一种直线淋釉部件及采用该部件的淋釉的制造方法 [0002] 在瓷砖加工领域淋釉机是一种十分常见的加工工具，主要用于为砖坯表面施底釉 及面釉。 [0003] 现有淋釉机的淋釉部件结构复杂、操作不便，同时在长时间使用后不易清洗，维护 成本也较高，并且目前淋釉机所普遍应用的钟罩式淋釉部件施釉效果不够理想，经常会出 现施釉表面中间釉面薄两侧釉面厚，且会产生边缘波浪纹的现象。 [0004] 因此，如何简化淋釉机的淋釉部件，同时避免淋釉时施釉表面中间釉面薄两侧釉 面厚和产生边缘波浪纹的现象发生，成为本领域技术人员亟需解决的技术问题。
[0005] 本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种直线淋釉部件及采用该部件的 淋釉机，该直线淋釉部件在简化了现有的淋釉部件的同时，避免了现有的淋釉部件淋釉时 施釉表面中间釉面薄两侧釉面厚现象的发生，同时也防止了边缘波浪纹的产生，并且该直 线淋釉部件与现有技术相比可以极大的节约釉料和淋釉加工的时间，因而更为节能环保。
[0006] 为实现上述目的，本发明提供以下技术方案： 一种直线淋釉部件，包括： 依次连接的直线淋釉上罩和直线淋釉下罩，直线淋釉上罩包括第一釉液缓冲池、第二 釉液缓冲池和位于第一釉液缓冲池、第二釉液缓冲池之间的釉液缓冲挡板。
[0007] -种采用该直线淋釉部件的淋釉机，包括： 入釉装置和主体，其中入釉装置包括臂形支架、用于对臂形支架进行定位的臂形支架 立柱及用于对臂形支架进行调节的臂形支架调节装置，臂形支架上设有上釉斗。主体包括 支架和直线淋釉部件，支架上设置有接釉盘调节装置和直线淋釉部件调节装置，接釉盘调 节装置上设置有接釉盘，直线淋釉部件设置于直线淋釉部件调节装置顶部；该直线淋釉部 件包括直线淋釉上罩和直线淋釉下罩，直线淋釉上罩设置于所述直线淋釉下罩之上，并与 直线淋釉下罩相贴和，直线淋釉上罩中设置有釉液缓冲挡板，釉液缓冲挡板将直线淋釉上 罩分为第一釉液缓冲池和第二釉液缓冲池。
[0008] 从上述技术方案可以看出，本发明提供的直线淋釉部件通过设置直线淋釉上罩和 直线淋釉下罩，取代了现有的钟罩式淋釉机上复杂的淋釉部件，从而在简化了结构使得清 洗和使用更加方便的同时降低了维护的成本，并且弥补了现有的钟罩式淋釉部件在施釉时 釉面上会出现边缘波浪纹的不足，进而改善了施釉效果，该直线淋釉部件通过第一釉液缓 冲池、第二釉液缓冲池、釉液缓冲挡板及釉液溢流挡板的设置，可以对流入的釉液起到很好 的缓冲作用，进而消除了釉液中的气泡，并且可以使得出釉更为均匀，同时该直线淋釉部件 与现有技术相比可以极大地解决釉料和施釉时间，因此具有节能环保的优点。
[0009] 本发明还提供一种采用该直线淋釉部件的淋釉机，由于该直线淋釉部件具有上述 技术效果，因此采用该直线淋釉部件的淋釉机也同样具有上述技术效果。




[0010] 此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，在这 些附图中使用相同的参考标号来表示相同或相似的部分，本申请的示意性实施例及其说明 用于解释本申请，并构成对本申请的不当限定。在附图中： 图1为直线淋釉部件的结构示意图。
[0011] 图2为淋釉机的结构示意图。
[0012] 图3为直线淋釉部件的左视图。
[0013] 图4为直线淋釉上罩的俯视图。
[0014] 其中：1、侧导流板；2、釉液流出口；3、第二釉液缓冲池；4、釉液缓冲挡板；5、第一 釉液缓冲池；6、后挡板；7、下板；8、直线淋釉上罩；9、上罩导流侧壁；10、釉液溢流挡板； 11、直线淋釉下罩；12、下罩导流板；13、臂形支架立柱；14、臂形支架调节装置；15、臂形支 架；16、上釉斗；17、直线淋釉部件；18、接釉盘；19、接釉盘调节装置；20、直线淋釉部件调节 装置；21、支架；22、入釉装置；23、主体。


[0015] 为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，以下结合附图及具体实施例，对本 申请作进一步地详细说明。
[0016] 在以下描述中，对" 一个实施例"、"实施例"、" 一个示例"、"示例"等等的引用表明 如此描述的实施例或示例可以包括特定特征、结构、特性、性质、元素或限度，但并非每个实 施例或示例都必然包括特定特征、结构、特性、性质、元素或限度。另外，重复使用短语"根据 本申请的一个实施例"虽然有可能是指代相同实施例，但并非必然指代相同的实施例。
[0017] 为简单起见，以下描述中省略了本领域技术人员公知的某些技术特征。
[0018] 请参阅图1至图4,图1为该直线淋釉部件的结构示意图；图2为采用该直线淋釉 部件的淋釉机的结构示意图；图3为该直线淋釉部件的左视图；图4为该直线淋釉部件的 直线淋釉上罩的俯视图。
[0019] 根据本申请的一个实施例，提供一种直线淋釉部件，如图1所示，包括直线淋釉上 罩8和直线淋釉下罩11，直线淋釉上罩8设置于所述直线淋釉下罩11之上，并与直线淋釉 下罩11相贴和，直线淋釉上罩8中设置有釉液缓冲挡板4,所述釉液缓冲挡板4将直线淋釉 上罩8分为第一釉液缓冲池5和第二釉液缓冲池3 ;该直线淋釉上罩8和直线淋釉下罩11 可以为不锈钢或铜制成，这样可以起到较好的防腐作用，并且表面光洁度也较高。
[0020] 该直线淋釉部件的直线淋釉上罩8底部可以设置有下板7,该下板7的前端即釉液 流出一端可以为直线形结构，该下板7的后端即釉液流入一端可以为直线形结构，也可以 为圆弧形结构，还可以为折线形结构。
[0021] 为进一步满足客户需要，直线淋釉上罩8两侧可以设置有上罩导流侧壁9,直线淋 釉上罩8后端可以设置有后挡板6,直线淋釉上罩8前端可以设置有釉液溢流挡板10,该釉 液溢流挡板10、后挡板6、上罩导流侧壁9及釉液缓冲挡板4均设置在所述下板7之上，釉 液溢流挡板10底部设置有长方形凹口状结构的釉液流出口 2,该釉液流出口 2的高度可以 为50mm,下板7为设有一处弯折的板状结构；釉液由上釉斗16中流入第一釉液缓冲池5,并 在第一釉液缓冲池5中，当油液填满第一釉液缓冲池5后就会沿釉液缓冲挡板4流入第二 釉液缓冲池3,并从第二釉液缓冲池3底部的釉液流出口 2均匀的流出，这个过程可以很好 的消除釉液流入时产生的气泡，进而改善施釉效果。
[0022] 如图4所示，该直线淋釉部件的后挡板6和上罩导流侧壁9的高度均高于釉液缓 冲挡板4的高度，釉液缓冲挡板4的高度高于釉液溢流挡板10的高度。
[0023] 该直线淋釉部件的直线淋釉下罩11两侧设置有侧导流板1 ;直线淋釉下罩11的 下罩导流板12表面可以采用静电抛光处理，这样可以使釉液流出得更加均匀，且不会产生 气泡；该直线淋釉下罩11的前后两段均可以设有向下弯曲90度的圆弧形结构，其中该直线 淋釉下罩11前端的圆弧形结构的半径可以为50至300mm。
[0024] 本发明还提供一种淋釉机，如图2所示，包括入釉装置22和主体23,主体23上设 置有上述任意一项所述的直线淋釉部件，因为上述直线淋釉部件具有上述技术效果，因此 采用上述直线淋釉部件的淋釉机也具有上述技术效果。
[0025] 该淋釉机的入釉装置22包括臂形支架立柱13,臂形支架立柱13上设置有臂形支 架调节装置14,臂形支架调节装置14上设置有臂形支架15,臂形支架15上悬挂有上釉斗 16,通过调节臂形支架调节装置14可以改变上釉斗16悬挂的高度，进而可以找到最佳的入 釉位置。
[0026] 该淋釉机的主体23包括支架21和直线淋釉部件17 ;支架21上设置有接釉盘调 节装置19和直线淋釉部件调节装置20,接釉盘调节装置19上设置有接釉盘18,直线淋釉 部件17设置于所述直线淋釉部件调节装置20顶部，通过调整直线淋釉部件调节装置20,可 以改变直线淋釉部件17的高度，通过调整接釉盘调节装置19可以进一步调整接釉盘18的 高度，通过调整直线淋釉部件17和接釉盘18的高度以找到最佳的淋釉位置。
[0027] 以上所述实施例仅表示本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不 能理解为对本发明范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离 本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明保护范围。因此本发 明的保护范围应该以所述权利要求为准。