一种淋釉装置出釉部件的制作方法【技术领域】，具体涉及一种淋釉装置出釉部件。[0002]淋釉机主要用于为砖坯表面施底釉及面釉，其中淋釉机出釉部件主要用来保证淋釉的均匀，并在一定程度上控制淋釉的量，现有的淋釉器主要应用淋釉刀板作为淋釉机出釉部件，但淋釉刀板加工难度大，生产成本高，在加工及使用时很难保证其设备状态完好，并且淋釉刀板的安装，调整及清洗均十分不方便，极大的影响了淋釉时的工I作效率，所以亟需一种淋釉装置出釉部件以解决上述不足。
[0004]为达到上述要求，本发明采取的技术方案是:提供一种淋釉机出釉部件，包括固定腔体、活动腔体及设置于固定腔体和活动腔体两侧的挡板；固定腔体和活动腔体均为凹形结构，固定腔体上设置有至少两个固定轴孔，活动腔体上方设置有用活动轴孔，固定腔体和活动腔体间设有控釉腔且下部设有位置对应的出釉刀；挡板上设置有固定轴及活动轴，挡板上方设置有进釉孔。[0005]该淋釉装置出釉部件采用一体化机身，将现有淋釉刀板的功能移植到了淋釉机机体上，不但简化了淋釉机结构，同时也避免了淋釉刀板复杂的安装及调试过程，进而解决了由于刀板加工不直等问题对淋釉机的使用造成的影响；而且该淋釉机出釉部件可以节约淋釉成本达到百分之十五以上。

[0006]此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，在这些附图中使用相同的参考标号来表示相同或相似的部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并构成对本申请的不当限定。在附图中:
图1示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉装置出釉部件的固定腔体和活动腔体的示意图。
[0007]图2示意性地示出了根据本申请一个实施例的该淋釉装置出釉部件的挡板的结构示意图。
[0008]图3示意性地示出了根据本申请一个实施例的该淋釉装置出釉部件的导流板的结构示意图。
[0009]图4示意性地示出了根据本申请一个实施例的安装了该淋釉装置出釉部件的淋釉装置的结构示意图。
[0010]其中:1、固定腔体；2、固定轴孔；3、控釉腔；4、活动轴孔；5、活动腔体；6、出釉刀；
7、出釉刀口凹槽；8、挡板；9、固定轴；10、进釉孔；11、活动轴；12、第一导流外挡板；13、第一导流槽挡板；14、第二导流槽挡板；15、第二导流外挡板；16、第一导流外槽；17、导流槽；
18、第二导流外槽；19、储有槽；20、导流板；21、进釉管；22、调节部件；23、出釉管。

[0011]为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，以下结合附图及具体实施例，对本申请作进一步地详细说明。
[0012]在以下描述中，对“ 一个实施例”、“实施例”、“ 一个示例”、“示例”等等的引用表明如此描述的实施例或示例可以包括特定特征、结构、特性、性质、元素或限度，但并非每个实施例或示例都必然包括特定特征、结构、特性、性质、元素或限度。另外，重复使用短语“根据本申请的一个实施例”虽然有可能是指代相同实施例，但并非必然指代相同的实施例。
[0013]为简单起见，以下描述中省略了本领域技术人员公知的某些技术特征。
[0014]根据本申请的一个实施例，如图1至图2所示，提供一种淋釉装置出釉部件，包括固定腔体1、活动腔体9及设置于该固定腔体I和活动腔体9两侧的挡板8 ;该挡板8于两侧将固定腔体I和活动腔体9形成的控釉腔3密封，固定腔体I和活动腔体9顶部相接触，形成自然密封结构， 该固定腔体I顶部于该活动腔体9接触部位为下端向内的三角形斜口结构，该斜口结构可以保证在调节活动腔体9时不会因为活动腔体9与固定腔体I顶部相抵而无法调节。
[0015]根据本申请的一个实施例，如图1至图2所示，提供一种淋釉装置出釉部件，该部件的固定腔体I和活动腔体9均为凹口向内的凹形结构，固定腔体I上设置有至少两个用来与挡板8相连接的固定轴孔2，活动腔体5上方设置有用来与挡板8相连接的活动轴孔4，固定腔体I和活动腔体9间设有控釉腔3且下部设有位置对应的出釉刀。
[0016]根据本申请的一个实施例，如图1至图2所示，挡板8上设置有与固定轴孔2位置对应的固定轴9及位置与活动轴孔4位置对应的活动轴11，挡板8上方设置有进釉孔10，进釉孔10为直径小于所述控釉腔3横截面宽度的圆形孔状结构且与控釉腔3相连通，挡板8上的固定轴9穿过固定腔体I上的活动轴孔4将固定腔体I固定在该挡板8上，挡板8上的活动轴11穿过活动轴孔4将活动腔体9与挡板8相连接，但由于活动轴11为圆柱形结构，且只有一根，所以该活动腔体9可以绕活动轴11做一定的小角度转动，从而改变固定腔体I和活动腔体9底部出釉刀6间的缝隙，进而改变出釉速度。
[0017]根据本申请的一个实施例，如图3所示，固定腔体I和活动腔体9正下方设置有用来控制出釉方向的导流板20，述导流板20对称轴上设置有导流槽17，导流槽17两侧设置有第一导流槽挡板13和第二导流槽挡板14，导流板20的两侧外边界出设置有对称的第一导流外挡板12和第二导流外挡板15 ;第一导流外挡板12与第一导流槽挡板13间设有凹槽型结构的第二导流外槽18，第二导流槽挡板14与第二导流外挡板15间设有凹槽型结构的第一导流外槽16。当釉从固定腔体I和活动腔体9底部出釉刀6间形成的细缝中流出时1，很难保证釉面规整同时也不可避免的会有一些釉流向两侧，导流板20的作用就是引导流出的釉的流向，釉会延导流槽17规整地向下流动，当釉的流速较大时第一导流外挡板12和第一导流外挡板15可以避免釉相四周溅射。
[0018]根据本申请的一个实施例，如图3所示，导流板20为上底大于下底的梯形结构，第一导流外挡板12和第二导流外挡板15高度大于第一导流槽挡板13和第二导流槽挡板14，第一导流槽挡板13和第二导流槽挡板14长度相同且相互平行，所述导流槽17横截面宽度小于第二导流外槽18和第一导流外槽16下端横截面宽度,将导流板20设置为上底大于下底的梯形结构可以使其更好的起到对釉液的导流作用，最大程度上减小了釉液外溅的可能性；当釉液流出时会延导流槽17向下流动，所以将该导流槽17两侧的第一导流槽挡板13和第二导流槽挡板14的高度设置得很低，且该导流槽17的横截面宽度设置得很小，这样可以更好地对釉液进行导流。
[0019]根据本申请的一个实施例，如图1所示，出釉刀6下方设有凹槽型结构的出釉刀口凹槽7，该凹槽7的设置可以使釉液在从两侧出釉刀6间的缝隙中流出时不会黏挂于刀口底部，从而是其出釉更加顺畅。
[0020]根据本申请的一个实施例，如图4所示，在淋釉机工作时，釉从进釉管21经挡板8上的进釉孔10流入控釉腔3中，并经两侧出釉刀6中间的细缝中流出，并通过调节部件22控制两侧内置出釉刀6中间的细缝缝隙的大小，从而控制釉的流出量及流出速度，从控釉腔3中流出的釉将流入导流板20，并在导流板20的作用下改变其流向，延导流槽17流入设置于导流板20下方的储釉槽19，该储釉槽19的下端面为倾斜状，流入储釉槽19内的釉会沿倾斜的下端面向另一侧流动，并经出釉管23流出，以完成对釉一轮的处理过程。 [0021]以上所述实施例仅表示本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能理解为对本发明范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明保护范围。因此本发明的保护范围应该以所述权利要求为准。