专利名称：一种用于日用瓷上釉的外釉机的制作方法目前日用瓷生产过程中，浸釉是外釉工序采用最多的上釉方式之一。该上釉方式是在一个开口容器中盛放一定量的釉液，然后手工将陶瓷坯体浸入该釉液，釉液吸附在坯体的外表面，完成上外釉工序。采用此种浸釉方式上釉，由于釉液的深度大于日用瓷产品的上釉线的高度，手持日用瓷产品上釉时较难控制，易产生漫釉、缺釉的缺陷，且该上釉方式的轴液易沉淀，影响上轴的品质。
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。[0013]图1为本实用新型一种用于日用瓷上釉的外釉机的第一个实施例的结构示意图；图2为本实用新型一种用于日用瓷上釉的外釉机的第二个实施例的结构示意图。下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。图1所示用于日用瓷上釉的外釉机，上釉容器I位于储釉容器3的上方，上釉容器I上设置有送釉管2，送釉管2的一端连接上釉容器I的底壁，显然送釉管2还可以连接于上釉容器I的侧壁，或者从上釉容器I的开口端伸入。送釉管2的另一端伸入储釉容器3的釉液中，送釉管2上设置有泵4将釉液从储釉容器3输送至上釉容器I中。釉液充满上釉容器I后，会持续从上釉容器I的开口端溢出，实现上釉容器I中釉液的液面与上釉容器I开口端持平，且能通过釉液的流动防止釉液沉淀而影响上釉品质。上釉容器I内设置有限位盘5，该限位盘5的端面到上釉容器I开口端的距离是一定的，即限位盘5的端面到上釉容器I液面的高度是恒定的，该高度为日用瓷产品上釉线的高度，进而可保证日用瓷产品在上釉时不会出现漫釉、缺釉。为了适应不同产品上釉高度的不同，该限位盘5为螺旋升降结构，通过旋转限位盘5达到调节高度，实现对不同日用瓷产品的上釉。上釉容器I外设置有回收釉液的装置，该装置是这样的:上釉容器I外侧壁固连有圆筒形环状容器6，用于收集从上釉容器I开口端溢出的釉液。显然还可以是其它适用形状，如截头锥状。环状容器6的底壁上连接有将所收集釉液回送至储釉容器3的回釉管8，回釉管8的一端伸入储釉容器3中，该设计可保证釉液的循环利用。图2为本实用新型的另一个实施例，其中采用了另一种回收釉液的装置:上釉容器I的正下方设置漏斗状回收容器9，该回收容器9的开口端显然大于上釉容器I的外形尺寸，以致可以收集从上釉容器I开口端溢出的釉液。回收容器9的底壁中部连接有将釉液回送至储釉容器3的回釉管8，回釉管8的一端伸入储釉容器3中。显然回收容器6的形状还可以是其他适用形状，如圆筒状、半球状、截头锥状等。以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。