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双轴研磨系统制作方法

  • 专利名称
    双轴研磨系统制作方法
  • 发明者
    向小月
  • 公开日
    2012年12月12日
  • 申请日期
    2012年8月26日
  • 优先权日
    2012年8月26日
  • 申请人
    向小月
  • 文档编号
    B02C17/24GK102814216SQ20121030492
  • 关键字
  • 权利要求
    1.双轴研磨系统,包括第一筒体和与该第一筒体连接的筒盖,其特征在于 该筒盖与中空分散轴转动连接,在该分散轴内设有中空分离轴,该分散轴和分离轴一端分别与驱动电机传动连接,另一端分别与分散器和分离器连接;在筒盖与分散轴之间设有两个第一密封结构,在分散轴与分离轴之间设有两个第二密封结构,其中,位于两个第一密封结构之间的筒盖上设有第一筒盖导孔和第二筒盖导孔,在两个第二密封结构之间的分散轴上设有第一分散轴导孔和第二分散轴导孔;内壁呈山字型的第一筒体与呈筒状的分散器和沿轴向剖视呈梯形的分离器配合2.根据权利要求I所述的双轴研磨系统,其特征在于 所述第一分散轴导孔与第一筒盖导孔处于同一水平线上,第二分散轴导孔与第二筒盖导孔处于同一水平线上,所述第一分散轴导孔与第二分散轴导孔上下错位分布3.根据权利要求I或2所述的双轴研磨系统,其特征在于 所述第一密封结构和第二密封结构机械密封部件,其中,所述第一密封结构包括错位设置于筒盖内侧和分散轴外侧两环形密封圈,设置于筒盖的环形密封圈位于另一环形密封圈上部;所述第二密封结构包括错位设置于分散轴内侧和分离轴外侧两环形密封圈,设于分离轴外侧的环形密封圈位于设置于分散轴内侧下方4.根据权利要求3所述的双轴研磨系统,其特征在于 所述分离轴腔壁设有螺旋结构,该螺旋结构的上升方向与分离轴转动方向相同5.根据权利要求3所述的双轴研磨系统,其特征在于 在分散轴与分离轴之间还设有冷却溶剂输送装置,该冷却溶剂输送装置设置于两个第二密封结构之间6.根据权利要求5所述的双轴研磨系统,其特征在于 所述冷却溶剂输送装置包括设于分离轴外侧或分散轴内侧的环状螺旋体,该螺旋体与分离轴或分散轴之间间隙配合7.根据权利要求6所述的双轴研磨系统,其特征在于 所述双轴研磨系统还包括热交换装置,该热交换装置包括盛冷却溶剂的容器,该容器内设有柱形螺旋状导管,在该容器上设有两个分别与第一筒盖导孔和第二筒盖导孔连通的容器接口8.根据权利要求7所述的双轴研磨系统,其特征在于 在所述第一筒盖导孔与容器导口之间设有冷却溶剂增压泵9.根据权利要求1、4、6或7任一项所述的双轴研磨系统,其特征在于 所述分离轴上设有连接分离腔的连接孔,所述分离器与分散器轴向设有连接研磨腔与分离腔的间隙10.根据权利要求9所述的双轴研磨系统,其特征在于 筒状分散器内侧设有与分散轴固定的环形凸起,该凸起的上部与第二密封结构的环形密封圈接触,其下部设有环形均匀分布有多个导向孔
  • 技术领域
    本发明涉及研磨技术领域,特别涉及一种双轴研磨系统
  • 背景技术
  • 具体实施例方式
    为了使要发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是发明一部分实施例,而不是全部的实施例基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围如图I和图2所示,本发明提供一种双轴研磨驱动装置实施例该双轴研磨系统包括包括第一筒体8和与该第一筒体8连接的筒盖I,该筒盖I与中空分散轴2转动连接,在该分散轴2内设有中空分离轴3,该分散轴2和分离轴3 —端分别与驱动电机(附图未标示)传动连接,另一端分别与分散器6和分离器7连接;在筒盖I与分散轴2之间设有两个第一密封结构4,在分散轴2与分离轴3之间设有两个第二密封结构5,其中,位于两个第一密封结构4之间的筒盖I上设有第一筒盖导孔11和第二筒盖导孔12,在两个第二密封结构5之间的分散轴2上设有第一分散轴导孔21和第二分散轴导孔22,内壁呈山字型的第一筒体8与呈筒状的分散器6和沿轴向剖视呈梯形的分离器7配合具体地说,在所述简体盖I上设有进料口,所述第一分散轴导孔21与两个第一密封结构4形成的外空腔一侧和两个第二密封结构5形成的内空腔一侧连通所述分散轴2和分离轴3—端可以与一个驱动电机传动连接,此时,分散轴2和分离轴3同步转动分散轴2和分离轴3 —端也可以分别与两个驱动电机传动连接,此时分散轴2和分离轴3可以采用同步转动,也可采用异步转动内壁呈山字型的第一筒体8两侧与呈筒状的分散器6配合,凸起部位与沿轴向剖视呈梯形的分离器6配合工作时,在有限的研磨空间内能使各个位置的物料和研磨球能保持较高的速度,提高研磨效率;另一方面更好使研磨物料能按强制的方向流动,减少物料和研磨球运动的·路径长度,增加物料与研磨球接触机会,进而提高研磨效率所述第二分散轴导孔22与两个第一密封结构4形成的外空腔另一侧和两个第二密封结构5形成的内空腔另一侧连通,即第一筒盖导孔11、第一分散轴导孔21、第二分散轴导孔22和第二筒盖导孔12顺序连接的通道,其中第一筒盖导孔11和第一分散轴导孔21位于同一侧,第二分散轴导孔22和第二筒盖导孔12位于同一侧,且第一筒盖导孔11和第二筒盖导孔12分别位于筒盖的两侧,优选为正对分布所述第一分散轴导孔21与第一筒盖导孔11处于同一水平线上,第二分散轴导孔22与第二筒盖导孔12处于同一水平线上,所述第一分散轴导孔21与第二分散轴导孔22上下错位分布,可以使冷却溶剂有适当的吸收热量的时间所述第一密封结构4和第二密封结构5采用机械密封部件,该第一密封结构4包括错位设置于筒盖I内侧和分散轴2外侧的两环形密封圈,其中设置于筒盖I的环形密封圈位于另一环形密封圈上部;所述第二密封结构5包括错位设置于分散轴2内侧和分离轴3外侧两环形密封圈,设于分离轴2外侧的环形密封圈位于设置于分散轴3内侧下方由于密封圈相互错位可以方便冷却溶剂更好与密封结构接触,进而保持密封结构工作在适当的温度,避免过早的老化在分散轴2与分离轴3之间还设有冷却溶剂输送装置,该冷却溶剂输送装置设置于两个第二密封结构5之间,该冷却溶剂输送装置包括设于分离轴3外侧环状螺旋体,如图2所示该螺旋体14与分散轴2之间间隙配合以两个电机分别带动分离轴和分离轴研磨为例说明其工作过程在两个电机分别带动分散轴和分离轴研磨时,与分离轴连接的分散器带动研磨物料在相径向分散器内外两侧转动,在转动过程中在离必力的作用下使得分散器内外两侧压力不平衡,此时部分研磨物料沿导向孔由内向外移动,形成沿导向孔循环的环流由于研磨完成的物料质量小,在高速的分离器作用下,在分离器周围形成径向物料直径由大到小向内分布,轴向物料直径由大到小向上分布,即质量大的分布在外侧,质量小的分布在内侧由于在研磨过程中第一密封结构和第二密封结构之间产生大量的热量通过适当的配置,冷却溶剂可以从第一筒盖导孔11、第一分散轴导孔21、第二分散轴导孔22和第二筒盖导孔12形成的通道流动,并分别与两个第一密封结构和两个第二密封结构接触,进而将其产生的热量从内部带出,降低密封结构的工作温度,延长使用寿命在本实施例中,所述双轴研磨系统包括热交换装置,该热交换装置包括盛冷却溶剂的容器10,该容器10内设有柱形螺旋状导管16,在该容器10上设有两个分别与第一筒盖导孔11和第二筒盖导孔12连通的容器接口 15和容器接口 16该热交换装置可以更好将冷却溶剂的温度降低,提高冷却效果,使密封结构有更稳定的工作温度根据需要,可以在所述第一筒盖导孔11与容器接口 15之间设有冷却溶剂增压泵(附图未标示),可以增加冷却溶剂的流动速度,进而使密封结构有较低的稳定的温度在本实施例中,所述分离轴3中空腔壁设有螺旋结构,该螺旋结构的上升方向与分离轴转动方向相同,由于螺旋结构在存在转动时,可以使物料更容易输出,提高出料速度
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  • 法律状态
专利名称:双轴研磨系统的制作方法现有研磨装置通常采用分离的双轴分别带动分离器和分散器同步或异步转动实现研磨,虽然分离的双轴分别驱动分离器与分散器可以实现研磨效果,但双轴通常高于相对两面,如上下设置或左右设置,因而其结构空间大,也不利于维护。无论分离器与分散器采用同步或异步转动时,由于物料和研磨球的运动空间大,使得物料和研磨球运动路径长,影响研磨效率
本发明主要解决的技术问题是提供一种双轴研磨系统,该双轴研磨系统可以在分离器与分散器作用下物料和研磨球的运动的路径减小,增加研磨球与研磨材料有更多接触机会,提高研磨效率。为了解决上述问题,本发明提供一种双轴研磨系统,该双轴研磨系统包括筒盖与中空分散轴转动连接,在该中空分散轴内设有中空分离轴,该分散轴和分离轴一端分别与驱动电机传动连接,另一端分别与分散器和分离器连接;在筒盖与分散轴之间设有两个第一密封结构,在中空分离轴与分离轴之间设有两个第二密封结构,其中,位于两个第一密封结构之间的筒盖上设有第一筒盖导孔和第二筒盖导孔,在两个第二密封结构之间的分散轴上设有第一分散轴导孔和第二分散轴导孔,内壁呈山字型的第一筒体与呈筒状的分散器和沿轴向剖视呈梯形的分离器配合。进一步地说,所述第一分散轴导孔与第一筒盖导孔处于同一水平线上,第二分散轴导孔与第二筒盖导孔处于同一水平线上,所述第一分散轴导孔与第二分散轴导孔上下错位分布。进一步地说,所述第一密封结构和第二密封结构机械密封部件,其中,所述第一密封结构包括错位设置于筒盖内侧和分散轴外侧两环形密封圈,其中设置于筒盖的环形密封圈位于另一环形密封圈上部;所述第二密封结构包括错位设置于分散轴内侧和分离轴外侧两环形密封圈,设于分离轴外侧的环形密封圈位于设置于分散轴内侧下方。进一步地说,所述分离轴中空腔壁设有螺旋结构,该螺旋结构的上升方向与分离轴转动方向相同。进一步地说,在分散轴与分离轴之间还设有冷却溶剂输送装置,该冷却溶剂输送装置设置于两个第二密封结构之间。进一步地说,所述冷却溶剂输送装置设于分离轴外侧或分散轴内侧的环状螺旋体,该螺旋体与分离轴或分散轴之间间隙配合。进一步地说,所述冷却装置还包括热交换装置,该热交换装置包括盛冷却溶剂的容器,该容器内设有柱形螺旋状导管,在该容器上设有两个分别与第一筒盖导孔和第二筒盖导孔连通的容器接口。进一步地说,在所述第一筒盖导孔与容器导口之间设有冷却溶剂增压泵。进一步地说,所述分离轴上设有连接分离腔的连接孔,所述分离器与分散器的轴向设有连接研磨腔与分离腔的间隙。进一步地说,筒状分散器内侧设有与分散轴固定的环形凸起,该凸起的上部与第二密封结构的环形密封圈接触,其下部设有环形均匀分布有多个导向孔。进一步地说,所述第一筒体外侧设有第二筒体,该第二筒体与第一筒体之间由间隙形成的冷却空腔或管路,在该第二筒体上分别设有与冷却空腔或管路连通的冷却液进口和冷却液出口。 本发明双轴研磨系统,在中空分离轴内设有中空分离轴,该分离轴和分离轴一端分别与分散器和分离器连接;在筒盖与中空分离轴之间设有两个第一密封结构,在中空分离轴与分离轴之间设有两个第二密封结构,其中,位于两个第一密封结构之间的筒盖上设有第一筒盖导孔和第二筒盖导孔,在两个第二密封结构之间的分散轴上设有第一分散轴导孔和第二分散轴导孔,内壁呈山字型的第一筒体与呈筒状的分散器和沿轴向剖视呈梯形的分离器配合。工作时,在呈山字型的第一筒体与分散器和分离器的作用下运动,一方面在有限的研磨空间内能使各个位置的物料和研磨球保持较高的速度,提高研磨效率;另一方面更好使研磨物料能按强制的方向流动,减少物料和研磨球运动的路径长度,增加物料与研磨球接触机会,进而提高研磨效率。为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍,显而易见地,而描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来说,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他附图。图I是双轴研磨系统实施例沿转轴方面剖视结构示意 图2是图I中A部分结构放大示意图。下面结合实施例,并参照附图,对本发明目的的实现、功能特点及优点作进一步说明。
所述环状螺旋体14可以是与分离轴3 —体成型,也可以采用分离结构。当采用环状螺旋体14与分离轴3为分离结构时,在所述环状螺旋体14外套有护套13,该护套13与分散轴2的内壁接触。根据需要所述环状螺旋体14也可以设于分散轴2的内壁,工作时环状螺旋体14与分散轴2同步转动,同样也可以实现将冷却溶剂从较低位置的第一分散轴导孔21输送到位置第二分散轴导孔22位置,实现冷却溶剂流动,进而对密封结构的冷却。所述分尚轴3上设有连接分尚腔C的连接孔31,在分尚器3与分散器I的轴向设有连接研磨腔D与分离腔C的间隙B。由于间隙B的存在,在所述分离器和分散器高速旋转时,在研磨腔D内形成下面密度大,上面密度小的状态,而分离腔C内的压力小于研磨腔D,这样在压力差的作用下研磨好的物料可以速度通过连接孔31进入出料通道输出,进而也可以提高出料的速度。所述分散器6上环形均勻分布有多个导向孔61,在该导向孔61的作用下,旋转时的分散器6的内外侧压力不平衡,进而使得部分物料可以从导向孔61流动,从而物料和研磨球能在研磨腔内形成多个方向快速流动,提高研磨效率。所述第一筒体8内壁呈山字型空腔,可以更好与分散器配合,提高研磨效率。筒状分散器内侧设有与分散轴2固定的环形凸起62,该凸起62的上部与第一密封结构4的环形密封圈接触,其下部设有环形均匀分布有多个导向孔61。由于该结构的第一筒体8与分散器6和分离器7配合,研磨空腔空间有限,使得各个位置的物料和研磨球都能有较大的速度,进而可以提高研磨效率,同时凸起62的上部与环形密封圈接触,可以提高密封性。所述第一筒体8外侧设有第二筒体9,该第二筒体9与第一筒体8之间由间隙形成的冷却空腔或管路,在该第二筒体9上分别设有与冷却空腔或管路连通的冷却液进口 91和冷却液出口 92。可以降低筒体的温度,延长设备的使用寿命。以上所述仅为本发明的优选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。


本发明公开一种双轴研磨系统,包括在中空分离轴内设有中空分离轴,该分离轴和分离轴一端分别与分散器和分离器连接;在筒盖与离轴之间设有两个第一密封结构,在分离轴与分离轴之间设有两个第二密封结构,位于两个第一密封结构之间的筒盖上设有第一筒盖导孔和第二筒盖导孔,两个第二密封结构之间的分散轴上设有第一分散轴导孔和第二分散轴导孔,内壁呈山字型的第一筒体与呈筒状的分散器和沿轴向剖视呈梯形的分离器配合。工作时,呈山字型的第一筒体与分散器和分离器的作用下运动,使物料和研磨球在有较小的空间内保持较高的运动速度,同时使研磨物料能按强制的方向流动,减少物料和研磨球运动的路径长度,增加物料与研磨球接触机会,进而提高研磨效率。



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