磁记录介质用无碱玻璃及使用该无碱玻璃的磁记录介质用玻璃基板的制作方法 [0003] 以往，对于磁记录介质用基板玻璃、特别是在表面上形成金属或氧化物薄膜等的 磁记录介质用基板玻璃，要求例如专利文献1示出的以下所示的特性。 [0004] (1)含有碱金属氧化物时，会与空气中的水、二氧化碳反应而在基板表面生成反应 产物，所谓的耐候性降低，从而使磁记录层劣化，因此，优选碱金属离子要少。 [0005] (2)在薄膜形成工序中暴露于高温时，为了将玻璃的变形和玻璃的结构稳定化所 伴随的收缩（热收缩）抑制在最小限度，玻璃化转变温度要高。 [0006] 另外，近年来，伴随着硬盘驱动器的记录容量的增大，高记录密度化正在快速发 展。但是，伴随着高记录密度化，磁性粒子的微细化会损害热稳定性，串扰、再生信号的SN 比降低成为问题。因此，作为光与磁的融合技术，热辅助磁记录技术受到关注。该技术是在 使对磁记录层照射激光或近场光而局部加热后的部分的矫顽力降低的状态下施加外部磁 场来进行记录、并利用GMR元件等读取记录磁化的技术，由于能够在高保持力介质上进行 记录，因此，能够在保持热稳定性的同时使磁性粒子微细化。但是，为了将高保持力介质成 膜为多层膜，需要将基板充分加热，从而要求耐热性。在垂直磁记录方式中，为了应对高记 录密度化的要求，也提出了与以往不同的磁记录层，但这种磁记录层的成膜大多需要使基 板达到高温来进行。基于上述理由，也要求玻璃化转变温度高。 [0007] (3)磁记录介质用玻璃基板的制造工序中，大多使用含有二氧化铈磨粒的浆料进 行研磨。并且，为了清洗除去研磨后的浆料而使用pH为2以下的强酸性洗涤液或pH为12 以上的强碱性洗涤液，对这些化学品要具有充分的化学耐久性。 [0008] (4)研磨或清洗后的基板表面要足够平滑。
[0009] (5)为了不产生硬盘驱动器的旋转中的翘曲、挠曲，比弹性模量要高。
[0010] (6)为了不发生破裂，强度要高。
[0011] (7)内部和表面要没有缺陷（气泡、波筋、夹杂物、麻坑、伤痕等）。
[0012] 在上述要求的基础上，近年来还出现了如下所述的状况。
[0013] (8)为了减轻硬盘驱动器旋转时的电动机负荷、降低耗电量，要求磁盘的轻量化， 玻璃本身也期望为密度小的玻璃。
[0014] (9)基于磁记录介质的轻量化的要求，期望基板玻璃的薄板化。
[0015] (10)为了加快磁记录层成膜时的升温和降温速度而提高生产率或者提高耐热冲 击性，要求线膨胀系数小的玻璃。
[0016]另一方面，在制造磁记录介质用基板时，为了将玻璃基板的主表面精加工至平滑， 对该主表面进行镜面研磨（参考专利文献2)。上述镜面研磨中，使研磨垫与玻璃基板的主 表面接触，向该玻璃基板的主表面供给含有研磨磨粒的酸性（PH1?3)的研磨液，并使该玻 璃基板与上述研磨垫相对移动而对该玻璃基板的主表面进行研磨。
[0017] 现有技术文献
[0018] 专利文献
[0019] 专利文献1:日本特开2012-106908号公报
[0020] 专利文献2:日本特开2007-257810号公报



[0021] 发明所要解决的问题
[0022] 随着磁记录介质的薄板化和记录密度的高密度化的发展，要求进一步减小硬盘驱 动器旋转中的翘曲、挠曲，进一步提高研磨、清洗后的表面平滑性，并提高应对磁记录层的 成膜温度的高温化的耐热性。另外，对磁记录介质的实用强度的要求也提高，为了应对该要 求，提高基板玻璃的断裂韧性是有用的。
[0023] 因此，磁记录介质用基板玻璃要求具有高比弹性模量、高杨氏模量、高耐热性、高 化学耐久性、低密度和高强度。
[0024] 本发明的目的在于提供比弹性模量高且杨氏模量高、玻璃化转变温度高、化学耐 久性高、密度低、强度高并且容易浮法成形的磁记录介质用无碱玻璃及使用该无碱玻璃的 磁记录介质用玻璃基板。
[0025] 另外，本发明的目的在于提供在实施镜面研磨时玻璃基板主表面的表面粗糙度的 劣化得到抑制的磁记录介质用玻璃基板的制造方法。
[0026] 用于解决问题的手段
[0027] 本发明提供一种磁记录介质用无碱玻璃，其中，
[0028] 杨氏模量为87GPa以上，
[0029] 以基于氧化物的质量％计含有：