专利名称:超声清洗方法和装置的制作方法本发明是指一种用超声波能量清洗物件表面的经过改进的方法和装置,而更详细地说,是用于清洗已有图案和未有图案的半导体圆片的表面,为随后的制造半导体器件工序作准备。用超声波液槽清洗半导体圆片的原理已被广泛地发展到带有许多权利要求1.在一液槽内清洗一工件的方法,其特征在于它包括这些工序将一工件放置在上述液槽内第一位置的一支承装置上,从而使该工件至少一个表面受到辐照;将一定量的一种液态媒质供给上述液槽;将一个电声换能器配置在上述液槽内的第二位置上;以频率大约为20千赫至90千赫范围内的能源将能量供给上述换能器,以便产生的超声能量以密集的,界限分明的成穴区形式射入上述液槽;产生上述换能器和上述工件之间的相对移动,从而使上述工件穿过上述强成穴区;以及使流经上述工件的上述液态媒质沿着和换能器相对于工件移动相同的方向移动,从而使从上述工件表面除去的粒子沿上述液态媒质流过工件的方向移过工件。2.根据权利要求1的发明,其特征在于上述换能器是固定的,而工件移过该换能器。3.根据权利要求1的发明,其特征在于上述工件是固定的,而换能器移过该工件。4.根据权利要求1的发明,其特征在于包括将超高纯水供给上述液槽的工序。
5.根据权利要求
1的发明,其特征在于该能源以70至120瓦/英寸2的功率密度提供给上述换能器的辐射面。
6.根据权利要求
1的发明,其特征在于包括使上述工件的上述一个表面以大约1/8英寸至3/4英寸的一段距离且在上述强成穴区内移过上述换能器的辐射面的工序。
7.在一液槽内清洗半导体圆片的方法,其特征在于包括这些工序将一半导体圆片放置在第一位置的支承装置上,从而使该圆片至少一个表面受到辐照;将圆片浸入上述液槽内;将一定量的超高纯水供给上述液槽;将一个电声换能器配置在上述液槽内的第二位置上;用一个频率大约为20千赫至90千赫范围内的能源将能量供给上述换能器以给上述换能器辐射面提供70至100瓦/英寸2的功率密度其产生的超声波能量以一密集的界限分明的强成穴区的形式射入上述液槽内;产生上述换能器和上述圆片之间的相对移动,从而使上述圆片以离开上述辐射面大约1/8英寸至3/4英寸的一段距离穿过上述强成穴区;使流经上述圆片的上述超高纯水沿着与该换能器相对于该圆片移动的相同的方向流动,从而使从上述圆片的表面除去的粒子沿着液态媒质流过圆片的方向移过圆片;以及将上述圆从上述液槽移走。
8.在一液槽内清洗半导体圆片的方法,其特征在于包括这些工序将一半导体圆片放置在第一位置的支承装置上,从而使圆片的至少一个表面受到辐照;将圆片浸入上述液槽;将一定量的超高纯水供给上述液槽;将一个电声换能器配置在上述液槽内的第二位置上,其辐射面被配置成与上述圆片的表面成一角度,并朝向第一位置;用一个频率大约20千赫至90千赫的范围内的能源将能量供给上述换能器以给上述换能器的辐射面提供70至120瓦/英寸2的功率密度,其产生的超声波能量,用一密集的界限分明的强成穴区的形式射入上述液槽内;使上述圆片从上述第一位置沿第一方向移过上述换能器,上述一个表面以离开上述换能器辐射面大约1/8英寸至大约3/4英寸的一段距离且在上述强成穴区内朝向上述辐射面;使上述无湍流的超高纯水沿着与上述圆片移过上述换能器相反的方向流过上述换能器和上述圆片;以及将上述圆片从上述液槽移走。
9.在一液槽内清洗半导体圆片的方法,其特征在于它包括这些工序将一半导体圆片放置在第一位置的一个支承装置上,从而使该圆片的至少一个表面受到辐照;将该圆片浸入上述液槽内;将一定量的超高纯水供给上述液槽;将一电声换能器配置在上述液槽内的第二位置上,其辐射面被配置成与上述圆片表面成大约10°角,且朝向第一位置;用一个频率大约为20千赫的频率的能源将能量供给上述换能器,以给上述换能器的辐射面提供大约100瓦/英寸2以功率密度,其产生的超声波能量以一密集的界限分明的强成穴区的形式射入到上述液槽内;使上述圆片从上述第一位置沿第一方向以从大约1英寸/秒至大约3英寸/秒的一个速度移过上述换能器,上述一表面以离开上述换能器辐射面大约3/8英寸的一段距离且在上述强成穴区内朝向上述辐射面;使上述无湍流的超高纯水沿着与上述圆片移过上述换能器相反的方向流过上述换能器和上述圆片,然后当上述水流过上述换能器后,减少上述水的速度;以及将上述圆片从上述液槽移走。
10.用以在液槽内清洗一工件的装置,其特征在于包括一工件支承装置;形成一液槽的装置;用以将一工件放置在上述液槽内第一位置的上述支承装置上,使该工件的至少一个表面受到辐照的装置;用以将一种液态媒质供给上述液槽的装置;被配置在上述液槽的第二位置上的电声换能器装置;用一个频率大约为20千赫至90千赫范围内的一能源将能量供给上述换能器的装置,在上述液槽内以一密集的界限分明的强成穴区的形式将超声波能量射入上述液槽;用以使上述支撑装置和上述工件关于上述换能器相对移动的装置,从而使上述一个表面穿过上述强成穴区;以及用以使上述液态媒质沿着与该换能器相对于该工件移动相同的方向流过上述工件。
11.根据权利要求
10的发明,其特征在于上述工件是固定的,而使该换能器移过上述工件。
12.根据权利要求
10的发明,其特征在于上述换能器是固定的,而使该工件移过上述换能器。
13.根据权利要求
10的发明,其特征在于将超高纯水供应给上述液槽。
14.根据权利要求
10的发明,其特征在于上述能源提供给上述换能器的辐射面以70至120瓦/英寸2的来自上述换能器的一输出功率。
15.根据权利要求
10的发明,其特征在于包括用以使上述工件的上述一个表面以大约1/8英寸至大约3/4英寸的一段距离且在上述强成穴区内移过上述换能器的辐射面。
16.用以在一液槽内清洗一工件的装置,其特征在于包括用以形成一液槽的装置;一工件支承装置;用以将一工件放置在第一位置的上述支承装置上,使该工件的至少一个表面受到辐照的装置;用以将工件浸入上述液槽的装置;用以将一定量超高纯水供给上述液槽的装置;被配置在上述液槽第二位置上的电声换能器装置;用一个频率大约为20千赫至90千赫范围内的能源将能量供给上述换能器,以向上述换能器辐射面提供70至120瓦/英寸2的来自上述换能器的一输出功率,用以将超声波能量射入上述液槽,以在液槽内形成一密集的界限分明的强成穴区的装置;用以使上述支承装置和上述工件从上述第一位置沿第一方向移过上述换能器,上述一个表面以离开上述换能器辐射表面大约1/8英寸至大约3/4的一段距离,且在上述强成穴区内朝向上述辐射面的装置;用以使上述超高纯水沿着与上述工件移过上述换能器相反的方向流过上述换能器和工件的装置;以及用以将上述工件从上述液槽移走的装置。
17.用以在液槽内清洗半导体圆片的装置,其特征在于包括用以形成一液槽的装置;一圆片支承装置;用以将一圆片放置在第一位置的上述支承装置上,使该圆片的至少一个表面受到辐照的装置;用以将圆片浸入上述液槽的装置;用以将一定量超高纯水供给上述液槽的装置;配置在液槽内第二位置上的电声换能器装置,上述换能器装置包括一个与上述圆片的表面成一角度配置的,且朝向第一位置的辐射面;用一个频率大约为20千赫至90千赫范围内的能源将能量供给上述换能器的装置,以向上述换能器辐射面提供70至120瓦/英寸2的来自上述换能器的一输出功率,以便将超声波能量射入上述液槽以在液槽内形成一密集的界限分明的强成穴区;用以使上述支承装置和上述圆片关于上述换能器相对移动的装置,从而使上述一个表面以离开上述换能器辐射面大约1/8英寸至3/4英寸的一段距离,且在上述强成穴区内朝向上述辐射面;用以使上述无湍流超高纯水沿着与上述换能器相对于上述圆片移动相同的方向流动的装置;以及用以将上述圆片从上述液槽移走的装置。
18.用以在一液槽内清洗半导体圆片的装置,其特征在于包括用以形成一液槽的装置;一圆片支承装置;用以将一圆片放置在第一位置的上述支承装置上,使该圆片的至少一个表面受到辐照的装置;用以将圆片浸入上述液槽的装置;用以将一定量的超高纯水供给上述液槽的装置;配置在液槽内第二位置上的电声换能器装置,上述换能器装置包括一个与上述圆片的表面成大约10°角配置,并朝向第一位置的辐射面;用一个频率大约为20千赫的能源将能量提供给上述换能器的装置,以向上述换能器的辐射面提供大约100瓦/英寸2的来自上述换能器的一输出功率,以便将超声波能量射入上述液槽,以在液槽内形成一密集的界限分明强成穴区;用以使上述支承装置和上述圆片从上述第一位置沿第一方向移过上述换能器,上述一个表面以离开上述换能器的辐射面大约3/8英寸的一段距离,且在上述强成穴区内朝向上述辐射面;用以使上述无湍流超高纯水沿着与上述圆片移过上述换能器相反的方向流过上述换能器和上述圆片的装置;用以当上述水流过上述换能器时减低上述水的速度的装置;以及用以将上述圆片从上述液槽移走的装置。
用以在一液槽内清洗半导体圆片的一种方法和装置,包括将一液态媒质例如超高纯水供给液槽的装置,以及一个配置在液槽内的电声换能器。在以大约20千赫至90千赫范围内的一个能源将能量供给换能器,以便在液槽内形成一密集的界限分明的强成穴区,使工件沿通过换能器的第一方向流过该强成穴区。超高纯水沿着与工件移过换能器的相反的方向流过换能器和工件。
超声清洗方法和装置制作方法
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