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具有凸起颗粒效果的瓷砖及其制备方法

  • 专利名称
    具有凸起颗粒效果的瓷砖及其制备方法
  • 发明者
    谢志军, 李惠文, 李国平, 梁超成, 朱敬贤
  • 公开日
    2014年9月3日
  • 申请日期
    2014年6月3日
  • 优先权日
    2014年6月3日
  • 申请人
    广东蒙娜丽莎新型材料集团有限公司
  • 文档编号
    C04B41/89GK104016728SQ201410243309
  • 关键字
  • 权利要求
    1.一种通过淋干粒制备具有凸起颗粒效果的瓷砖的方法,其特征在于,所述方法包括 在坯体上施加具有规定配方的面釉,所述面釉开始烧成的温度为1120°c以上,按重量计,所述面釉中SiO2的含量为57%以上,Al2O3的含量为22%以上;以及 通过直线淋釉器将干粒釉浆施于已施好面釉的坯体上,所述干粒釉浆的比重为1.27 ~1.38g/mL2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,按重量计,所述面釉中碱土金属氧化物和/或碱金属氧化的含量为7.8wt%以下3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,按重量计,所述面釉主要组成包括57 ~62%Si02、22 ~25% Α1203、0.I ~0.5% CaO,0.2 ~0.4% MgO,3.5 ~4.2% K2O 和 2.3 ~2.7% Na204.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其特征在于,所述干粒釉浆包括30~35wt%干粒,所述干粒的粒度为60~200目,优选150~200目5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其特征在于,所述干粒以高温熔块为原料,所述高温熔块由以下重量配比的组分组成50~55%Si02、20~24%A1203、0.2~0.5%Fe203、0.5 ~1.2% CaO,0.4 ~0.7% MgO,2.0 ~2.8% K20,2.9 ~3.8% Na2O06.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其特征在于,所述干粒釉浆的分散悬浮载体为流速为24~30秒的印油7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述干粒釉浆包括2~5%的固定剂8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其特征在于,所述干粒釉浆的流速为30~40秒ο9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括将已施好干粒釉浆的坯体进行烧成,烧成程序为最高烧成温度为1135~1145°C,烧成周期为68~75分钟10.一种权利要求1至9中任一项所述的方法制备的具有凸起颗粒效果的瓷砖,其特征在于,所述瓷砖的凸起颗粒的润湿角为65度以上
  • 技术领域
    [0001]本发明涉及瓷砖生产制造
  • 专利摘要
    本发明涉及一种具有凸起颗粒效果的瓷砖及其制备方法,所述方法包括在坯体上施加具有规定配方的面釉,所述面釉开始烧成的温度为1120℃以上,按重量计,所述面釉中SiO2的含量为57%以上,Al2O3的含量为22%以上;以及通过直线淋釉器将干粒釉浆施于已施好面釉的坯体上,所述干粒釉浆的比重为1.27~1.38g/mL。
  • 发明内容
  • 专利说明
    具有凸起颗粒效果的瓷砖及其制备方法
  • 专利详情
  • 全文pdf
  • 权力要求
  • 说明书
  • 法律状态
具有凸起颗粒效果的瓷砖及其制备方法【技术领域】,尤其涉及一种采用直线淋釉器淋干粒的方式来产生凸起效果的瓷砖的制备技术。[0002]瓷砖的表面的立体效果及耐磨防滑性能越来越引起了社会的广泛关注,制备具有凸起颗粒效果的瓷砖是目前瓷砖制备的热点之一。[0003]目前制备具有凸起颗粒效果的瓷砖通常有三种方法:1)使用凹凸模具;2)在砖坯表面甩点或打点;以及3)在砖坯表面施加干粒。对于方法I),在生产平面产品和凹凸产品转换时,需要更换生产 线上模具,影响生产进度,而且该方法需要配备多种凹凸模具,成本高。对于方法2),通过普通甩点或者丝网印花产生的点往往效果不佳。对于方法3),目前常用通过干粒撒施法再配以固定液完成,这种方法形成的干粒图案色彩单一,立体效果差,且布料不均,易产生表面缺陷。[0004]此外,本发明人也注意到将干粒施加在砖坯表面后进行烧成,高温烧成中往往会出现面釉熔融、塌陷等导致干粒熔入面釉中最终干粒凸起效果不佳。
[0005]面对现有技术存在的问题,本发明人通过采用直线淋釉器淋干粒,并且选用具有规定配方的面釉,以使干粒烧成后不会被熔平而仍保持较好的凸起效果。[0006]本发明提供一种通过淋干粒制备具有凸起颗粒效果的瓷砖的方法,所述方法包括:在坯体上施加具有规定配方的面釉,所述面釉开始烧成的温度为1120°C以上,按重量计,所述面釉中SiO2的含量为57%以上,Al2O3的含量为22%以上;以及通过直线淋釉器将干粒釉浆施于已施好面釉的坯体上,所述干粒釉浆的比重为1.27~1.38g/mL。
[0007]本发明中,采用具有规定配方的面釉(SiO2的含量为57%以上,Al2O3的含量为22%以上),其具有较高的烧成温度(开始烧成的温度为1120°C以上),在后续烧成中不会出现面釉熔融、塌陷等情况,从而保证干粒烧成后不会被熔平;而且规定配方的面釉适合喷墨墨水发色,制得瓷砖色彩和图案丰富。此外,通过直线淋釉器将比重为1.27~1.38g/mL的干粒釉浆施于已施好面釉的坯体上,可在产品表面形成薄薄的一层均匀干粒,经过高温烧成后干粒自动聚积均匀的半球状透明颗粒,相对于普通甩点或者丝网印花产生的点,具有更好的均匀性和更大的润湿角度。
[0008]较佳地,面釉中碱土金属氧化物和/或碱金属氧化的含量为7.8wt%以下。采用该配方的面釉的烧成温度高,且适合喷墨墨水发色。
[0009]作为优选的示例,面釉可包括57~62%Si02、22~25wt%Al203、0.1~0.5% CaO,
0.2 ~0.4% MgO,3.5 ~4.2% K2O 和 2.3 ~2.7wt% Na2O0
[0010]较佳地,干粒釉浆可包括30~35wt%干粒,干粒的粒度可为60~200目,优选150~200目。干粒细度太粗则会容易在浆料沉淀使淋釉不均,细度太细则烧成后聚集成的颗粒感不强。用这种细度和配比的干粒经过高温烧成后能在产品表面形成分布均匀、大小一致的凸起颗粒,在灯光下看显现出柔和的珍珠般光泽,颗粒的形状接近半球型,润湿角度可达70度,用手触摸非常自然舒适。
[0011]本发明中,干粒可以高温熔块为原料,所述高温熔块由以下重量配比的组分组成:50 ~55% SiO2,20 ~24% Α1203、0.2 ~0.5 % Fe203、0.5 ~1.2% CaO,0.4 ~0.7 % MgO,
2.0~2.8% K20,2.9~3.8% Na2O0本发明可以高温熔块为原料,经过破碎和过筛即可制得可用的干粒,来源丰富,制备简单。
[0012]较佳地,干粒釉浆的分散悬浮载体可为流速为24~30秒的印油。使用了流速为24~30秒的印油作为分散悬浮载体,再按上述的比例配成干粒釉浆后,釉浆的流动性好并且粘度大,干粒粒子不容易沉淀,具备可淋釉的性能,适合采用直线淋釉器来施干粒。如果印油的流速太小则悬浮效果不足,干粒就容易沉淀,导致施于砖面的粒子随着时间的推移越来越少,最终影响砖面颗粒效果;而印油的流速太大则会使干粒粒子产生团聚而难于分散,烧成后颗粒成团熔融、颗粒感差,光泽不均衡。
[0013]较佳地,干粒釉浆可包括2~5%固定剂。加入一定比例的固定剂能增强干粒与面釉之间的粘结,在烧成的过程中不易被窑炉抽风抽走。
[0014]较佳地,干粒釉浆的流速为30~40秒。 [0015]本发明的方法还可包括:将已施好干粒釉浆的坯体进行烧成,烧成程序为:最高烧成温度为1135~1145°C,烧成周期为68~75分钟。
[0016]本发明还提供一种上述方法制备的具有凸起颗粒效果的瓷砖,其中所述瓷砖的凸起颗粒的润湿角为65度以上。本发明的提供的瓷砖,具有明显的凸起颗粒效果,具有仿立体石材的效果,且具有耐磨防滑的性能。



[0017]图1示出通过普通打点形成的具有凸起颗粒的表面的60倍放大图;
图2示出本发明通过淋干粒制备具有凸起颗粒效果的表面的60倍放大图。

[0018]参照附图和下述实施方式进一步说明本发明,应理解,附图和下述实施方式仅用于说明本发明,而非限制本发明。
[0019]本发明提供一种通过淋干粒制备具有凸起颗粒效果的瓷砖的方法。对此,本发明人设计一种适合喷墨墨水发色且烧成温度比较高的面釉,以确保让干粒烧成后不会熔平;而且本发明人通过调整的干粒的颗粒级和干粒釉浆的粘度,以能够采用直线淋釉器来施干粒,并且烧成后干粒能在面釉上自动聚集成很均匀的半球状颗粒。
[0020]面釉的配方
由于干粒粒子烧成后为透明状颗粒,为了确保干粒在面釉上不会被熔平,需要采用具有合适的配方和烧成温度(开始烧结的温度为1120°C以上)的面釉,同时面釉的选择还要兼顾喷墨墨水的发色情况。基于这些方面的问题,本发明人在面釉配方结构的调整中主要增加了硅(Si)、铝(Al)的含量,即、按重量计,所述面釉中SiO2的含量为57%以上,Al2O3的含量为22%以上;而减少了碱金属和碱土金属,例如钙(Ca)、镁(Mg)、钠(Na)等元素的含量,即、所述面釉中碱土金属氧化物和/或碱金属氧化的含量为7.Swt %以下。作为优选的示例,面釉配方的主要成分配比如可为57~62% SiO2,22~25wt% Α1203、0.I~0.5%CaO,0.2~0.4% MgO,3.5~4.2% K2O和2.3~2.7wt% Na2O0采用该配方体系的面釉烧成温度高,高温粘度大,可以让粒子烧成后在表面最大程度的产生立体堆积。
[0021]干粒粒子的选择
本发明的产品表面显现均匀的半球状透明颗粒,因此干粒粒子的配方不但要求烧成后透明度要好,而且高温粘度也要大。我们选择了高温熔块作为干粒原料,将熔块破碎过筛,分选出60~100目、100~150目、150~200目三种颗粒级配的粒子来进行不同比例的对比试验,最终确定了干粒细度为150~200目、在浆料中的比例为30%~35%时的砖面效果是最佳方案,干粒细度太粗则会容易在浆料沉淀使淋釉不均,细度太细则烧成后聚集成的颗粒感不强。高温熔块的配方的主要成分的配比可为50~55% SiO2,20~24% A1203、
0.2 ~0.5% Fe203、0.5 ~1.2% CaO,0.4 ~0.7% MgO,2.0 ~2.8% K20,2.9 ~3.8% Na2O0应理解,本发明可采用上述高温熔块制备的干粒,也可附加地采用有色干粒来丰富瓷砖的色彩和图案。有色干粒可由上述高温熔块制备的干粒适当添加着色剂制成,着色剂包括但不限于氧化铜、氧化铈。用这种细度和配比的干粒经过高温烧成后能在产品表面形成分布均匀、大小一致的凸起颗粒,在灯光下看显现出柔和的珍珠般光泽,颗粒的形状接近半球型,润湿角度可达70度,用手触摸非常自然舒适。参见图1及图2,其分别示出普通打点产生的表面60倍放大图与干粒淋釉产生的表面60倍放大图,由图可见,干粒淋釉产生的颗粒不但轮廓规则清晰,润湿角度也要比普通打点釉颗粒的要大很多,垂直凸起得更高。
[0022]干粒釉浆的配方
由于干粒粒子是细 小的固体颗粒,如何保证直线淋釉器稳定地淋釉是该技术在生产运用过程中的关键工序,其中干粒的分散悬浮载体的研究则是该发明中的难点,需要综合解决干粒的悬浮性、干粒与砖面的粘结性以及釉浆的流动性三方面的性能。经反复试验,干粒的分散悬浮载体选用流动性好、粘度适中的特殊印油为主,再配入少量的固定剂来起固定干粒的作用,载体流速控制在28~35秒之间,干粒釉浆中干粒的比例优选为30%~35%,配成干粒釉浆后比重约1.27~1.38,优选1.30~1.36,流速为30~40秒,优选30~38秒。本发明采用流速为24~30秒的印油。如果印油的流速太小则悬浮效果不足,干粒就容易沉淀,导致施于砖面的粒子随着时间的推移越来越少,最终影响砖面颗粒效果;而印油的流速太大则会使干粒粒子产生团聚而难于分散,烧成后颗粒成团熔融、颗粒感差,光泽不均衡。加入一定比例(2~5%)的固定剂能增强干粒与面釉之间的粘结,在烧成的过程中不易被窑炉抽风抽走。固定剂可采用釉用胶水等。此外,在生产过程中还要严格控制浆料流速的稳定,加强对釉浆的搅拌,优选地,可选用搅拌效果较好的釉缸以防止干粒沉淀,确保淋釉工序的稳定和保证产品的表面颗粒效果。
[0023]制备工艺
坯体的制备:本发明可选用常规的瓷砖坯体,坯体的成型也可采用常用的压制成型。所用坯体的烧结收缩率可为8.8~9.2,坯体的烧成温度可为1135~1145°C ;
在坯体上施加上述配方的面釉,面釉的厚度可为0.1~0.2mm,面釉开始烧结的温度为1120°C 以上;
通过直线淋釉器将上述配方的干粒釉浆施加在施好面釉的坯体上,干粒釉浆比重为1.27~1.38,流速控制在30~40秒之间;
烧成:将施有干粒釉浆的坯体按下述烧成程序进行烧成就可获得具有凸起颗粒效果的瓷砖。
烧成程序可为:最高烧成温度为1135~1145°C,烧成周期为68~75分钟。
[0024]本发明相对现有技术具有如下优点:
1)面釉配方适合喷墨墨水发色,色彩丰富;
2)面釉烧成温度高,干粒烧成后不会熔平,烧成后在面釉上自动聚集成很均匀的半球状颗粒,凸起效果明显;
3)使用了具有特定流速的印油与固定剂作为分散悬浮载体,按一定的比例配成干粒釉浆后,釉浆的流动性好并且粘度大,干粒粒子不容易沉淀,从而采用直线淋釉器来施干粒;
4)采用直线淋釉器来施干粒一方面可在产品表面形成薄薄的一层均匀干粒,另一方面可以形成丰富的图案,且干粒凸起效果明显。
[0025]以下进一步列举出一些示例性的实施例以更好地说明本发明。应理解,本发明详述的上述实施方式,及以下实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围,本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。另外,下述工艺参数中的具体配比、时间等也仅是示例性,本领域技术人员可以在上述限定的范围内选择合适的值。
[0026]实施例1
1)在坯体上施加面釉,面釉的厚度可为0.1~0.2mm,所施面釉的主要组成如表1所
述:
表 I

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