对这种部件进行清洗。
图15示出显影处理槽的清洗机构与图14所示不同的例子，是示意表示显影处理装置大致结构的侧视图。在图15中，标有与图14中使用的附图标记相同的附图标记的部件是具有与对图14说明的部件相同功能的同一部件，省略重复的说明。另外，图15表示基板1未通过显影液喷射喷嘴116的正下方位置时从显影液喷射喷嘴116喷出的显影液3原封不动地被回收到回收罐130内的状态。
在图15所示的装置中，使显影处理槽154的内底面156倾斜成与显影处理槽154邻接的水洗处理槽158一侧高、回收槽部122一侧低。然后，在水洗处理槽158一侧高的位置上设置清洗喷嘴160，在回收槽部122一侧低的位置上设置液体排出口162，在该液体排出口162上连通连接有排液配管164。而且，在水洗处理槽158的内部，配设有回收从隔着基板1的传送路径L配设在其上下两侧上的多个喷水喷嘴120向基板1的上下两面上喷出的纯水的水回收盘166，该水回收盘166