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经涂覆的玻璃陶瓷板制作方法

  • 专利名称
    经涂覆的玻璃陶瓷板制作方法
  • 发明者
    克里斯蒂安·亨, 伊夫琳·鲁迪吉尔-沃伊特, 斯蒂芬尼·曼戈尔德, 塔尼娅·沃伊沃德
  • 公开日
    2014年11月12日
  • 申请日期
    2014年5月7日
  • 优先权日
    2013年5月7日
  • 申请人
    肖特公开股份有限公司
  • 文档编号
    C03C17/36GK104140213SQ201410190980
  • 关键字
  • 权利要求
    1. 一种经涂覆的玻璃陶瓷烹饪板(1),其具有限定应用侧的一个面(3),和限定下表面 的相对面(5),其中在所述下表面上提供多层涂层(7),和其中所述多层涂层(7)包括包含 组分铬、铁、镍和硅的合金的金属层(11),其中所述合金的硅含量为至少2原子%,和其中 所述金属层(11)由阻挡层(13)覆盖,所述阻挡层(13)的形式为包含组分铬、铁、镍和硅的 合金的氧化物,其具有的硅含量为至少2原子%,其中所述阻挡层(13)的氧摩尔含量比所 述金属层(11)的氧摩尔含量大至少10倍2. 如前述权利要求中请求保护的玻璃陶瓷烹饪板,其中所述阻挡层(13)由所述金属 层(11)的合金的氧化物形成3. 如前述权利要求中请求保护的玻璃陶瓷烹饪板,其中将所述阻挡层(13)形成为变 化氧含量的梯度层,在所述阻挡层(13)中的氧含量在垂直于所述层和垂直于所述金属层 (11)的方向连续降低4. 如前述权利要求的任一项中请求保护的玻璃陶瓷烹饪板,其中所述多层涂层(7)包 括在所述玻璃陶瓷上的第一至少部分透明的单层或多层的层(9),和其中所述金属层(11) 沉积在所述第一至少部分透明的层(9)上5. 如前述权利要求中请求保护的玻璃陶瓷烹饪板,其中所述第一层(9)包括材料 Nb205、Ta205、Si3N 4、Zr02、Ti02 的至少一种6. 如两项前述权利要求的任一项中请求保护的玻璃陶瓷烹饪板,其中所述第一层(9) 包含所述金属层(11)的合金的氧化物的层7. 如前述权利要求中请求保护的玻璃陶瓷烹饪板,其中将所述第一层(9)形成为梯度 层,其中所述第一层(9)的氧含量在垂直于所述层和垂直于所述金属层(11)的方向连续降 低8. 如四项前述权利要求的任一项中请求保护的玻璃陶瓷烹饪板,其中所述第一层(9) 具有小于400纳米的厚度9. 如五项前述权利要求的任一项中请求保护的玻璃陶瓷烹饪板,其中将所述第一层 (9)和所述阻挡层(13)二者都形成为变化氧含量的梯度层,所述第一层(9)和所述阻挡层 (13)融合到所述金属层(11)中而没有界面10. 如前述权利要求的任一项中请求保护的玻璃陶瓷烹饪板,其包含一个另外的阻挡 层(14),该阻挡层(14)的材料与邻近于所述金属层的阻挡层(13)的材料不同11. 如前述权利要求的任一项中请求保护的玻璃陶瓷烹饪板,其中所述金属层(11)具 有奥氏体晶体结构12. 如前述权利要求的任一项中请求保护的玻璃陶瓷烹饪板,其中所述金属层(11)的 合金包含下述组分 硅2至5原子% ; 铬22. 0至28. 0原子% 镍15. 0至21.0原子% 铁48至56. 0原子%13. 如前述权利要求的任一项中请求保护的玻璃陶瓷烹饪板,其中所述金属层(11)的 碳含量小于〇. 3原子%14. 用于制造如前述权利要求的任一项中请求保护的玻璃陶瓷烹饪板的方法,该方法 包括如下步骤 一提供玻璃陶瓷板; 一溅射沉积包含组分铬、铁、镍和硅的合金的金属层(11),其中所述合金的硅含量为至 少2原子%; 一制备覆盖所述金属层(11)的阻挡层(13),该阻挡层(13)的形式为包含组分铬、铁、 镍和硅的合金的氧化物,其具有的硅含量为至少2原子%,其中所述阻挡层(13)的氧摩尔 含量比所述金属层(11)的氧摩尔含量大至少10倍15. 如前述权利要求中请求保护的方法,其中在含氧气氛中,从复合靶,特别是不锈钢 靶,通过反应性溅射沉积所述阻挡层(13)16. 如权利要求14或15中请求保护的方法,其中通过氧化所述金属层的表面制造所述 阻挡层(13)17. 如前述权利要求中请求保护的方法,其中在沉积所述金属层(11)之前,在所述玻 璃陶瓷上沉积第一至少部分透明的单层或多层的层(9)18. 如前述权利要求中请求保护的方法,其中也通过溅射沉积所述第一层(9)19. 如前述权利要求的任一项中请求保护的方法,其中从也用于沉积所述金属层(11) 的相同的溅射靶通过溅射沉积所述第一层(9)或所述阻挡层(13)20. 如前述权利要求中请求保护的方法,其中在所述第一层(9)或所述阻挡层(13)的 溅射沉积过程中,将工艺气体的氧含量改变,使得形成梯度层,其具有朝向所述金属层(11) 降低的氧含量21. 如五项前述权利要求的任一项中请求保护的方法,其中通过溅射沉积金属层(11) 和随后在其表面处氧化所述金属层(11)来制备所述金属层(11)和所述阻挡层(13)22. 如前述权利要求的任一项中请求保护的方法,其中通过以如下方式进行表面加热 来处理包括所述阻挡层(13)的多层涂层(7),所述方式使得在所述涂层(7)的最上100纳 米内出现至少200K的温度梯度23. 如前述权利要求中请求保护的方法,其中使用辐射源,优选激光、卤素灯或UV灯, 通过照射完成表面加热
  • 技术领域
    [0001] 本发明涉及使用真空涂覆工艺的装饰性涂层,其用于玻璃陶瓷炉灶面的下表面涂 层,尤其是用于燃气和/或感应应用的玻璃陶瓷炉灶面的下表面涂层特别地,本发明涉及 用于装饰性涂层的阻挡涂层
  • 专利摘要
    本发明涉及经涂覆的玻璃陶瓷板。具体地,本发明基于的目的是扩展用于玻璃陶瓷烹饪板的装饰性下表面涂层的调色板(color?palette),同时确保所述涂层的高耐热性。为此目的,提供经涂覆的玻璃陶瓷烹饪板(1),其具有在其下表面上的多层涂层(7),所述多层涂层(7)包括包含组分铬、铁、镍和硅的合金的金属层(11)。所述合金的硅含量为至少2原子%。该金属层(11)由阻挡层(13)覆盖,所述阻挡层(13)的形式为包含组分铬、铁、镍和硅的合金的氧化物,其具有的硅含量也为至少2原子%。所述阻挡层(13)的氧摩尔含量比所述金属层(11)的氧摩尔含量大至少10倍。
  • 发明内容
  • 专利说明
    经涂覆的玻璃陶瓷板
  • 专利详情
  • 全文pdf
  • 权力要求
  • 说明书
  • 法律状态
经涂覆的玻璃陶瓷板的制作方法 [0002] 在玻璃和玻璃陶瓷基材上的下表面涂层通常尤其由丝网印刷工艺制备,该工艺特 别使得可以获得散射和消光层。当使用有光泽的颜色时,可以施加金属样的下表面涂层,其 具有银金属光泽外观。 [0003] 目前,金属反射性表面通常被发现在炊具表面中作为门面(door front)。然而,在 烹饪表面领域中,这些颜色是相当稀少的,因为它们或者需要使用贵金属颜色(例如Pt)印 刷,这是非常昂贵的,或者因为真空涂覆溶液不是充分热稳定的。 [0004] 另外已知的是溅射的电介质干涉层体系,其中所述下表面涂层的颜色定位可以通 过改变高折射率层的层厚度而快速和容易地改变,无需显著的工艺变化。为了获得这样的 干涉光学体系,其即使在用作下表面涂层时在强的热作用下(400至500°C )仍表现出充分 的耐性,这些层体系在可能的材料组合方面被特别限定。例如,着色层、覆盖层和阻挡层由 同样的基础材料制成,以使得扩散过程在视觉上不显眼。这例如使用SiN-Si-SiN层体系实 现。在这种情况下,如果所述覆盖层足够厚并且保持光学惰性,所述硅的扩散过程仅轻微视 觉可见。 [0005] 氧化物和氮化物的混合体系经常是不利的,这是由氧扩散进入到所述覆盖层导致 的,因为这导致氧化和因此导致颜色变化。然而,因为由于氧化物层具有高折射率,它们理 想地适合作为着色层(例如Ti0 2具有折射率n>2. 45 ;Nb205具有折射率η = 2. 35 ;Ta205具 有折射率η = 2. 25),因此任务是提供耐热的和稳定的覆盖层,其对氧扩散过程具有抗性以 允许对下表面涂层使用新的颜色。 [0006] 基于真空下制造的类似体系对内在着色起作用。已知和经常提及的是TiN,其例如 以TiN-Ti或TiN-Ti-TiN层体系的形式使用。在这种情况下,氮扩散到所述中间覆盖层中 的扩散过程是视觉上不能察觉的,因为TiN具有特定的内在颜色(金色)并且因此层厚度 方面的改变是不显著的或者仅轻微可注意到的。然而,需要另外的新的颜色。


[0007] 因此,本发明的目的是扩展装饰性下表面涂层的调色板(color palette),同时确 保所述涂层的高耐热性。即使在延长的热应力后,如在炉灶面的操作中发生的那样,所述涂 层的颜色定位应当不改变超过一定程度,使得所述颜色改变不是立即显现的。另外,所述涂 层应当易于制造和成本有效地制造。
[0008] 这个目的由本发明独立权利要求的主题解决。有利的实施方式和变体在各个从属 权利要求中阐述。
[0009] 因此,本发明提供一种经涂覆的玻璃陶瓷烹饪板,其具有一个限定应用侧的面和 限定下表面的相对面。所述下表面具有在其上的多层涂层。所述多层涂层包括包含组分铬、 铁、镍和硅的合金的金属层。所述合金的硅含量为至少1.5原子%,或相应的摩尔%,优选 至少2原子%。所述金属层被阻挡层覆盖,所述阻挡层的形式为包含组分铬、铁、镍和硅的 合金的氧化物,其具有的硅含量为至少1. 5原子%,优选至少2原子%。所述阻挡层的氧摩 尔含量比所述金属层的氧摩尔含量大至少10倍。
[0010] 在包含根据本发明的玻璃陶瓷烹饪板的玻璃陶瓷炉灶面的情况下,所述应用侧是 上表面,在该上表面上放置烹饪容器,例如平底锅和壶,或者在该上表面上安装燃气燃烧器 组件。
[0011] 用于所述金属层和所述阻挡层的合金是具有对于钢而言相当高的硅含量的不锈 钢。根据本发明的一个实施方式,所述金属层被直接沉积在所述玻璃陶瓷上。因此,根据该 实施方式,在所述玻璃陶瓷和所述金属层之间存在界面。具有根据本发明的组成的金属层 很好地附着于所述玻璃陶瓷,并且与所述阻挡层组合,实现了良好的耐热性。
[0012] 然而,在颜色定位方面存在限制,所述颜色定位由穿过所述玻璃陶瓷的光的透射 和在所述金属层处的反射决定。为了产生特定的颜色定位或特定的颜色印记,本发明进一 步提出所述多层涂层包含至少部分透明的单层或多层的层作为在所述玻璃陶瓷上的第一 层,并且所述金属层沉积在该第一至少部分透明的层上。
[0013] 所述金属层,由于金属性反射,提供类似于不锈钢表面的金属效果。为了补偿由所 述玻璃陶瓷导致的着色,或者为了获得新的颜色印记,所述第一至少半透明的任选层被用 作颜色调节层或着色层。
[0014] 已经发现所述相当高的硅含量明显提供了特别高的温度耐受性。采用这样的涂层 实现了在颜色定位方面的尤其优异的耐受性,即使在延长的热应力之后。另外,还已经惊奇 地发现,在另外的侧面,特别是这种不锈钢合金的氧化物形成非常有效的阻挡,保护所述金 属层不受扩散、氧化和与酸或碱的反应的影响。
[0015] 由于所述阻挡涂层具有与所述金属层相同或类似的氧化材料,这确保了在这两个 层之间的优异的牢固的物理连接。
[0016] 根据本发明使用的不锈钢合金可以通过溅射被容易地沉积。因此,本发明还涉及 制备玻璃陶瓷烹饪板的方法,该方法包括如下步骤:
[0017] 一提供玻璃陶瓷板;
[0018] 一溅射沉积包含组分铬、铁、镍和硅的合金的金属层,其中所述合金的硅含量为至 少2原子% ;
[0019] -制备覆盖所述金属层的阻挡层,该阻挡层的形式为包含组分铬、铁、镍和硅的合 金的氧化物,其具有的硅含量为至少2原子%,其中所述阻挡层的氧摩尔含量比所述金属 层的氧摩尔含量大至少10倍。
[0020] 根据优选的实施方式,在沉积所述金属层之前,将上述第一至少部分透明的单层 或多层的层沉积在所述玻璃陶瓷上。该第一层用于颜色调节或颜色补偿。
[0021] 所述阻挡层可以在含氧气氛中通过反应性溅射从复合靶容易地沉积,所述复合靶 特别是不锈钢靶。根据一个进一步备选的或另外的实施方式,所述阻挡层可以通过氧化所 述金属层的表面而制备。
[0022] 另外,通过溅射沉积所述第一层也是方便的。以此方式,所述第一层、所述金属层 和所述阻挡层可以任选在单个真空沉积工艺中被沉积,而无需中间的排空。
[0023] 对于所述金属层和对于所述阻挡层,可以使用不同的合金,其中两个层都具有如 上所述的高硅含量。然而,如果所述阻挡层是由所述金属层的合金的氧化物形成的,这是特 别有利的。以此方式,可以使用相同的合金材料,例如通过溅射从不锈钢靶沉积两个层,这 大大简化了生产工艺。
[0024] 根据本发明的一个变体,所述阻挡层可以被形成为具有变化氧含量的梯度层,其 中在所述阻挡层中的氧含量在垂直于所述层的方向和垂直于所述金属层的方向连续降低。 以此方式,所述阻挡层将融合到所述金属层中,而没有任何明显的界面。这有利于改进所述 氧化物附着于所述金属层的金属合金。
[0025] 根据本发明的一个实施方式,所述第一层包括Ti02层。处于合适厚度的,优选小 于100纳米的氧化钛对于颜色调节是理想的,因为由于其具有高折射率并因此具有与所述 玻璃陶瓷相比更显著的折射率差,可以实现有效的干涉光学颜色改变。除了 1102外,其它 具有高折射率的氧化物也可以作为层组分,特别是具有大于2的折射率的那些。因此,根据 本发明的变体,预期所述第一层包含材料Nb 205、Ta205、Si3N 4、Zr02、Ti02的至少一种。
[0026] 根据本发明的又一个实施方式,所述第一层包括所述金属层的合金的氧化物的 层,或者由所述金属层的合金的氧化物的层组成。已经发现所述不锈钢合金的氧化物可用 作颜色调节层。此处同样,与本发明的阻挡层是所述不锈钢合金的氧化物的情况一样,优点 是易于生产,因为可以使用相同的溅射靶,和在所述第一层和所述金属层之间存在非常牢 固的机械结合。任选地,这样的不锈钢氧化物层可以与另一种材料的层组合,所述另一种材 料例如上文提及的氧化钛。典型地,在不锈钢氧化物的情况下,较大的层厚度将用于所述第 一层,因为与氧化钛的折射率相比,折射率更低。然而,通常所述第一层优选具有小于400 纳米的厚度。该实施方式对于其易于制造来说是有利的,因为所述第一层、所述金属层和所 述阻挡层可以使用单个靶制备。另外,所述层组分,所述氧化的不锈钢层的氧化铬,是对于 所述玻璃陶瓷的优异的附着性促进剂。
[0027] 与所述阻挡层的情况一样,所述第一层同样可以被形成为梯度层。此处同样,氧含 量在垂直于所述层的方向和垂直于所述金属层的方向连续降低。以此方式,由于在与所述 氧化的玻璃陶瓷的界面处的氧含量高,实现了与所述玻璃陶瓷的下表面的良好附着,并且 由于所述低的氧含量,实现了对于所述金属层的良好附着。此处同样,以此方式避免了在所 述第一层和所述金属层之间出现明显界面。
[0028] 为了生产,可以通过溅射从用于沉积所述金属层的同样的溅射靶沉积所述第一层 或所述阻挡层,并且在溅射期间,所述工艺气体的氧含量以如下方式改变,所述方式使得形 成梯度层,其具有朝向所述金属层降低的氧含量。
[0029] 另外,根据本发明的一个实施方式,还可以将所述第一层和所述阻挡层二者一起 形成为梯度层。因此,提出了所述第一层和所述阻挡层二者都被提供为变化氧含量的梯度 层,其中所述第一层和所述阻挡层融合到所述金属层中,而没有界面,或者换句话说,是连 续的。
[0030] 特别优选用于所述金属层的合金的组成包括如下组分:
[0031] 硅:2至5原子%;
[0032] 铬:22. 0 至 28. 0 原子% ;
[0033] 镍:15. 0 至 21. 0 原子 % ;
[0034] 铁:48 至 56. 0 原子%。
[0035] 另外,优选所述金属层的碳含量小于0. 3原子%。
[0036] 另外,具有奥氏体晶体结构的不锈钢优选用于所述金属层。这些钢已经发现在温 度诱导的颜色改变方面是特别稳定的。
[0037] 根据本发明的再一个实施方式,所述合金可以含有铝,其中优选含量为最高至3 原子%。少量的铝也可以改进所沉积的层的温度耐受性。
[0038] 另外,如果在沉积后将所述阻挡层退火,已经证明是有利的。如果所述加热仅是表 面的,使得在垂直于所述多层涂层的方向导致大的温度梯度,则该热处理已经发现在所述 层的后期致密化方面是特别有效的。因此,在根据本发明的一个实施方式中,包括所述阻挡 层的所述多层涂层以如下方式通过表面加热而处理,所述方式使得在所述涂层的最上100 纳米内出现至少200K的温度梯度。这样高的温度梯度可使用辐射源通过照射获得,所述辐 射源的辐射在所述表面中被直接吸收。为此目的,主要考虑激光、卤素灯和UV灯。




[0039] 现在将通过示例性实施方式和参照附图更详细地说明本发明。在附图中,同样的 附图标记指定相同或相似的元件。在所述附图中:
[0040] 图1是经涂覆的玻璃陶瓷烹饪板的示意性截面图;
[0041] 图2示出了图1中所示实施方式的变体;
[0042] 图3显示了玻璃陶瓷烹饪板的下表面涂层的SMS深度剖面分析;
[0043] 图4是这种玻璃陶瓷烹饪板的断裂边缘的扫描电子显微照片;
[0044] 图5显示了包括不锈钢氧化物颜色调节层的玻璃陶瓷烹饪板的另一个实施方式 的下表面涂层的SIMS深度剖面分析;
[0045] 图6是用于示于图5中的测量的样品的断裂边缘的扫描电子显微照片;
[0046] 图7显示了包括颜色调节层和形成为梯度层的阻挡层的实施方式的下表面涂层 的SIMS深度剖面分析;
[0047] 图8是用于示于图7中的测量的样品的断裂边缘的扫描电子显微照片;
[0048] 图9是在热应力之前和之后,下表面涂层的SMS深度剖面分析;
[0049] 图10是在热应力之前和之后,下表面涂层的SMS深度剖面分析,其中所述下表面 涂层的不锈钢氧化物层已经被不锈钢氮化物层替代;和
[0050] 图11是在热应力之前和之后,下表面涂层的SMS深度剖面分析,其中所述下表面 涂层的金属层已经被直接沉积在所述玻璃陶瓷上。


[0051] 示于图1中的经涂覆的玻璃陶瓷烹饪板1具有面3,该面3构成应用侧并且限定了 炉灶面在其安装状态中的上表面。在所述上表面上,可以施加装饰图案4,其形式例如为标 志、符号或者用于指示热区或显示器区域。
[0052] 玻璃陶瓷烹饪板的相对面5限定了下表面,该下表面在其安装状态中覆盖所述炉 灶面的下部结构。为了视觉上隐藏这样的下部结构,例如电子装置和/或燃气管路,下表面 5被提供以不透明的多层涂层7.在玻璃陶瓷烹饪板1的玻璃陶瓷2上的这个多层涂层7包 含第一至少部分透明的层9,该层9可以由单层或多层形成。根据本发明的一个实施方式, 所述第一层9包括氧化钛(Ti0 2)的层。
[0053] 在该第一至少部分透明的层上,由包含组分铬、铁、镍和硅的合金沉积不透明的金 属层11。所述层具有如上所述的组成。因此,该层11的合金的硅含量为至少2原子%,铬 含量为22. 0至28. 0原子%,镍含量为15. 0至21. 0原子%,和铁含量为48至56. 0原子%。
[0054] 在该第二金属层11上,沉积阻挡层13以覆盖所述金属层11,所述阻挡层13的形 式为包含组分铬、铁、镍和硅的合金的氧化物,其同样具有至少2原子%的硅含量。阻挡层 13是合金的氧化物层,并且阻挡层13的氧摩尔含量比金属层11的氧摩尔含量大至少10 倍。优选地,为了易于生产,使用用于所述金属层的同样的合金。因此,在这种情况下,阻挡 层13包含金属层11的合金的氧化物。
[0055] 根据本发明的一个实施方式,金属层11和阻挡层13还可以连续融合到彼此中,从 而在所述两个层11、13之间不存在明显的界面。为此目的,将阻挡层13沉积为梯度层,其 氧含量朝向所述金属层降低。在沉积过程中,这反过来当然意味着所述层的氧含量连续或 基本上连续增加。
[0056] 任选地,阻挡层还可以由多层形成,并且在这种情况下,只有邻近于所述金属层11 的阻挡层必须是不锈钢氧化物层。该层然后可以被另一个不同材料的阻挡层覆盖,所述不 同材料例如是氧化硅。因此通常,不限于附图中示出的具体示例性实施方式,根据本发明的 又一个实施方式,提供另一个阻挡层,该阻挡层的材料与邻近于金属层11的阻挡层13的材 料不同。该实施方式有利于获得更好的化学稳定性和改进的抵抗不同物质的阻挡效果。例 如两个不同的阻挡层材料使得既可以增加耐酸性又可以增加耐碱性。另一个优点是不锈钢 氧化物的阻挡层13可以同时用作所述另一个阻挡层和所述金属层的附着性促进剂。
[0057] 图2示出了图1中显示的实施方式的这样的变体。层9、11、13的结构对应于图1 中显示的实施方式的结构。另外,所述多层涂层7在此包含第二阻挡层14,该阻挡层14被 沉积在阻挡层13上。适合于所述第二阻挡层14的是氧化硅,例如,其显示出高的阻挡效果 和另外的高的耐酸性。此外,该材料非常好地附着在阻挡层13的不锈钢氧化物上。
[0058] 图3显示了在玻璃陶瓷基底上根据本发明的多层涂层7的二次离子质谱分析 (SMS分析)。该图显示了多种溅射的层组分例如CrO、NiO、Fe 2的强度作为溅射时间的函 数。
[0059] 涂层7包含作为用于颜色调节的第一透明层9的氧化钛层。在所述氧化钛层上沉 积的是作为根据本发明的组成的金属层11的不锈钢层。所沉积的层然后被表面氧化以形 成作为阻挡层13的不锈钢合金的氧化物层。因此,不限于图3中示出的具体示例性实施方 式,根据本发明的一个实施方式,预计通过溅射沉积金属层11和随后在所述金属层11的表 面将其氧化而制备所述金属层11和所述阻挡层13。
[0060] 在该阻挡层13上,沉积另一个形式为Si02层的阻挡层14。所述Ti0 2层、所述不 锈钢层和所述Si02层各自具有100纳米的厚度。
[0061] 阻挡层13可在所述SMS剖面中由组分NiO(用正三角形作为测量值示出的曲 线)、CrO(用正方形作为测量值示出的曲线)和FeO(用圆形作为测量值示出的曲线)的强 度提高而清楚地区分。对于所有这些组分,当与金属层11的层值比较时,所述提高大于一 个数量级。因此,阻挡层13中的氧含量比所述金属层的氧含量大至少10倍。在此,阻挡层 13不仅用作阻挡层,而且用作用于另外的阻挡层14的附着性促进剂。不锈钢氧化物与氧化 硅层的组合在涂层7的耐化学性方面是另外有利的。即,所述两个阻挡层13、14的不同耐 化学性可以共同协作保护所述金属层免受化学侵蚀。例如氧化硅表现出对于酸的高耐性, 但被碱性物质侵蚀。相反,阻挡层13的不锈钢氧化物对于碱具有高度耐性。
[0062] 图4是所述经涂覆的玻璃陶瓷烹饪板在断裂边缘处的横截面的扫描电子显微照 片。因为来自于由不锈钢合金制成的层11和13的亮度不同,层9和13是可清楚辨别的。 然而,在层11和阻挡层13之间,不能看到明显的对比度,因为它们在化学组成上是相同的, 除了在所述阻挡层中包含的氧。
[0063] 图5显示了根据本发明的另一个实施方式的下表面涂层的SIMS深度剖面分析。该 实施方式基于的事实是所述第一层9由金属层11的合金的氧化物制成。换句话说,此处, 图3和图4的示例性实施方式的Ti0 2颜色调节层已经被透明的或至少半透明的不锈钢氧 化物颜色调节层替代。具体地,此处的层顺序包括200纳米厚的第一层9,在其上沉积同样 200纳米厚的金属层11。因此,即使不锈钢氧化物用于实现颜色调节,小于400纳米的第一 层9的厚度也将是足够的。
[0064] 与透明的第一层9 一样,沉积在金属层11上的阻挡层13也由金属层11的材料的 氧化物组成。阻挡层13具有100纳米的厚度。
[0065] 与之前的图3和图4的实施例不同,所述不锈钢氧化物层已经在包含氧的气氛中 通过反应性溅射从所述不锈钢靶制备。因此,不是在沉积之后完成氧化,而在沉积过程中已 经完成。本发明的该实施方式提供的特别的优点是所有的层9至13可以在单个溅射过程 中制备,而不需要改变所述溅射靶。另外,该实施方式是有利的,因为一方面,层9和13对 所述金属层11具有优异的附着性,和另一方面对所述玻璃陶瓷材料2具有优异的附着性。 鉴于不锈钢和所述玻璃陶瓷板的热膨胀系数相差很大,为了避免当所述玻璃陶瓷烹饪板在 操作中和经历热应力时所述下表面涂层7的脱层,所述层的良好附着性是特别有利的。 [0066] 与图3的实施方式相同,所述不锈钢氧化物层,即第一层9和阻挡层13,在这种情 况下,在所述SMS剖面中是被很好辨别的,因为氧化组分的信号比所述金属层11高超过10 倍。
[0067] 图6显示了图5的测量所基于的样品的断裂边缘的扫描电子显微照片。所述不锈 钢氧化物层,即层9和13,仍可以与金属层11区分开。然而所述对比度是几乎相同的,金属 层11具有稍微更粗纹理化的结构。
[0068] 下面将描述一个示例性实施方式,其中所述第一层9和所述阻挡层13也由金属层 11的合金的氧化物形成。然而,作为图5和6的实施方式的变体,第一层9和阻挡层13都 被形成为梯度层,其具有变化的氧含量,其中所述第一层9和所述阻挡层13融合到所述金 属层11中,而没有任何界面,即是连续的。图7显示了这样的多层涂层7的SIMS剖面。如 从含氧层组分CrO、FeO、NiO的强度可见的,层9和13具有恒定氧含量的区域,其在每种情 况下邻接过渡区,该过渡区具有朝向金属层11的氧含量梯度。具体地,在每种情况下,所述 氧含量朝向金属层11降低。层厚度与图5和6的示例性实施方式的那些是类似的。因此, 第一层9和金属层11具有200纳米的厚度,和所述阻挡层具有100纳米的厚度。
[0069] 图8同样显示了涂层7在断裂边缘处的横截面的扫描电子显微照片。由于氧含量 的梯度,此处层9、11和13不能彼此显著区分。但即使在此处,也可看到层9和13,在它们 的富氧区域中,并且因此在远离金属层11的区域中,表现出比金属层11更精细的纹理结 构。由于所述层融合到彼此之中,而没有明显界面,形成了层状复合体,其例如能够很好地 补偿由不同热膨胀系数导致的机械应力。
[0070] 图9显示了在温度应力之前和之后,包括Ti02颜色调节层(第一层9)、根据本发 明的不锈钢层(金属层11)和不锈钢氧化层(阻挡层13)的下表面涂层的组分FeO的SIMS 深度剖面分析。在所述玻璃陶瓷材料和由虚线表示的涂层7的各个层之间的界面也可以 基于其它组分的强度确定,所述其它组分例如为TiO。然而为了清楚的目的,图9仅显示了 Fe〇作为所述涂层的氧化程度的指示剂。曲线30显示了在热处理之前组分FeO的强度,曲 线31显示在热处理之后的强度。在该实例中,所述样品在300°C的温度下退火100小时。 如从图9中可见的,在层11、13的氧化方面没有显著的变化。
[0071] 令人惊奇地,已经发现所述不锈钢合金的氧化物提供了与所述合金的氮化物相比 实质上更好的阻挡效果。为了与图9比较,图10显示了相应层体系的SIMS剖面,在所述相 应层体系中,阻挡层13的氧化物被替换为本发明的富硅不锈钢合金的氮化物。在与图9的 实施方式相同的条件下进行的热处理后绘制的FeO含量的强度31显示了显著的变化。首 先,所述阻挡层13自身在其表面处被氧化,如由在溅射开始时的强信号所证实的。另一方 面,金属层11的氧含量也增加。这证明了所述不锈钢层在热应力过程中经历化学变化。这 可伴随着视觉可见的颜色改变,所述颜色变化至少因为美观原因是不希望的,尤其因为玻 璃陶瓷烹饪板的温度应力由于所述加热元件的原因而沿着所述表面将显著不同。
[0072] 在目前参照所述附图描述的每个示例性实施方式中,提供的第一层的形式为至少 部分透明的层9,其与所述玻璃陶瓷接触,并且在其上沉积所述金属层11。然而,如之前所 述的,还可以将所述金属层11直接沉积在所述玻璃陶瓷上,优选通过溅射沉积。尽管这消 除了当在玻璃陶瓷烹饪板1的应用侧观察时改变或修正所述颜色印记发生的可能性,但 如果所需的颜色通过组合玻璃陶瓷和沉积于其上的不锈钢层而已经实现,这不是绝对必要 的。
[0073] 当根据本发明的使用并直接溅射沉积到所述玻璃陶瓷上时,所述富硅不锈钢合金 同样证明具有高的耐温性,尽管所述涂层和所述玻璃陶瓷的热膨胀系数显著不同。为此,图 11显示了在热应力之前和之后下表面涂层的SIMS深度剖面分析,其中所述下表面多层涂 层7的金属层11被直接沉积在玻璃陶瓷2上。同样,如图9和10中那样,将溅射的FeO颗 粒的信号作为溅射时间的函数进行绘制。曲线31指示了在300°C下热处理100小时后FeO 颗粒的强度。实际上,与对于未退火的参比样品记录的曲线30相比,所述FeO含量存在可 注意到的轻微增加,但所述阻挡层13此处是非常薄的。然而,即使在这种情况下,与图10 的实例相比相对较低的增加证明了本发明的富硅不锈钢氧化物阻挡层具有高效率。
[0074] 如本发明提出的,金属外观的下表面涂层的优异耐热性当与作为下表面涂层的铬 层比较时,是更加明显的,其中所述下表面涂层的形式为任选但优选的颜色透明层、含硅不 锈钢合金的金属层和含硅不锈钢合金的氧化物的组合。其中所述金属层是铬层的相当的层 体系被加热到500°C的温度。之后,相对于加热之前的颜色值,检测到在xyY颜色空间中4. 7 的颜色变化ΛΕ。浊度值是35。相反,当将根据本发明的多层涂层加热到500°C时,在所述 xyY颜色空间中的检测的颜色变化ΛΕ仅为0.35。所述浊度值为4。通常,在所述xyY颜色 空间中具有小于2的ΛΕ差的颜色变化被认为是不可察觉的。因此,本发明的层体系远离 该限度,然而在铬层的情况下,所述颜色变化是可见的。
[0075] 对于本领域技术人员显而易见的是所述附图仅是示例性实例。特别地,所述示例 性实施方式可以被组合。例如,根据图8形成为梯度层的阻挡层可以另外被图4中所示的 Si02层覆盖,以改进所述阻挡效果。另外,例如,替代图4的实施方式中的被提供为第一层 的氧化钛,另一个优选的具有大于2的折射率的高折射率氧化物可用于实现颜色调整。
[0076] 附图标记列表
[0077] 1 玻璃陶瓷烹饪板
[0078] 2 玻璃陶瓷材料
[0079] 3、5 1 的面
[0080] 4 装饰图案
[0081] 7 多层涂层
[0082] 9 7的第一层
[0083] 11金属层
[0084] 13 阻挡层
[0085] 14另外的阻挡层
[0086] 30在热处理之前的FeO含量
[0087] 31在热处理之后的FeO含量

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