带嘴坩埚的粘接工艺的制作方法[0002]坩锅是冶炼炉的重要组成部分，它是熔化和精炼金属液体的空间，是保证冶炼顺利进行的基础。坩埚的型号规格较多，在应用时不受生产规模、批量大小和熔炼物质品种的限制，可任意选择，适用性较强，并可保证被熔炼物质的纯度。坩埚的生产原料，可概括为三大类型。一是结晶质的天然石墨，二是可塑性的耐火粘土，三是经过煅烧的硬质高岭土类骨架熟料。从2008年开始，开始采用耐高温的合成材料，如:碳化硅、氧化铝金刚砂及硅铁等做坩埚的骨架熟料。这种熟料对提高坩埚产品质量，增强坩埚密度和机械强度有着显著效果O[0003]坩锅的应用体现在灼烧固体物质，溶液的蒸发、浓缩或结晶(如果有蒸发皿，应该选择蒸发皿。当然坩埚也可以用于溶液的蒸发、浓缩或结晶)。[0004]专利号201110395843.2的发明专利公开了一种碳碳化硅坩埚及其制作工艺，解决普通坩埚强度低、抗热震性能差、使用寿命短等问题。碳碳化硅坩埚由碳素纤维和碳化硅复合而成，制作工艺步骤包括预制、固化、致密、纯化、浸硅、炭化、成型。可显著降低坩埚厚度，增加坩埚强度和抗热震性能，提高使用寿命。适合高温炉，如单晶炉等使用。[0005]专利号201010166776.2的发明涉及一种石英坩埚内表面处理工艺，包括如下步骤:在3300-3800°C条件下把表面处理层涂料喷涂到石英坩埚内壁；开启真空泵，保持温度3-9分钟后关闭真空泵；本发明解决了现有技术中石英坩埚抗蠕变力差、坩埚容易碎裂、表面容易脱离影响产品品质、容易出现气泡影响产品品质等问题，通过形成均匀的晶体结构，减少内表面的结晶位错，减少了气孔的形成，提高产品品质，同时该结晶层与石英坩埚本体的伸缩性能接近，坩埚内产生的应力小，极大地避免了因应力过大而造成的石英坩埚的碎? ο[0006]专利号201110039317.2的发明公开了一种坩埚及坩埚的生产工艺，包括以下以重量百分比计的成份:细度不大于6目的矾土 30% -60%，细度不大于180目的红柱粉5%-15%，细度不大于325目的滑石粉3%-11%，细度不大于10目的刚玉5%-14%，高岭土 20%-37%。另外还提供上述坩埚的生产工艺。本发明所用原材料成本低廉，制造工艺简单易行，适合企业批量生产。[0007]然而，本领域的技术人员都熟知坩埚包括带嘴石墨坩埚，带嘴石墨坩埚用于冶炼:紫铜，黄铜，电解铜，铅，铝，锌，等有色金属；带嘴石墨坩埚通常指的在坩埚上设置有流出嘴，便于原料的倒出。带嘴石墨坩埚通常是坩埚坯体上粘接带嘴部分而成。
[0008]


[0009]本发明的目的在于在此提供一种带嘴坩埚的粘接工艺。[0010]本发明是这样实现的，构造一种带嘴坩埚的粘接工艺，其特征在于:采用等静压工艺生产的坩埚作为粘接对象；包括如下步骤；
(1)在半成品坩埚坯体上按照需粘接嘴子的尺寸大小(嘴子尺寸420X300)合理开槽(槽子尺寸380X280)；
(2)再在粘接面开单边槽，加强粘接处的抗折能力，并对外观进行修正；
(3)将完成开槽后的半成品坩埚与嘴子随工艺进行烘干、上釉、烧结，加强坯体硬度；让坩埚坯体内水份低于1%，上釉:为坩埚坯体上一次保护层，烧结:使坩埚坯体内粘接材料反应，增加坩埚坯体强度，并使釉层反应，玻化后紧附与坩埚表面，时坩埚在使用过程中不氧化；
(4)烧结后剔除粘接端表面釉层，并将粘接面打磨粗糙；
(5)将粘接剂均匀涂抹至粘接面上并合紧粘接部位，随后自然晾干48小时；
(6)在粘接处上釉，再次进行烧结；烧结后该粘接工艺完成。
[0011]根据本发明所述带嘴坩埚的粘接工艺，其特征在于:粘接剂配方:碳化硅SIC占61%，粘土占8%，水玻璃占31%。
[0012]本发明的优点在于:
1、能根据客户需要生产不同尺寸的带嘴坩埚；
2、粘接处能耐高温、耐腐蚀、耐外力挤压；
3、粘接处通过修整后使带嘴坩埚外观平整。



[0013]图1-2是坩埚坯体示意图
图3-4在坩埚上去掉规定尺寸用于镶嵌嘴子部位后的示意图 图5再在粘接面开单边槽示意图。

[0014]下面对本发明进行详细说明，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0015]本发明公开一种带嘴坩埚的粘接工艺，采用等静压工艺生产的坩埚作为粘接对象；包括如下步骤；
(I)在半成品坩埚坯体上按照需粘接嘴子的尺寸大小(嘴子尺寸420X300)合理开槽(槽子尺寸380X280)。在坩埚上去掉380X280的规定尺寸用于镶嵌嘴子部位。如图3_4所示。
[0016](2)再在粘接面I开单边槽2，加强粘接处的抗折能力，并对外观进行修正；如图5所示。
[0017](3)将完成开槽后的半成品坩埚与嘴子随工艺进行烘干、上釉、烧结，加强坯体硬度。让坩埚坯体内水份低于1%，上釉:为坩埚坯体上一次保护层，烧结:使坩埚坯体内粘接材料反应，增加坩埚坯体强度，并使釉层反应，玻化后紧附与坩埚表面，时坩埚在使用过程中不氧化。
[0018](4)烧结后剔除粘接端表面釉层，并将粘接面打磨粗糙。
[0019](5)将粘接剂均匀涂抹至粘接面上并合紧粘接部位，随后自然晾干48小时；所述粘接剂:Sic (碳化硅)占61%，粘土占8%，水玻璃占31%。
[0020](6)在粘接处上釉，再次进行烧结；烧结后该粘接工艺完成。
[0021]对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种 修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。