专利名称：一种用于单晶硅片清洗的洗片机的制作方法单晶硅片在生产打磨好后需要清洗表面的污垢，现有的清洗设备比较传统，就是 将单晶硅片放入放入水槽中冲洗。这样方式洗得很不干净，而且由于单晶硅片比较薄，很多 都重叠在一起，所以每次清洗非常不方便。发明内容为了克服上述现有技术的缺陷，本实用新型的目的在于提供一种用于单晶硅片清 洗的洗片机，能够将单晶硅片挂上并从各种角度清洗，能使工作效率提高，并且清洗得更加 干净。为了达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的一种用于单晶硅片清洗的洗片机，包括一工作台1，工作台1上设置有至少一排挂 架2，在挂架2的下方设置有水管3，每两根水管3中间的正上方是挂架2，在水管3上设置 有可调节的喷嘴组4，喷嘴组4的下方设置有排水槽5。由于本实用新型设置有挂架2，所以可将单晶硅片悬挂于上面；由于喷嘴组4可调 节，可对悬挂于挂架2上的单晶硅片从各个角度冲洗。附图是本实用新型的结构原理图。以下结合附图对本实用新型的结构原理和工作原理作详细叙述。参照附图，一种用于单晶硅片清洗的洗片机，包括一工作台1，工作台1上设置有 至少一排挂架2，用于悬挂单晶硅片，在挂架2的下方设置有水管3，每两根水管3中间的正 上方是挂架2，在水管3上设置有可调节的喷嘴组4，喷嘴组4的下方设置有排水槽5，冲洗 的水通过排水槽5排到工作台1的下水道中。本实用新型的工作原理为将单晶硅片悬挂于挂架2上，水通过水管3从喷嘴组中 喷出，喷嘴组的方向可调，可根据清洗要求调整喷水的方向。冲洗的水通过排水槽5排到工 作台1的下水道中。