专利摘要：

专利摘要： 本申请公开了一种在石英基片上制备金刚石膜的方法，包括石英基片表面的清洗制备、二氧化硅溶胶的制备、石英基片上制备单层二氧化硅薄膜、制备多层掺纳米金刚石的二氧化硅薄膜、酸刻蚀、基片表面的预处理、沉积金刚石膜步骤。本发明的方法较传统的金刚石表面图形化的优势在于薄膜附着力好，沉积质量高，使用寿命长，操作简单可行，该方法能够应用于各种光学器件，光学窗口等保护涂层。

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专利摘要： 一种清除煤气管道沉积物的加热器，属于管道清理设备技术领域，用于对煤气管道进行均匀加热，实现对煤气管道沉积物的软化和清除，其技术方案是它由多个蒸汽喷管组成，蒸汽喷管为形状相同的两端开口半圆形管，它们一一相对且顺序平行排列，半圆形喷管的两端分别由两个平行的连通管连接，连通管的两端封闭，其中一端与蒸汽输送管道相连接，在蒸汽喷管的半圆形管壁的内侧有多个均布的蒸汽喷口。本实用新型可以有效地对煤气管道安全加热，既减少了蒸汽量，又提高了加热效果，达到了节能目的；同时具有轻便、可移动的特点，可对煤气管道不同位置进行加热，清除沉积物效果好；本装置操作简单、安全，可有效地减少人工的投入，减轻了劳动强度和成本。

专利摘要： 本发明涉及一种光纤预制棒外部气相沉积法沉积机床，包括有床身，床身上分别安设往复移动座和喷灯，往复移动座上安设有旋转夹头，其特征在于所述的喷灯对应于旋转夹头安设在旋转轴线的下方，且喷灯与进给机构相连，所述进给机构的进给方向与旋转轴线垂直。本发明喷灯可以随着预制棒沉积直径的变化进行动态调整和控制，使喷灯与预制棒沉积面的间距保持相对恒定，使得沉积过程中喷灯始终保持最佳喷射距，这不仅能保持喷射粉尘颗粒度的均匀性，而且可有效提高预制棒的沉积精度和沉积质量；从而有效提高沉积加工的效率；采用多个旋转夹头和多个喷灯的结构，能够大大提高外部法沉积加工光纤预制棒的加工效率。

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专利摘要： 本发明公开了一种真空气相沉积反应法制备硅化石墨的方法，1）原料准备，包括碳素制品和硅化反应原料硅化反应原料为Si、SiC、促渗剂、促进剂、酚醛树脂和水；2）将硅化反应原料涂覆在碳素制品表面，放入石墨坩埚，置于真空炉内，然后分三阶段升温，第一阶段升温至500～700℃，第二阶段升温至1500～1800℃，并分别保温；第三阶段升温至1800～2400℃，在真空度高于0.97条件下处理0.5～5h，使硅气化并与碳素材料发生气相沉积反应得到硅化石墨；3）硅化石墨后处理即可。本方法制备的硅化石墨材料具有耐高温、耐磨损、抗腐蚀等综合性能优异。

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专利摘要： 本发明公开了一种电热管气相沉积方法，首先，将高温炉的加热腔的温度加热至700℃～900℃，将石英玻璃管分别套接于固定杆上，并在固定杆头端套接耐热橡胶帽防止石英玻璃管从固定杆上滑出；其次，推动电机将转筒推入高温炉的加热腔内，启动电机使石英玻璃管绕转筒轴心旋转，之后开启高压喷枪的开关和高压气泵开关，然后启动控制曲柄滑块机构的电动机，加热时间为15min；最后，加热完成后，依次关闭高压喷枪开关、控制曲柄滑块机构的电动机以及电机，拉动电机将转筒拉入高温炉，取下石英玻璃管转移至冷却工位。本发明使石英玻璃管表面的电热膜溶液气相沉积生产效率更高，成本更低。

专利摘要： 本发明公开了一种气相轴向沉积提升速度的控制装置、系统及方法，通过第一伺服电机与第二伺服电机带动丝杆的转动，并通过丝杆螺母实现对引杆的上下移动，以便形成松散体。本方案通过第一伺服电机与第二伺服电机的高速运转，实现对丝杆的转动，进而实现对引杆的移动，两个伺服电机的转速与丝杆螺距之间存在一定的对应关系，通过对两个伺服电机转速的控制，可以实现对引杆提升速度的精确控制，从而避免了现有技术中通过控制沉积速度实现对引杆提升速度的控制，所带来的松散体形成不规范的问题。

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专利摘要： 本发明涉及制造前体的方法。即，涉及通过内部等离子体沉积工艺制造光纤用初级预制品的方法，其包含以下步骤：提供具有供给侧和排出侧的中空基管；通过电磁辐射在中空基管的内部产生具有第一反应条件的第一等离子体反应区，用于在排出侧的换向点处或附近在基管内表面的至少一部分上进行非玻璃化氧化硅层的沉积，提供在内表面的至少一部分上具有非玻璃化层的基管；通过电磁辐射在中空基管的内部产生具有第二反应条件的第二等离子体反应区，用于在内表面的至少一部分上具有非玻璃化层的基管上进行玻璃化氧化硅层的沉积，获得具有沉积的非玻璃化和玻璃化氧化硅层的基管；冷却在具有沉积的非玻璃化和玻璃化氧化硅层的基管，获得初级预制品的前体。

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