专利名称：一种细胞静磁场加载装置的制作方法现代科学技术的发展已经揭示出磁的普遍性，即一切物质都具有磁性；任何空间都存在磁场。磁场可以分为稳恒磁场和变磁场。恒定电流(直流)或静止永磁体产生的磁场，其大小和方向不随时间改变，称为稳恒磁场，或称静磁场。随着科学技术的发展，磁场被广泛的应用于工业、电力、信息通讯、医疗卫生等各个领域。目前国内外学者在磁场的生物学效应方面进行了大量的研究，涉及磁场对生物大分子、细胞、微生物及有机体的影响等方面。磁场力是正畸中尚待开发的重要力源。随着磁性材料的广泛开发和利用，磁力正畸在国内外得到了广泛开展，但磁力应用的范围、磁力正畸的机理尚不清楚。随着磁性材料的开发和利用，磁力正畸在国内外得到了广泛的开展。为研究静磁场信号对体外培养细胞形态、功能、信号传导及细胞骨架改建的影响及应答变化，阐明磁力正畸的应用机理提供实验依据，需要一种装置来进行实验研究。发明内容本实用新型的发明目的在于针对上述存在的问题，提供一种可以对体外培养的细胞进行加载的细胞静磁场加载装置。本实用新型采用的技术方案是这样的一种细胞静磁场加载装置，包括间隔设置的上下两磁极，所述两磁极外侧还分别设置有一磁轭，两磁极内侧分别设置一加载平台，所述两磁极的左右两端中的至少一端分别与一支撑架相连，所述支撑架与两磁极的中心连线平行；该静磁场装置产生的静磁场方向为垂直方向，磁轭由纯铁材料制成，同时可以起到磁屏蔽的作用，。作为优选所述加载平台为圆形的凹槽状，直径为35_45mm。作为优选所述支撑架为可伸缩架。进一步的所述可伸缩架上刻有刻度，可以根据需要方便地调整两磁极的距离。作为优选所述磁极由钕铁硼永磁体和极靴组成，磁极大小可以根据需要进行任意改变，钕铁硼永磁体提供所需强度的静磁场(8mT、50mT、160mT),极靴使得磁场更加均勻。更进一步的所述磁轭的外表面镀有一层镍，装置表面镀镍，可以放置钕铁硼永磁体和纯铁磁轭在37°C、饱和湿度条件下的(X)2细胞培养箱中不被腐蚀。本细胞静磁场加载装置的设计原理借鉴永磁式磁共振成像系统的磁路设计原理，采用三维电磁场分析有限元软件包，设计制作不同磁场强度的细胞静磁场加载装置。通过优化磁极及极靴的形状和尺寸，使改装置的两磁极间产生高均度的静磁场区域，该区域不仅均勻度高，而且具有相当大的均勻范围，可以使实验细胞受到条件一致的磁场作用，从而使实验结果可靠，具有可重复性。[0014]综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是本实用新型设计的细胞静磁场加载装置，可以对体外培养的细胞进行加载，并结合分子生物学检测技术和电子扫描电镜、激光共聚焦显微镜等仪器，可以观察不同时间、不同磁场强度的静磁场对细胞细胞形态及细胞表面超微结构、细胞增殖活性、碱性磷酸酶活性、细胞内钙离子浓度及细胞骨架表达及改建的影响，探讨磁力正畸过程中不同强度的静磁场对细胞形态及功能活性的作用及其机制。为研究静磁场的细胞生物学效应提供了研究手段。图1是本实用新型实施例1的结构示意图。图中标记1为磁极；2为磁轭；3为支撑架；4为刻度；5为加载平台；6为镍层。以下结合附图，对本实用新型作详细的说明。为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。如图1所示，一种细胞静磁场加载装置，包括间隔设置的上下两磁极1，所述两磁极1外侧还分别设置有一磁轭2，两磁极1内侧分别设置一加载平台5，所述加载平台5为圆形的凹槽状，直径为40mm，所述两磁极1的左右两端分别与一支撑架3相连，所述支撑架 3与两磁极1的中心连线平行，所述支撑架3为可伸缩架，可伸缩架上刻有刻度4，该静磁场装置产生的静磁场方向为垂直方向，磁轭2由纯铁材料制成，同时可以起到磁屏蔽的作用； 所述磁极1由钕铁硼永磁体和极靴组成，磁极大小可以根据需要进行任意改变，极靴使得磁场更加均勻；所述磁轭2的外表面镀有一层镍层6，可以放置钕铁硼永磁体和纯铁磁轭在 37°C、饱和湿度条件下的CO2细胞培养箱中不被腐蚀。以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。