含银低辐射玻璃及其制造方法

曾小绵, 陈可明

2012年3月14日

2010年8月24日

2010年8月24日

中国南玻集团股份有限公司

C03C17/36GK102372447SQ20101026182

低辐射 含银 玻璃 制造

1.一种含银低辐射玻璃，其特征在于，该玻璃膜层结构依次为玻璃基片、基层电介质组合层、第一银层、第一阻挡层、第一隔层电介质组合层、第二银层、第二阻挡层、第二隔层电介质组合层、第三银层、第三阻挡层、第三隔层电介质组合层、第四银层、第四阻挡层、上层电介质组合层2.如权利要求1所述的含银低辐射玻璃，其特征在于，所述基层电介质组合层、第一隔层电介质组合层、第二隔层电介质组合层、第三隔层电介质组合层、上层电介质组合层由 TiO2, ZnSnOx、SnO2, ZnO, SiO2, Ta2O5, BiO2, A1203、ZnAl2O4, Nb2O5 和 Si3N4 中的一种或几种构成；所述第一阻挡层、第二阻挡层、第三阻挡层、第四阻挡层由Ti、TiOx, NiCr, NiCrOx和 NiCrNx中的一种或几种构成3.如权利要求1所述的含银低辐射玻璃，其特征在于，所述基层电介质组合层厚度为 25 27nm ；所述第一隔层电介质组合层厚度为67 69nm ；所述第二隔层电介质组合层厚度为69 71nm ；所述第三隔层电介质组合层厚度为71 73nm ；所述上层电介质组合层厚度为M 27nm4.如权利要求1所述的含银低辐射玻璃，其特征在于，所述第一阻挡层、第二阻挡层、 第三阻挡层、第四阻挡层厚度为0. 25 0. 3nm5.如权利要求1所述的含银低辐射玻璃，其特征在于，所述第一银层厚度为7 Snm； 第二银层厚度为11 12nm ；第三银层厚度为12 13nm ；第四银层厚度为13 14nm6.如权利要求1所述的含银低辐射玻璃，其特征在于，所述上层电介质组合层包括沉积于所述第四阻挡层上的第一上层电介质组合层和沉积于所述第一上层电介质组合层上的第二上层电介质组合层；所述第一上层电介质组合层的厚度为15 16nm ；所述第二上层电介质组合层的厚度为9 llnm7.如权利要求6所述的含银低辐射玻璃，其特征在于，所述第一上层电介质组合层由 TiO2, ZnSnOx、SnO2, ZnO, SiO2, Ta2O5, BiO2, A1203、ZnAl2O4, Nb2O5 和 Si3N4 中的一种或几种构成；所述第二上层电介质组合层由 TiO2、SiSnOx、SnO2、SiO、SiO2,Ta2O5^BiO2,A1203>ZnAl2O4, Nb2O5和Si3N4中的一种或几种构成8.—种如权利要求1 7任一项所述的含银低辐射玻璃的制造方法，其特征在于，包括依次沉积各膜层的步骤，具体如下S1、清洗玻璃基片，干燥后置于磁控溅射区；S2、中频电源加旋转阴极溅射沉积基层电介质组合层；S3、直流电源加脉冲溅射沉积第一银层；S4、直流电源加脉冲溅射沉积第一阻挡层；S5、中频电源加旋转阴极溅射沉积第一隔层电介质组合层；S6、直流电源加脉冲溅射沉积第二银层；S7、直流电源加脉冲溅射沉积第二阻挡层；.58、中频电源加旋转阴极溅射沉积第二隔层电介质组合层；.59、直流电源加脉冲溅射沉积第三银层；.510、直流电源加脉冲溅射沉积第三阻挡层；.511、中频电源加旋转阴极溅射沉积第三隔层电介质组合层；.512、直流电源加脉冲溅射沉积第四银层；.513、直流电源加脉冲溅射沉积第四阻挡层；.514、中频电源加旋转阴极溅射沉积上层电介质组合层9.如权利要求8所述的含银低辐射玻璃的制造方法，其特征在于，沉积镀膜时，镀膜线配置有保持系统背景真空的真空度在3 X IO-6Hibar以上的无油分子泵；银靶的邻近隔仓位配置有用于吸收水分的低温泵10.如权利要求8所述的含银低辐射玻璃的制造方法，其特征在于，所述中频电源加旋转阴极溅射是在氩氮或氩氧氛围中进行，频率为40kHz，功率为30 50kw ；所述直流电源加脉冲溅射是在氩气氛围或氩氧氛围中进行，功率为0. 6 3kw

本发明涉及特种玻璃领域，尤其涉及一种含银低辐射玻璃及其制造方法背景技术低辐射玻璃是一种在玻璃表面沉积一层红外线反射材料，使太阳光中的可见光能够透过，又像红外线反射镜一样，将太阳光中的红外线排除在外同时将物体二次辐射热反射回去的特种玻璃通过使用低辐射玻璃，可以达到控制阳光、节约能源、热量控制调节及改善环境的效果在传统的低辐射玻璃加工过程中，为了能实现较好的U值和选择系数Lsg，就必须增加膜层中的银层厚度来降低玻璃膜层的辐射率，以得到理想的选择系数，但是增加银层厚度就意味着可见光透过率降低、外观颜色呈现干扰色，影响玻璃的使用

基于此，有必要提供一种可见光透过率高、外观不呈现干扰色的含银低辐射玻璃同时，还有必要提供一种可见光透过率高、外观不呈现干扰色的含银低辐射玻璃的制造方法一种含银低辐射玻璃，膜层结构依次为玻璃基片、基层电介质组合层、第一银层、 第一阻挡层、第一隔层电介质组合层、第二银层、第二阻挡层、第二隔层电介质组合层、第三银层、第三阻挡层、第三隔层电介质组合层、第四银层、第四阻挡层、上层电介质组合层优选的，基层电介质组合层、第一隔层电介质组合层、第二隔层电介质组合层、第三隔层电介质组合层、上层电介质组合层由Ti02、ZnSnOx、SnO2,ZnO,SiO2,Ta2O5>Bi02、A1203、 ZnAl2O4^Nb2O5和Si3N4中的一种或几种构成；第一阻挡层、第二阻挡层、第三阻挡层、第四阻挡层由Ni、Cr、NiCrOx和NiCrNx中的一种或几种构成优选的，基层电介质组合层厚度为25 27nm ；第一阻挡层、第二阻挡层、第三阻挡层、第四阻挡层厚度为0. 25 0. 3nm ；第一隔层电介质组合层厚度为68 69nm ；第二隔层电介质组合层厚度为70 71nm ；第三隔层电介质组合层厚度为72 73nm ；上层电介质组合层厚度为M 27nm优选的，四银层厚度上要求第一银层厚度小于第二银层、第二银层厚度小于第三银层、第三银层厚度小于第四银层四层银层厚度总和约为43nm 47nm，其各银层厚度关系满足产品外观颜色如下表内的颜色值范围