专利名称：粒子射线照射装置、粒子射线治疗装置以及数据显示程序的制作方法粒子射线治疗装置是将带电粒子束照射到癌症等的患部、来进行治疗的医疗设备。粒子射线治疗装置所需要的功能在于，将治疗所需的量的剂量给予癌症等的患部，并形成照射野，使得尽量不将剂量照射到其他正常组织上。对于形成照射野的方法，存在有宽射束照射法以及扫描照射法这两大类。关于宽射束照射法，是首先利用散射体等来扩大照射野、再通过准直器及团块等根据患部来形成照射野的方法。由于通过临床试验确认了宽射束照射法的安全性，因此宽射束照射法在现有的粒子射线治疗装置中应用最广泛。然而，由于每个患者的患部形状有所不同，或者即使同一患者随着治疗的进程而患部会缩小，因此此时必须每次制备团块，从这一情况来看，希望一种自由度更高的照射野形成方法。因而，近年来，积极进行将扫描照射法应用于粒子射线治疗装置中的研究开发。所谓的扫描照射法，是指根据患部的形状、来使细束状的细小的带电粒子束进行三维扫描以进行照射的方法。而特别是所谓的束点扫描法，是指重复地将该细束状的细小的带电粒子束进行照射及停止照射、从而进行点描绘式照射而成束点状的方法。另外，特别是所谓的光栅扫描法，是指在保持将细束状的细小的带电粒子束进行照射的状态下进行扫描、从而进行一笔画式照射的方法。无论在哪种情况下，对细束状的细小的带电粒子束的扫描均使用被称作为扫描电磁铁(以下称作“扫描电磁铁”)的、高速地使磁场发生变化的电磁铁。 对于扫描电磁铁的扫描精度、即粒子射线治疗装置的照射精度，当然需要对扫描电磁铁进行适当的控制。然而，即使一开始就对其进行调整，粒子射线治疗装置的照射精度也会随着时间的流逝而产生误差。因此，希望显示照射位置精度，使得一眼就能明白其趋势，从而能够适当地维持粒子射线治疗装置的照射精度，并对其进行维护。专利文献I中，公开了一种带电粒子束照射系统，该系统基于来自位置监视器的检测信号来计算射束的照射位置的偏差(与目标值的差值)，并判断该计算出的照射位置的偏差是否超过容许值，例如在判断为照射位置的偏差超过容许值的情况下，对输出部输出联锁信号及显示信号，并中止射束照射。 现有技术文献 专利文献专利文献1:日本专利特开2009 - 39219号公报(第0043段落至第0050段落)
发明所要解决的技术问题专利文献I中的带电粒子束照射系统虽然能够基于来自位置监视器的检测信号来计算射束的照射位置的偏差(与目标值的差值)，并判断该计算出的照射位置的偏差是否超过容许值，在判断为照射位置的偏差超过容许值的情况下，中止射束照射，然而其没有显示带电粒子束照射系统的照射位置精度而使得一眼就能明白其趋势的方法，故不具备该功能。特别是，在以使射束进行扫描的方式进行照射的类型的装置中，要能够将照射位置与照射位置误差相对应地进行显示，或者能够将和照射位置相关联的照射位置关联值与照射位置关联值误差相对应地进行显示，这对于维持照射精度、以及维护来说至关重要。所谓的“和照射位置相关联的照射位置关联值”，未必是照射位置本身，而是指和照射位置有一对一关系的、能根据该值导出照射位置的值。例如，可以是位置监视器的输出值、或安装在扫描电磁铁上的磁场传感器的值等。另外，所谓的照射位置关联值误差，是指照射位置关联值的相对于目标照射位置关联值的误差。这里，所谓的目标照射位置关联值，未必是目标照射位置本身，而是指根据与上述照射位置和照射位置关联值相同的相关联关系、从而和目标照射位置具有一对一关系的、能根据该值导出目标照射位置的值。本发明鉴于解决上述问题，其目的在于提供一种粒子射线照射装置，该粒子射线照射装置能够将照射位置与照射位置误差相对应地进行显示，或者能够将和带电粒子束的照射位置相关联的照射位置关联值与照射位置关联值误差相对应地进行显示。
解决技术问题所采用的技术方案包括:检测器，该检测器检测和带电粒子束的照射位置相关联的实际照射位置关联值；以及数据处理装置，该数据处理装置将照射位置关联值误差与实际照射位置关联值相对应地在显示部上显示，该照射位置关联值误差是实际照射位置关联值的、相对于目标照射位置关联值的误差，该目标照射位置关联值和带电粒子束的目标照射位置相关联，数据处理装置具有:输入部，该输入部输入实际照射位置关联值以及目标照射位置关联值；以及运算部，该运算部在和带电粒子束的照射区域相关联的照射区域关联区域上、显示表示实际照射位置关联值的测定值显示图形以及表示目标照射位置关联值的目标值显示图形时，在目标照射位置关联值的坐标上显示目标值显示图形，在将利用变形系数对照射位置关联值误差进行运算后的坐标加上目标照射位置关联值而得到的坐标、即显示坐标上显示测定值显示图形，并显示将测定 值显示图形与目标值显示图形相连接的线段。另外，包括:检测器，该检测器检测和带电粒子束的照射位置相关联的实际照射位置关联值；以及数据处理装置，该数据处理装置基于实际照射位置关联值来计算带电粒子束的实际照射位置，并将实际照射位置的相对于带电粒子束的目标照射位置的误差即照射位置误差、与实际照射位置相对应地在显示部上显示，数据处理装置具有:输入部，该输入部输入实际照射位置关联值以及目标照射位置；以及运算部，该运算部在带电粒子束的照射区域上显示表示目标照射位置的目标值显示图形以及表示实际照射位置的测定值显示图形时，在目标照射位置的坐标上显示目标值显示图形，在将利用变形系数对照射位置误差进行运算后的坐标加上目标照射位置而得到的坐标、即显示坐标上显示测定值显示图形，并显示将测定值显示图形与目标值显示图形相连接的线段。
发明效果本发明所涉及的粒子射线照射装置能够将和照射位置相关联的照射位置关联值、与照射位置关联值误差相对应，从而显示出带电粒子束的照射位置精度。另外，还能够将照射位置与照射位置误差相对应，从而显示出带电粒子束的照射位置精度。因此，能够直观上易于察觉，容易掌握将和带电粒子束的照射位置相关联的照射位置关联值与照射位置关联值误差相对应后的照射位置精度、将带电粒子束的实际照射位置与照射位置误差相对应后的照射位置精度，并适当地维持照射位置精度，对其进行维护。


图1是本发明的实施方式I的粒子射线照射装置的简要结构图。
图2是表示由图1的数据处理装置所显示的枕形(pincushion)显示的图。
图3是表示用于与图2的枕形显示进行比较的照射位置的图。
图4是表示由图1的数据处理装置所显示的X方向误差的时间序列显示的图。
图5是表示由图1的数据处理装置所显示的Y方向误差的时间序列显示的图。
图6是表示由图1的数据处理装置所显示的误差矢量显示的图。
图7是表示本发明的实施方式2的第I枕形显示的图。
图8是表示本发明的实施方式2的第2枕形显示的图。
图9是本发明的实施方式3的粒子射线照射装置的简要结构图。
图10是表示由图9的数据处理装置所显示的枕形显示的图。
图11是表示由图9的数据处理装置所显示的X方向误差的时间序列显示的图。
图12是表示由图9的数据处理装置所显示的Y方向误差的时间序列显示的图。
图13是表示由图9的数据处理装置所显示的误差矢量显示的图。
图14是表示本发明的实施方式4的第I枕形显示的图。
图15是表示本发明的实施方式4的第2枕形显示的图。
图16是本发明的实施方式5的数据显示程序的流程图。
图17是表示本发明的实施方式6的粒子射线治疗装置的结构图。
图18是本发明的实施方式6的粒子射线治疗装置的控制框图。
实施方式实施方式I
图1是本发明的实施方式I的粒子射线照射装置的简要结构图。粒子射线照射装置58具有:照射设备部2、以及对照射设备部2进行控制及管理的控制管理部3。照射设备部2包括:x方向扫描电磁铁10以及Y方向扫描电磁铁11，该X方向扫描电磁铁10以及Y方向扫描电磁铁11使带电粒子束I在与带电粒子束I垂直的方向、即X方向以及Y方向上进行扫描；上游一侧的位置监视器12a ;剂量监视器13 ;下游一侧的位置监视器12b ;以及扫描电磁铁电源14。控制管理部3包括:照射控制装置15，该照射控制装置15控制照射设备部
2;以及数据处理装置19。此外，带电粒子束I的前进方向为Z方向。X方向扫描电磁铁10是使带电粒子束I在X方向上进行扫描的扫描电磁铁，而Y方向扫描电磁铁11是使带电粒子束I在Y方向上进行扫描的扫描电磁铁。上游一侧的位置监视器12a以及下游一侧的位置监视器12b对利用X方向扫描电磁铁10及Y方向扫描电磁铁11进行扫描后的带电粒子束I所通过的射束的射束峰值位置(通过位置)进行检测。剂量监视器13检测带电 粒子束I的剂量。照射控制装置15基于由未图示的治疗计划装置生成的治疗计划数据，来控制照射对象18上的带电粒子束I的照射位置，并且在由剂量监视器13所测定到的、被转换成数字数据的剂量达到目标剂量的情况下，停止带电粒子束I。扫描电磁铁电源14基于从照射控制装置15输出的对X方向扫描电磁铁10及Y方向扫描电磁铁11的控制输入(指令电流)，来改变X方向扫描电磁铁10及Y方向扫描电磁铁11的设定电流。数据处理装置19将带电粒子束I的照射位置(X、Y)与照射位置(X、Y)的误差相对应，在和照射区域相关联的照射区域上进行显示，或者，将和带电粒子束I的照射位置(X、Y)相关联的照射位置关联值(Αχ、Αγ)、与照射位置关联值的误差(照射位置关联值误差(Εχ、Ey))相对应，在和照射区域相关联的照射区域关联区域上进行显示。照射位置关联值(Αχ、Ay)包含:目标照射位置关联值(Α0Χ、AOy),该目标照射位置关联值(A0x、AOy)和带电粒子束I的目标照射位置(Χ0、Υ0)相关联；以及实际照射位置关联值(Α1Χ、Α1Υ)，该实际照射位置关联值(Α1Χ、Α1Υ)和由位置监视器12a、12b所测定到、并计算出的带电粒子束I的实际照射位置(X1、Y1)相关联。照射位置关联值误差(EX、EY)是从实际照射位置关联值(A1X、A1Y)减去目标照射位置关联值(A0X、AOy)后的差值。和照射区域相关联的照射区域关联区域是二维地表示位置监视器12a、12b的输出值的位置监视器值区域。这里，利用从带电粒子束I的位置监视器值区域转换成照射对象上的照射位置(X、Y)后的照射区域、来进行说明。此外，若反过来表示照射位置、目标照射位置、实际照射位置、位置误差，则能够如下那样表示。照射位置相当于转换照射位置关联值之后的信息。目标照射位置相当于转换目标照射位置关联值之后的信息。实际照射位置相当于转换实际照射位置关联值之后的信息。位置误差相当于转换照射位置关联值误差之后的信息。另外，对于照射区域关联区域、照射位置关联值、目标照射位置关联值、实际照射位置关联值、照射位置关联值误差，对该部分适当添加括号来进行显示。数据处理装置19可以使用专用的硬件，也可以使用通用的个人计算机或工作站。这里，为了容易理解，对使用通用的个人计算机或工作站的情况进行说明。数据处理装置19具有:输入部41，该输入部41用于输入照射区域(照射区域关联区域)上的目标照射位置(目标照射位置关联值)以及实际照射位置(实际照射位置关联值)；显示部43，该显示部
43用于在画面上重现并显示照射区域；以及运算部42，该运算部42进行用于在显示部43上进行显示的处理。数据处理装置19具有第I至第4功能，图2中示出了利用这些功能实现的结果。图2是表示由本发明的实施方式I的数据处理装置所显示的枕形显示的图。此夕卜，对于枕形显示的定义等，在下面阐述。数据处理装置19的第I功能在于，在数据处理装置19的显示部画面上重现并显示带电粒子束I的照射区域(照射区域关联区域)。第I功能由运算部42中的区域显示运算部来进行处理。图2中，将横轴21设为X方向，将纵轴22设为Y方向，并标上刻度，由虚线描绘成栅格状的部分相当于由第I功能所实现的显示。可以使在显示部画面上重现并显示的枕形显示20 (20a)的原点与作为照射基准的等中心(isocenter)相对应。另外,虽然在粒子射线治疗装置中可以任意地确定该X方向及Y方向，但一般设置有X方向扫描电磁铁以及Y方向扫描电磁铁，使得射束的扫描方向与所定义的X方向及Y方向相同。数据处理装置19的第2功能在于，将目标照射位置(目标照射位置关联值)重叠于利用第I功能在画面上重现的照射区域(照射区域关联区域)上，来进行显示。第2功能由运算部42中的目标值运算部来进行处理。图2中，未被涂满的圆形的图形、即由实线描绘外边缘的圆23相当于由第2功能实现的显示。另外，在图2中，圆23的配置位置相当于后述的“针”的“目标位置(插针的位置、目标值)”。将圆23适当地称作为目标照射位置图形(目标值显示图形)23。数据处理装置19的第3功能在于，进一步将实际照射位置(实际照射位置关联值)重叠并显示在利用第I功能在画面上重现的照射区域(照射区域关联区域)、以及利用第2功能重叠显示的目标照射位置(目标照射位置关联值)上。第3功能由运算部42中的测定值运算部来进行处理。图2中，被涂满的圆24的图形相当于由第3功能实现的显示。另夕卜，在图2中，圆24的配置位置相当于后述的“针”的“实际照射位置(针头、测定值)”。将圆24适当地称作为实际照射位置图形(测定值显示图形)24。此外，在本发明中，对该实际照射位置(实际照射位置关联值)的显示做了进一步的深入研究。研究点在于，将该实际照射位置上的位置误差(照射位置关联值误差)进行变形(以夸张或强调特征的方式来进行变换)，来显示实际照射位置。若以数学式来表示，则如下所示。利用P d e s i P e d来表示目标照射位置，利用Pme a s u r e <1来表示实际照射位置。位置误差P e M能够如数学式(I)那样表示，而将位置误差进行变形后的实际照射位置Pdef能如数学式(2 )那样表示。
P=P— P...Μ
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P d e f = P d e s i r e d+ k (P e r r ο r) *.* (2)式中，k是变形系数。另外，目标照射位置P d e s i r e d、实际照射位置P me a S U I.e d、将位置误差进行变形后的实际照射位置Pd6f以及位置误差P ε 。^全部是矢量显示，并表示照射区域上的坐标。利用数学式(2)计算出的实际照射位置？ d “的坐标是在照射区域上进行显示时的显示坐标。此外，对于目标照射位置关联值、实际照射位置关联值、照射位
置关联值误差、经变形后的实际照射位置关联值，分别由P R d ε s i r 6 d、P R m 6 a S U r 6 d、PRerr or、PRdef 表不，在上述式(I)、式(2)中，将 Pdes i red、Pmeasured、Perror> P d e f 分别替换成 P R d e s i r e d > P Rme a s u r e d > P R e r r O r> P R d e f 即可，即、替换成
带有R的标号即可。此后，带有R的标号表示与照射位置关联值相关。如果将变形系数k设为1，则实际照射位置？ d e ￡未经变形，而实际照射位置图形24的配置位置被显示于未经变形的现实的实际照射位置上。如果将变形系数k设为0，则所给予的实际照射位置P d e ￡是相当于目标照射位置Pd6siUd的位置。作为示例，图2中，多个实际照射位置图形24分别示出了将变形系数k设为30时的实际照射位置P d e f。此夕卜，图3示出了不使用变形系数k而仅显示实际照射位置P d “。图3是表示用于与图2的枕形显示20进行比较的照射位置的图。照射位置显示35中的虚线圆A所表示的部分是放大对象部分，虚线圆B所表示的部分是将放大对象部分放大后的部分。虚线圆33是目标照射位置图形，相当于图2的目标照射位置显示23。为了能查看到与实际照射位置显示图形24的外周之差，利用虚线来表示。相比于照射位置显示35中的照射区域的宽度，照射位置误差较小，因此若不将其进行变形，则如图3所示那样，一般较难以对其趋势进行判断。数据处理装置19的第4功能在于，利用线段将由上述第2功能显示的目标照射位置P d ε s i 〃 d (目标照射位置关联值P Rdesir ε d)、与由上述第3功能显示的将位置误差Perror (照射位置关联值误差P R ε 。^进行变形后的实际照射位置Pd6f (实际照射位置关联值P Rdef)相连接，并进行显示。第4功能由运算部42中的线段显示运算部来进行处理。图2中，线段25相当于由第4功能实现的显示。另外，线段25相当于后述的“针”的“针本体”的部分。在上述第3功能中，如果增大变形系数k，则在存在有位置误差P e r r。r的情况下，将位置误差P ε ^进行变形后的实际照射位置P d e f逐渐远离目标照射位置P d e s i u d。因此，通过第4功能来利用线段25将表示目标照射位置的目标照射位置图形23与表示实际照射位置的实际照射位置显示图形24相连接并进行显示，从而能够清楚地查看到对应关系。第3功能及第4功能可称作为本发明的特殊的技术特征。这里，对于针及枕形显示进行说明。图2中，被涂满的圆24及线段25看似一枚针(记号针)。图2所示的数据处理装置19的显示部画面上的显示好像是在枕头上插针的样子，因此这里将这种显示称作为“枕形显示”。另外，若与在枕头上插针的样子相对应，则枕形显示20中的目标照射位置图形23、实际照射位置图形24 (包含未经变形的情况以及经变形后的情况)以及将它们相连接的线段25分别相当于“插针的位置”、“针头”以及“针本体”。实施方式I的粒子射线照射装置58包括具有上述四个功能的数据处理装置19，因此能够将照射位置P与照射位置误差P e r r。d目对应，从而显示出带电粒子束I的照射位置精度。另外，还能够将和照射位置相关联的照射位置关联值P R、与照射位置关联值误差P Re 相对应，从而显示出带电粒子束I的照射位置精度。因而，对于使用者来说，能够直观上易于察觉，容易掌握将带电粒子束I的照射位置P与照射位置误差P 6 r r。J目对应后的照射位置精度、将和带电粒子束I的照射位置相关联的照射位置关联值P R与照射位置关联值误差P R ε J目对应后的照射位置精度，并适当地维持照射位置精度，对其进行维护。在数 据处理装置19的显示部画面中，也可以添加用于辅助枕形显示20的其他显示。图4及图5是将位置误差分为X方向分量及Y方向分量、并以时间序列进行显示的图(以下称作为“时间序列显示”)。图4是表示X方向误差的时间序列显示30 (30a)的图，图5是表示Y方向误差的时间序列显示30 (30b)的图。横轴是表示照射带电粒子束I的顺序的照射编号，纵轴是位置(照射位置关联值)的误差。照射编号较大的数据是经过的时间比照射编号较小的数据要长的数据。因此，时间序列显示30 (30a、30b)在将位置误差(照射位置关联值误差)和时间相关联来进行分析时，提供了有效的信息。例如，能够容易掌握在照射编号η (时刻tn)以后误差变大等信息。另外，在数据处理装置19的显示部画面中，也可以添加用于辅助枕形显示20的其他显示。图6是以矢量的方式来显示位置(照射位置关联值)的误差的图。下面，将以矢量的方式来显示误差的图称作为“误差矢量显示”，而将以矢量的方式来显示位置的误差的图称作为“位置误差(照射位置关联值误差)矢量显示”。横轴为X方向误差，纵轴为Y方向误差。误差矢量显示31中，与带电粒子束I的照射束点相对应地显示有误差点32。如图6这样在误差平面上的显示、即误差矢量显示31中，将位置误差中的误差矢量显示31作为位置误差矢量显示31a加以区分。在判断实际的照射是否在粒子射线照射装置58的容许误差范围内进行时，误差矢量显示31是最有效的显示方法。在误差矢量显示31中，通过进一步显示表示容许误差范围边界的边界线，从而能够容易判断出实际的照射是否在容许误差范围内进行。
用于生成枕形显示20、时间序列显示30或误差矢量显示31的数据、即实际照射位置关联数据在带电粒子束I的照射过程中可获得，在进行粒子射线治疗时也可获得。实际照射位置关联数据是和带电粒子束I的实际照射位置相关联的数据。在实施方式I中，实际照射位置关联数据是由位置监视器12a、12b检测并计算出的带电粒子束I的位置数据。实际照射位置关联数据也可以是由后述的磁场传感器8、9 (参照图9)检测到的带电粒子束I的磁场数据。此外，实际照射位置关联数据除了是通过位置监视器12a或12b的位置数据以外，也可以是在某个基准面上的带电粒子束I的位置数据。例如，可以将基准面设为对照射对象18进行切片后的切面，并将实际照射位置关联数据作为切面上的带电粒子束I的位置数据。能够在照射过程中对枕形显示20、时间序列显示30、误差矢量显示31进行显示(在线显示)，也能够在照射结束后的任意时刻进行显示(离线显示)。在存储实际照射位置关联数据的存储器容量有限时，只要在特定事件发生时获取数据即可，例如在粒子射线照射装置58的工作日的早晨进行第一次校准时、或在该日进行第一次治疗时等获取数据。就算测定数据中产生误差，但由于误差存在容许范围，因此即使在发生特定事件时获取数据的情况下，也能够判断进行维护的时期。即使在对粒子射线照射装置58进行设定或校准时，也能使用枕形显示20、事件序列显示30、误差矢量显示31。特别是在线显示较有效。在该情况下，也能够将照射位置P与照射位置误差P 6 r r。J目对应，从而显示出带电粒子束I的照射位置精度。另外，还能够将和照射位置相关联的照射位置关联值P R、与照射位置关联值误差P Re H"相对应，从而显示出带电粒子束I的照射位置精度。因此，能够容易得出设定时的调整的方案，即、在哪个方向(X方向、Y方向)上以多少的量来进行修正。在进行离线显示时，例如能够将三天的结果重叠在一起来进行显示，从而观察出误差的变化。另外，通过重叠基准日的数据来进行显示，能够观察出与基准日之差。在观察误差的变化、与基准日 之差的同时，还能判断维护的时期。对各个装置选择变形计数k的输入值。一般来说，扫描电磁铁越大，则误差越大。另外，扫描电磁铁与照射对象的距离越远，则误差越大。误差较大，使得能够清楚地察觉出实际照射位置P m ε a s U I.ε d (实际照射位置关联值P Rm6afiUI^d)与目标照射位置P d ε S ir e d (目标照射位置关联值P Rdesir d)之差，此时即使不进行变形也可以，即、可以将变形计数k设为I。在误差非常小的情况下，通过使用较大的变形计数k，能够容易掌握照射位置精度。此外，可以将变形系数设定为1、或者设定为上次使用的值，以作为默认值。通过使用默认值，能够在进行枕形显示时，无需每次从外部输入变形系数。根据上述实施方式I的粒子射线照射装置58，由于包括:检测器12a、12b，该检测器12a、12b检测和带电粒子束I的照射位置相关联的实际照射位置关联值P Rmeasured ；以及数据处理装置19，该数据处理装置19将照射位置关联值误差P R e μ与实际照射位置关联值P Rmeasur e d相对应地在显示部43上显示，该照射位置关联值误差P R e M是实际照射位置关联值P Rme a s u u d的、相对于目标照射位置关联值P Rdesired的误差，该目标照射位置关联值P Rdesir “和带电粒子束I的目标照射位置相关联，数据处理装置19具有:输入部41，该输入部41输入实际照射位置关联值P Rme a s u P e d以及目标照射位置关联值PRdesiped;以及运算部42，该运算部42在和带电粒子束I的照射区域相关联的照射区域关联区域上、显示表示目标照射位置关联值P Rdesired的目标值显示图形23以及表示实际照射位置关联值P Rmeasured的测定值显示图形24时，在目标照射位置关联值PRdesiUd的坐标上显示目标值显示图形23，在将利用变形系数k对照射位置关联值误差P R ε ^进行运算后的坐标加上目标照射位置关联值PRd6siUd而得到的坐标、即显示坐标P Rd “上显示测定值显示图形24，并显示将测定值显示图形24与目标值显示图形23相连接的线段25，因此能够将和照射位置相关联的照射位置关联值P R与照射位置关联值误差P Rerro J目对应，从而显示出带电粒子束I的照射位置精度。因而，对于使用者来说，能够直观上易于察觉，容易掌握将和带电粒子束I的照射位置相关联的照射位置关联值P R、与照射位置关联值误差P R6HM相对应后的照射位置精度，并适当地维持照射位置精度，对其进行维护。另外，根据实施方式I的粒子射线照射装置58，由于包括:检测器12a、12b，该检测器12a、12b检测和带电粒子束I的照射位置相关联的实际照射位置关联值P Rmeasure d ;以及数据处理装置19，该数据处理装置19基于实际照射位置关联值P Rme a s u u <1来计算带电粒子束I的实际照射位置P m e a s u u d，并将照射位置误差P e 。^与实际照射位置P m e a s u U d相对应地在显示部43上显示，该照射位置误差P e M是实际照射位置Pmeasur ε 、相对于带电粒子束I的目标照射位置的误差，数据处理装置19具有:输入部41，该输入部41输入实际照射位置关联值P Rmeasured以及目标照射位置Pd6siUd ;以及运算部42，该运算部42在带电粒子束I的照射区域上显示表示目标照射位置Pdes h e d的目标值显示图形23以及表示实际照射位置Pmeasuped的测定值显示图形24时，在目标照射位置PdesiUd的坐标上显示目标值显示图形23，在将利用变形系数k对照射位置误差P 6 r r。^进行运算后的坐标加上目标照射位置P d esir ε d而得到的坐标、即显示坐标P d e ￡上显示测定值显示图形24，并显示将测定值显示图形24与目标值显示图形23相连接的线段25，因此能够将照射位置P与照射位置误差P ε J目对应，从而显示出带电粒子束I的照射位置精度。因而，对于使用者来说，能够直观上易于察觉，容易掌握将带电粒子束I的照射位置P与照射位置误差P 6 μ相对应后的照射位置精度，并适当地维持照射位置精度，对其进行维护。实施方式2
在实施方式I中，提出了成为枕形显示的基础的数学式(2)，并导入了所谓变形系数这一概念。在实施方式2中，示出了将该变形系数分为X方向分量用和Y方向分量用、并分别进行保存的方法。图7是表示本发明的实施方式2的第I枕形显示的图，图8是表示本发明的实施方式2的第2枕形显示的图。图7是表示对X方向进行30倍的变形、并对Y方向进行I倍的变形时的枕形显示20 (20b)的示例。另外，图8是表示对X方向进行I倍的变形、并对Y方向进行30倍的变形时的枕形显示20 (20c)的示例。在X方向及Y方向分别具有变形系数的情况下，位置误差P e 。^能够由数学式(5 )来表示，而将位置误差进行变形后的实际照射位置P d ε f能由数学式(6 )来表示。如在实施方式I中说明的那 样，目标照射位置PdesiU d、实际照射位置Pmeasu^ d、将位置误差进行变形后的实际照射位置P d e f以及位置误差P e r r。^全部是矢量显示。此外，对于目标照射位置关联值、实际照射位置关联值、照射位置关联值误差、经变形后的实际照射位置关联值，只要替换成带有R的标号即可。[数学式1]


本发明的目的在于得到一种粒子射线照射装置，该粒子射线照射装置能够将和带电粒子束的照射位置相关联的照射位置关联值、与照射位置关联值误差相对应地进行显示。该粒子射线照射装置包括数据处理装置(19)，该数据处理装置(19)将照射位置关联值误差与实际照射位置关联值相对应地在显示部(43)上显示，该照射位置关联值误差是和带电粒子束(1)的照射位置相关联的实际照射位置关联值的、相对于和目标照射位置相关联的目标照射位置关联值的误差，数据处理装置(19)具有运算部(42)，该运算部(42)在目标照射位置关联值的坐标上显示目标值显示图形(23)，在将利用变形系数对照射位置关联值误差进行运算后的坐标加上目标照射位置关联值而得到的坐标、即显示坐标上显示测定值显示图形(24)，并显示将测定值显示图形(24)与目标值显示图形(23)相连接的线段(25)，其中，该目标值显示图形(23)表示目标照射位置关联值，该测定值显示图形(24)表示实际照射位置关联值。