专利名称：一种去污剂配方及工艺的制作方法目前除油去污采用的是有机溶剂、热碱溶液和表面活性剂溶液清洗的方法。有机溶剂法分为两类一类是以商代烃为活性物，但二氯乙烷毒性较大，又破坏臭氧层，不环保； 另一类是以石烃为活性物，以煤油为主要活性物。这种方法不仅浪费能源，还污染环境，又有安全隐患。特别是对衣物上的油污进行清洗时，更要注重无毒素、无污染。
本发明的目的是针对现有技术的不足，而提供一种去污剂配方及工艺，其无毒素、 无污染，采用环保型有机物溶剂将顽固油污稀释，待几分钟后，轻轻一拍，彻底去除，无需过水，不留痕迹。为实现上述目的，本发明采用如下技术方案，其包括二氧化硅、烃类溶剂、氯类溶剂、抛射剂，各用用料的重量百分比如下二氧化硅重量百分比为3% 15%，烃类溶剂重量百分比为15% 50%，氯类溶剂重量百分比为10% 45%，抛射剂重量百分比为20% 45%。所述的配方还添加有酮类溶剂、醇类溶剂、香精，其含量占总配方料的重量百分比分别为酮类溶剂重量百分比为3% 10%，醇类溶剂重量百分比为3% 10%，香精重量百分比为0. 5%。 2%0。所述的二氧化硅为气相法二氧化硅、沉淀法二氧化硅中的任意一种；烃类溶剂为正戊烷、环戊烷、正己烷、环己烷，6#白电油中的任意一种几种配合使用；氯类溶剂为三氯乙烯、四氯乙烯、1，1，1-三氯乙烷中的任意一种；抛射剂为液化石油气(LPG)、二甲醚(DME) 中的任意一种；酮类溶剂为丙酮、丁酮中的任意一种；醇类溶剂为无水乙醇、异丙醇中的任意一种。利用去污剂配方制作去污剂方法步骤是(1)按配方计量将三氯乙烯或四氯乙烯加入配料锅内，低速搅拌；(2)加入烃类溶剂调节至中速搅拌；(3)缓慢加入二氧化硅，持续搅拌至二氧化硅粉团消失，且配料锅壁基本无二氧化硅粉积聚；(4)经过过滤，然后进行装罐、封口，再进行充气。本发明有益效果为各用用料的重量百分比如下二氧化硅重量百分比为3% 15%，烃类溶剂重量百分比为15% 50%，氯类溶剂重量百分比为10% 45%，抛射剂重量百分比为20% 45%，本品采用环保型有机物溶剂将顽固油污稀释，待几分钟后，轻轻一拍，彻底去除，无需过水，不留痕迹，布料干洗，快捷有效，并且符合环保要求，不污染环意一种。利用去污剂配方制作去污剂方法步骤是(1)按配方计量将三氯乙烯或四氯乙烯加入配料锅内，低速搅拌；(2)加入烃类溶剂调节至中速搅拌；(3)缓慢加入二氧化硅，持续搅拌至二氧化硅粉团消失，且配料锅壁基本无二氧化硅粉积聚；(4)经过过滤，然后进行装罐、封口，再进行充气。使用本发明前请将罐身倒转摇勻，距离15-20cm均勻喷于污渍上，待完全干透后， 轻轻刷去白色粉末，油污即告清除，对付顽固污渍，可重复以上操作，使用对象西服、礼服、 大衣、衬衣、丝质服装、布沙发、羊毛、针织物、棉织物、领带等织物上的有机物油污污渍快速去污，外出旅游、参加晚宴，家庭使用去油污方便、快速；因为，一般有机物油污是在意外中残留，本品采用环保型有机物溶剂将顽固油污稀释，待几分钟后，轻轻一拍，彻底去除，无需过水，不留痕迹，布料干洗，快捷有效，并且符合环保要求，不污染环境。以上所述仅是本发明的较佳实施例，故凡依本发明专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均包括于本发明专利申请范围内。
本发明涉及化工去污剂技术领域，特指一种去污剂配方及工艺，其包括用料的重量百分比如下二氧化硅重量百分比为3％～15％，烃类溶剂重量百分比为15％～50％，氯类溶剂重量百分比为10％～45％，抛射剂重量百分比为20％～45％，其制作去污剂方法步骤是按配方计量将三氯乙烯或四氯乙烯加入配料锅内，低速搅拌；加入烃类溶剂调节至中速搅拌；缓慢加入二氧化硅，持续搅拌至二氧化硅粉团消失，且配料锅壁基本无二氧化硅粉积聚；经过过滤，然后进行装罐、封口，再进行充气；其无毒素、无污染，采用环保型有机物溶剂将顽固油污稀释，待几分钟后，轻轻一拍，彻底去除，无需过水，不留痕迹。