专利名称:取代的4-苯甲酰基-3,5-二氧代四氢吡喃和4-苯甲酰基-3,5-二氧代四氢噻喃的制作方法已经转让日本纯碱厂(Nippon Soda)的日本专利No.85/024793中论及某些氧杂环己烯衍生物,这些化合物是具有如下结构式的中间体 其中R是低级烷基,R是氢或低级烷基及R是低级烷基。本发明是关于某些被取代的4-苯甲酰基-3,5-二氧四氢呋喃和4-苯甲酰基-3,5-噻喃及它们作为除草剂的应用。本发明的实施方案之一是包含一种加以除草活性的4-苯甲酰基-3,5-二氧四氢呋喃和4-苯甲酰基-3,5-噻喃及其所用惰性载体的除草组合物。二酮环的位置2和位置6最好能被下文所述的基团所取代。最好二酮环没有取代基,或是在2位或6位置被1个或2个甲基基团所取代。苯甲酰基的这一部分最好能用下述基团取代。在本发明范围内尚包括具有如下结构式的新型化合物 其中X是氧、硫或硫酰(SO2);R是囟素;C1-C2烷基,最好是甲基;C1-C2烷氧基,最好是甲氧基;硝基;氰基;C1-C2囟代烷基,最好是三氟甲基;或RaSOm-,其中m是0或2,最好是2,而Ra是C1-C2烷基,最好是甲基。最好,R是氯,溴,C1-C2烷基,C1-C2烷氧基,三氟甲基,氰基、硝基,C1-C2硫代烷基或C1-C2烷基硫酰;最佳是氯,硝基,甲基,三氟甲基或甲基磺酰;而R1是氢或C1-C4烷基,C1-C2烷基较好,以甲基为佳;R1是氢或甲基最佳;R2是氢或C1-C4烷基,C1-C2烷基较佳,以甲基更佳;R2是氢或甲基最佳;或R1和R2都是有2至5个碳原子的亚烷基;R3是氢或C1-C4烷基,C1-C2烷基较好,甲基更好;R3是氢或甲基最好。R4是氢或C1-C4烷基,C1-C2烷基较好,甲基更好;R4是氢或甲基最好;或R3和R4都是有2个至5个碳原子的亚烷基;
R5和R6可以分别是(1)氢;(2)囟素,最好是氯,氟或溴;(3)C1-C4烷基,最好是甲基;(4)C1-C4烷氧基,最好是甲氧基;(5)三氟甲氧基;(6)氰基;(7)硝基;(8)C1-C4囟代烷基,三氟甲基更佳;(9)RbSOn-,其中n是整数0,1或2,最好是2;而Rb是(a)C1-C4烷基,最好是甲基;
(b)用囟素或氰基取代的C1-C4烷基,最好是氯代甲基,三氟甲基或氰甲基;
(c)苯基;或(d)苄基;
(10)-NRcRd其中Rc和Rd可分别是氢或C1-C4烷基;
(11)ReC(O)-其中Re是C1-C4烷基或C1-C4烷氧基;
(12)-SO2NRcRd其中Rc和Rd如上所规定;或(13)-N(Rc)C(O)Rd其中Re和Rd如上所规定。
R5在位置3较好。R5是氢更好。R6在位置4较好,最好R6是氢、囟素、氰基、三氟甲基或RbSO2其中Rb是C1-C4烷基,最好是甲基或C1-C4囟代烷基,最好是氯代甲基,二氟甲基或三氟甲基。
“C1-C4烷基”这个名词包括甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基和叔丁基。“囟素”这个名词包括氯、溴、碘和氟。“C1-C4烷氧基”这个名词包括甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、异丁氧基和叔丁氧基。“C1-C4囟代烷基”这个名词包括上述在C1-C4烷基中的1个或多个氢被氯、溴、碘或氟所取代的烷基基团。
本发明所述的化合物,由于其存在互变现象,因此具有下列四种结构式式中X,R、R1、R2、R3、R4、R5和R6如上所规定。
四种互变体中的每个园圈里的质子是相当不稳定的。这些质子是酸性的,可以通过与碱反应生成盐的方法除去。这种盐具有如下四种共振形式的阴离子
式中X,R、R1、R2、R3、R4、R5和R6如上所述。
这些碱的阳离子是一些象碱金属离子那样的无机阳离子,例如锂离子,钠离子,钾离子;象碱土金属类,例如钙和镁或铵;或者是有机阳离子,例如被取代的铵、锍、氧化锍或鏻,其中取代基是脂肪族基或芳香族基。
本
分子式为 的化合物,其中各基团按说明中所定义。
取代的4-苯甲酰基-3,5-二氧代四氢吡喃和4-苯甲酰基-3,5-二氧代四氢噻喃制作方法
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