专利名称：一种清洗液及其清洗方法在工业生产中，特别是半导体工业中，很多环节需要用到过滤工艺，经过一段时间的使用，过滤器会被所过滤的液体中的颗粒堵住，这时流体在过滤器上的压力降就会增大， 流量也会减少，最后不得不更换新的过滤器。这些过滤器一般来说都是很昂贵的。如果能够把堵住滤孔的颗粒清除掉，使过滤器的通量增大，就可以延长过滤器的使用寿命。《膜分离技术手册》中介绍了过滤器膜清洗和再生工艺，可以分为物理的和化学的两种方法。物理方法是主要是利用流体，进行正向，反向，或侧向的冲洗，还可以利用间歇的压力脉冲，超声波或者气液交换可以增强清洗效果。化学方法主要利用柠檬酸，螯合剂，表面活性剂的混合液来清洗过滤器。CN101439251A及CN101274185设计出两种不同的装置，利用不同压力，不同流速流体的冲击来清洗过滤器。这种装置固然可以提高黏附在过滤器过滤薄膜上的颗粒清洗效率，但是对于堵住滤孔的颗粒的清洗效果不明显。而过滤器的通量主要是由通畅的滤孔决定的。CN1013^451A提出了一种利用柠檬酸，盐酸，磺酸，烷基酚聚氧乙烯醚和水的过滤器清洗配方。这个配方的清洗液主要用在油田油水分离的过滤器的清洗上的。酸性的清洗液难以清除微小滤孔中的有机物。
本发明要解决的技术问题是针对工业生产上过滤器的堵塞问题，而提供一种可延长过滤器使用寿命的清洗液及清洗方法。本发明为解决上述技术问题所采用的技术方案是一种清洗液，包含碱，有机溶剂，表面活性剂。在本发明中，碱主要包括氢氧化钠，氢氧化钾，四甲基氢氧化铵等。在本发明中，碱的含量为0. 1 3wt%。在本发明中，有机溶剂为砜或亚砜，吡咯烷酮，酰胺等，优选地，亚砜为二甲基亚砜；砜为环丁砜；吡咯烷酮为N-甲基吡咯烷酮(NMP)、N-乙基吡咯烷酮、N-羟乙基吡咯烷酮和/或N-环己基吡咯烷酮；酰胺为二甲基甲酰胺(DMSO)和/或二甲基乙酰胺(DMF)。在本发明中，有机溶剂的含量在90 99wt %。在本发明中，表面活性剂可以选用可以降低表面张力，增加液体对微小尺寸孔洞的润湿能力的表面活性剂。本发明中优选的表面活性剂为烷基磺酸盐。本发明的清洗液的清洗方法步骤为先利用去离子水冲洗过滤器过滤膜的侧面， 排干循环管路中的去离子水后。利用清洗液循环一段时间后，静置浸泡，重复上述过程，直到过滤器中淤塞和滤孔中颗粒被溶解和冲刷干净。最后用去离子水把过滤器中残存的清洗液冲洗干净。本发明中，清洗后判定过滤器是否清洗干净综合使用目测过滤器颜色，过滤器压力差检测，PH变化标定和HPLC杂质检验的方法。过滤器堵塞以后，呈现黑色，清洗干净以后会变白色，根据过滤器颜色的变化就可以粗略的判定是否清洗干净。清洗干净以后，过滤器的通量增大，在相同流量下，压力差会增大。通过检测过滤器进口处和出口处的去离子水的PH的差别可以判定过滤器的中的清洗液是否被清洗干净，清洗液是强碱性的，一般说来 PH的差别在1. 5以内，可以认为清洗干净了。最后还可以利用液相色谱来检测去离子水中杂质的含量。本发明所用试剂及原料均市售可得。本发明中，所述的清洗液由上面所述组分混合即可制得。本发明的积极效果在于延长了过滤器的使用寿命；提高了经济效益。 图1为实施例1清洗后的过滤器压力降-流速关系图；图2为实施例1清洗后过滤器入口端去离子水的HPLC谱图；图3为实施例1清洗后过滤器出口端去离子水-HPLC谱图。

本发明揭示一种清洗液及其清洗方法。本发明制造出一种清洗液，该清洗液包括碱，有机溶剂，表面活性剂。这种清洗液可以再生工业生产过程或日常生活被堵塞的过滤器，并且提出了其清洗的方法和流程。