专利名称：无碱玻璃及平板显示面板的制作方法以往，对于各种显示器用基板玻璃、特别是在表面上形成有金属或氧化物薄膜等的基板玻璃，要求以下所示的特性。(1)若含有碱金属氧化物，则碱金属离子会向薄膜中扩散，从而使膜特性变差，所以实质上不含有碱金属离子。(2)由于在薄膜形成工序中要经受高温，所以为了将玻璃的变形及伴随玻璃的结构稳定化而产生的收缩(热收缩)抑制到最小限度，具有高的应变点。(3)对形成半导体所使用的各种化学品具有充分的化学耐久性。特别是对于用于蚀刻SiOx和SiNx的缓冲氢氟酸(BHF，氢氟酸和氟化铵的混合液)、用于蚀刻ITO的含有盐酸的药液、用于蚀刻金属电极的各种酸(硝酸、硫酸等)、碱性的抗蚀剂剥离液具有耐久性。(4)内部及表面没有缺陷(气泡、波筋、夹杂物、麻点、伤痕等)。近年来，除上述要求之外，还出现了以下的情况。(5)要求显示器的轻量化，因而玻璃本身也要求密度小的玻璃。(6)要求显示器的轻量化，因而要求基板玻璃的薄板化。(7)除了以往的非晶硅(a-Si)型液晶显示器之外，也开始制作热处理温度稍高的多晶硅(P-Si)型液晶显示器(a-Si 约350°C— p-Si :350 550°C )。(8)为了提高制作液晶显示器的热处理的升降温速度从而提高生产率，或者为了提高耐热冲击性，要求玻璃的热膨胀系数小的玻璃。另一方面，随着蚀刻干性化的发展，对耐BHF性的要求开始减弱。以往的玻璃为了获得优良的耐BHF性，多使用含有化036 10摩尔％的玻璃。但是，B2O3有降低应变点的倾向。不含有化03或B2O3含量少的无碱玻璃的示例如下所示。在日本特开昭62-113735中，公开了一种不含有化03的SiO2-Al2O3-SrO玻璃，但是由于含有77摩尔％以上的SiO2,因而熔化所需的温度高，制造中产生困难。在日本特开昭62-100450中，公开了一种不含有化03的SiO2-Al2O3-SrO晶体玻璃， 但是由于含有68摩尔％以上的SiO2,并且含有18摩尔％以上的Al2O3，因而熔化所需要的温度高，在制造中产生困难。在日本特开昭63-176332中，公开了一种含有化030 5重量％的玻璃，但是由于含有11摩尔％以上的CaO，因而失透温度高，此外，作为CaO原料的石灰石中含有较多的杂质磷，从而在玻璃基板上制作的晶体管中可能产生泄漏电流。在日本特开平4-32M35中，公开了一种含有化030 3重量％的玻璃，但是由于分别含有8摩尔％以上的SrO和CaO，因而在50 300°C下的热膨胀系数超过40X 10_7°C。在日本特开平5-23M58中，公开了一种含有化030 5摩尔％的玻璃，但是由于含3有15摩尔％以上的SrO，因而在50 300°C下的热膨胀系数超过50X 10_7°C。在美国专利第53沈730号说明书中，公开了一种含有化030 5摩尔％的玻璃，但是由于含有12摩尔％以上的BaO，因而热膨胀大，密度也大。在日本特开平8-109037中，公开了一种含有化030 8摩尔％的玻璃，并且将其分为“含有Si025 5 67重量％、且含有Al2036 14重量％的玻璃”(a组)和“含有Si0249 58重量％、且含有Al20316 23重量％的玻璃”(b组)，但是，a群由于SW2的含量多，因而存在作为S^2原料的硅砂未完全熔化于熔融液中、从而作为未熔硅砂而残留的问题；b群由于Al2O3的含量多，因而存在失透温度显著增高的问题。
本发明的目的在于提供解决上述缺点、应变点高、膨胀小、能够进行浮法成形的无碱玻璃。本发明为一种无碱玻璃，其应变点为700°C以上，50 300°C下的热膨胀系数为 40X10_7°C以下，以氧化物基准的摩尔％表示，实质上包含=SiO2 66 72、A1203 :10 14、 B2O3 :0 1、MgO 0 10、CaO 0 10、SrO 0 10、BaO :0 小于 1、MgO+CaO+SrO+BaO 14 22，且实质上不含有碱金属氧化物。发明效果本发明的无碱玻璃，应变点高，且能够通过浮法进行成形，适合于显示器用基板、 光掩模用基板等用途。 表 本发明提供应变点高、且能够通过浮法进行成形的无碱玻璃及平板显示面板。所述无碱玻璃的应变点为700℃以上，50～300℃下的热膨胀系数为40×10-7/℃以下，以摩尔％表示，包含SiO266～72、Al2O310～14、B2O30～1.5、MgO0～10、CaO0～10、SrO0～10、BaO0～小于1、MgO+CaO+SrO+BaO14～22。